TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025125222
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-08-27
出願番号
2024021144
出願日
2024-02-15
発明の名称
光電変換装置及びその製造方法
出願人
キヤノン株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
H10F
39/18 20250101AFI20250820BHJP()
要約
【課題】半導体基板を貫いて電極パッドに達するパッド開口や半導体基板を貫いて配線に接続される貫通電極を有する光電変換装置及びその製造方法において、半導体基板を裏面の側から貫く開口部を形成するプロセスを容易にするための技術を提供する。
【解決手段】光電変換装置の製造方法は、第1基板に光電変換部を形成する工程と、第1基板の第1面の側に第1配線を形成する工程と、光電変換部の受光面となる第1基板の第2面の上にピニング層を形成する工程と、ピニング層に第1開口部を形成する工程と、ピニング層の上及び第1開口部の中に絶縁層を形成する工程と、平面視における第1開口部の内側の領域に、絶縁層及び第1基板を貫通して第1配線に達する第2開口部を形成する工程と、を有する。
【選択図】図3
特許請求の範囲
【請求項1】
第1基板に光電変換部を形成する工程と、
前記第1基板の第1面の側に第1配線を形成する工程と、
前記光電変換部の受光面となる前記第1基板の第2面の上にピニング層を形成する工程と、
前記ピニング層に第1開口部を形成する工程と、
前記ピニング層の上及び前記第1開口部の中に絶縁層を形成する工程と、
平面視における前記第1開口部の内側の領域に、前記絶縁層及び前記第1基板を貫通して前記第1配線に達する第2開口部を形成する工程と
を有することを特徴とする光電変換装置の製造方法。
続きを表示(約 920 文字)
【請求項2】
前記第1配線は、電極パッドであり、
前記第2開口部は、前記電極パッドに達するパッド開口部である
ことを特徴とする請求項1記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項3】
前記第2開口部の中に、前記第1基板から絶縁され、前記第1配線に電気的に接続された貫通電極を形成する工程と、
前記絶縁層の上に、前記貫通電極に電気的に接続された第2配線を形成する工程と
を更に有することを特徴とする請求項1記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項4】
前記第1基板の前記第1面の側に、第1配線構造体層を形成する工程を更に有する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項5】
前記第1配線構造体層を形成する工程は、前記第1配線を形成する工程を含む
ことを特徴とする請求項4記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項6】
前記第1基板の前記第1面の側に、第2配線構造体層を有する第2基板を貼り合わせる工程を更に有する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項7】
前記第2配線構造体層を形成する工程は、前記第1配線を形成する工程を含む
ことを特徴とする請求項6記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項8】
前記第1基板に分離構造体を形成する工程を更に有し、
前記分離構造体は、平面視において前記第1開口部を囲むように配置される
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項9】
前記分離構造体は、平面視において前記第2開口部を囲むように配置される
ことを特徴とする請求項8記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項10】
前記分離構造体は、平面視における前記第2開口部の内側に配置される
ことを特徴とする請求項8記載の光電変換装置の製造方法。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、光電変換装置及びその製造方法に関する。
続きを表示(約 2,300 文字)
【背景技術】
【0002】
固体撮像装置などの光電変換装置では、入射光に対する光電変換効率や感度の向上を図るために、半導体基板の表面側に駆動回路を形成し裏面側を受光面とする、いわゆる裏面照射型の構造が提案されている。また、光電変換部が設けられた半導体基板とは別に駆動回路を形成した回路基板を用意し、半導体基板の受光面とは反対側の面に回路基板を貼り合わせた積層型の光電変換装置も提案されている。これらの光電変換装置では、光電変換部が設けられた半導体基板を貫通し、半導体基板の表面側に設けられた電極パッドや回路基板の配線に達する開口部が設けられることがある。特許文献1には、受光面の側から半導体基板を貫いて電極パッドに達するパッド開口や、受光面の側から半導体基板を貫いて配線に接続される貫通電極を有する固体撮像装置及びその製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2013-084763号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかしながら、上記従来の固体撮像装置及びその製造方法では、半導体基板を貫く開口部を形成する際のプロセスに起因して不具合が生じることがあった。
【0005】
