特許ウォッチ

公開番号2025116544
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-08
出願番号2024011030
出願日2024-01-29
発明の名称ガス供給装置及び流体制御装置
出願人株式会社フジキン
代理人弁理士法人KEN知財総合事務所
主分類H01L 21/205 20060101AFI20250801BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】複数のガスボックスを用いてガスを供給する流体制御装置において、ガス供給容量の維持と、配管スペースの省スペース化と、ガスボックス間の部品の共通化が可能なガスボックスを提供する。
【解決手段】
ベース部材(10)と、ガスを制御する流体機器30と、ベース部材の前方に設けられた上流側継手からベース部材の後方に設けられた下流側継手へベース部材内を通過するように配置されるn本の通過配管(nは1以上の整数)41～43と、を有するガスボックス1であって、第1～第nの通過配管41～43が屈曲した経路を有し、前方視において、導入継手20と第1の通過配管の下流側継手41bを一致する位置に設け、第1～第n-1の通過配管41～42の上流側継手41a～42aと第2～第nの通過配管42～43の下流側継手42b～43bを、それぞれ一致する位置に設けた。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
配管及び流体機器を配備するベース部材と、
前記ベース部材内に配置され、導入された前記ガスを制御する流体機器と、
前記ベース部材の前方に設けられ、前記流体機器と接続される導入配管の端部に形成した導入継手と、
それぞれ前記ベース部材の前方に設けられた上流側継手から前記ベース部材の後方に設けられた下流側継手へ前記ベース部材内を通過するように配置されるｎ本の通過配管（ｎは１以上の整数）と、
を有するガス供給装置であって、
前記ｎ本の通過配管は平面視で屈曲した経路を有し、
前方視において、前記導入継手と前記ｎ本の通過配管のうちの第1の通過配管の下流側継手とは、一致する位置に設けられ、ｎ≧２のとき、第１～第ｎ－1の通過配管の上流側継手と第２～第ｎの通過配管の下流側継手は、それぞれ一致する位置に設けられている、ガス供給装置。
続きを表示（約 390 文字）【請求項２】
前記導入継手と第１～第ｎの通過配管の上流側継手は、前方視において、一直線上に等間隔で配置された、請求項１に記載のガス供給装置。
【請求項３】
それぞれ請求項１に記載のガス供給装置であり、上流側から配置されたｍ個のガス供給装置（ｍは２以上の整数）を含むとともに、第ｉの前記ガス供給装置（ｉは１からｍ－１の整数）の第１～第ｎの通過配管のうちの第1の通貨配管の下流側継手に、第ｉ＋１の前記ガス供給装置の前記導入継手を接続し、ｎ≧２のとき、第ｉの前記ガス供給装置の第２～第ｎの通過配管に、第ｉ＋１の前記ガス供給装置の第１～第ｎ－１の通過配管の上流側継手をそれぞれ接続するｎ－１個の接続配管を含み、ｍ個のガス供給装置のうちの第１のガス供給装置の前記導入継手及び第１～第ｎの通過配管の上流側継手には、ガス供給源からの配管がそれぞれ接続される、流体制御装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置にプロセスガス等を供給するためのガス供給装置及びこのガス供給装置を複数備えた流体制御装置に関する。
続きを表示（約 2,800 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスにおいては、プロセスガスやパージガス等の複数種類のガスを処理チャンバに供給して、成膜やエッチング等の処理を行う。
このようなガスを計量して処理チャンバに供給するために、質量流量制御装置や開閉バルブ等の複数の流体機器を配置した集積化ガスラインを、例えばプロセスガスの種類ごとに設け、１つの処理チャンバが扱う複数の集積化ガスラインをガス供給装置内部に並列配置している。複数の処理チャンバを有する半導体製造装置では、例えば、処理チャンバ毎に上記ガス供給装置を設けている（特許文献1）。
【０００３】
この複数のガス供給装置にガスを供給する供給配管については、図７（ａ）に概念的に示すように、ガスのガス供給源からの供給配管５ａ～５ｄを各ガス供給装置５Ａ～５Ｄに個別に接続する方式（特許文献３）、または途中まで１本の配管で、途中から分岐して各ガス供給装置に接続する方式（特許文献１，２）が採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開2023-009666号公報
特表2021-533567号公報
特開2017-123425号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記図７（ａ）の個別配管方式では、ガス源から各ガス供給装置までの配管スペースが必要で、省スペース化が図りにくいという問題が懸念される。
この省スペースを実現するために、図７（ｂ）に概念的に示すように、縦列に配列した複数のガス供給装置６Ａ～６Ｄ内を順に通過する一本の通過配管（渡し配管）６ｓを設け、各ガス供給装置６Ａ～６Ｄ内で分岐（ワンドロップ）して、そのガス供給装置６にガスを供給する方式（渡し配管方式）が考えられる。しかし、この図７（ｂ）の方式では、１本の渡し配管６ｓを使用するので、ガスの供給容量が十分でないという問題がある。渡し配管６ｓを大径化することにより容量を増やすことが考えられるが、そうすると施工が困難であるという問題がある。
【０００６】
また、図７（ｃ）に概念的に示す、縦列に配列した複数のガス供給装置７Ａ～７Ｄ内を通過する、複数の並列の通過配管７ａ～７ｄを設け、目的のガス供給装置７にガスを供給する方式も考えられる。これにより、供給容量の確保とある程度の省スペース化とを両立できる。しかし、この方式では、ガス供給装置７Ａ～７Ｄを一方向に揃えて配置すると、上流側のガス供給装置７と、下流側のガス供給装置７の間で、そのガス供給装置７に供給する配管の接続位置が異なるため、上流側のガス供給装置７と下流側のガス供給装置７でガス供給装置７の部品の共通化ができないという問題がある。特にガス供給装置７内部の配管をヒータで加熱する仕様の場合、この方式では、ガス供給装置７によってヒータの形状も変わるため、温度調節にばらつきが出るという問題がある