本発明の目的は、半導体基板を貫いて電極パッドに達するパッド開口や半導体基板を貫いて配線に接続される貫通電極を有する光電変換装置において、半導体基板を貫く開口部を形成するプロセスを容易にするための技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本明細書の一開示によれば、第1基板に光電変換部を形成する工程と、前記第1基板の第1面の側に第1配線を形成する工程と、前記光電変換部の受光面となる前記第1基板の第2面の上にピニング層を形成する工程と、前記ピニング層に第1開口部を形成する工程と、前記ピニング層の上及び前記第1開口部の中に絶縁層を形成する工程と、平面視における前記第1開口部の内側の領域に、前記絶縁層及び前記第1基板を貫通して前記第1配線に達する第2開口部を形成する工程とを有する光電変換装置の製造方法が提供される。
【0007】
また、本明細書の他の一開示によれば、第1面及び第2面を有し、前記第2面を受光面とする光電変換部が設けられた第1基板と、前記第1基板の前記第1面の側に設けられた第1配線と、前記第1基板の前記第2面の上に設けられ、第1開口部を有するピニング層と、前記ピニング層の上及び前記第1開口部の中に設けられた絶縁層と、平面視における前記第1開口部の内側の領域に設けられ、前記絶縁層及び前記第1基板を貫通して前記第1配線に達する第2開口部とを有する光電変換装置が提供される。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、半導体基板を貫いて電極パッドに達するパッド開口や半導体基板を貫いて配線に接続される貫通電極を有する光電変換装置及びその製造方法において、半導体基板を裏面の側から貫く開口部を形成するプロセスを容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
第1実施形態による光電変換装置の概略構成を示すブロック図である。
第1実施形態による光電変換装置の構成例を示す模式図である。
第1実施形態による光電変換装置の構造を示す概略断面図である。
第1実施形態による光電変換装置のパッド開口部の周辺の平面図である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その1)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その2)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その3)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その4)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その5)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その6)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その7)である。
第1実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その8)である。
第2実施形態による光電変換装置の構造を示す概略断面図である。
第2実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その1)である。
第2実施形態による光電変換装置の製造方法を示す工程断面図(その2)である。
第3実施形態による光電変換装置の構造を示す概略断面図である。
第3実施形態による光電変換装置のパッド開口部の周辺の平面図である。
第4実施形態による光電変換システムの概略構成を示すブロック図である。
第5実施形態による光電変換システム及び移動体の構成例を示す図である。
第6実施形態による機器の概略構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態による光電変換装置について、図1乃至図4を用いて説明する。図1は、本実施形態による光電変換装置の概略構成を示すブロック図である。図2は、本実施形態による光電変換装置の構成例を示す斜視図である。図3は、本実施形態による光電変換装置の構造を示す概略断面図である。図4は、本実施形態による光電変換装置のパッド開口部の周辺の平面図である。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
キヤノン株式会社
移動体
18日前
キヤノン株式会社
トナー
1か月前
キヤノン株式会社
トナー
1か月前
キヤノン株式会社
光学機器
12日前
キヤノン株式会社
発光装置
17日前
キヤノン株式会社
電子機器
10日前
キヤノン株式会社
電子機器
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
19日前
キヤノン株式会社
発光装置
12日前
キヤノン株式会社
撮像装置
10日前
キヤノン株式会社
撮像装置
4日前
キヤノン株式会社
電源装置
1か月前
キヤノン株式会社
撮像装置
1か月前
キヤノン株式会社
記録装置
19日前
キヤノン株式会社
撮像装置
5日前
キヤノン株式会社
現像装置
28日前
キヤノン株式会社
通信端末
1か月前
キヤノン株式会社
容器構造体
4日前
キヤノン株式会社
レンズ装置
1か月前
キヤノン株式会社
プログラム
1か月前
キヤノン株式会社
乳酸センサ
24日前
キヤノン株式会社
容器構造体
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
6日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
撮像システム
1か月前
キヤノン株式会社
光電変換装置
4日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
25日前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
電子写真装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
1か月前
キヤノン株式会社
画像形成装置
25日前
続きを見る
他の特許を見る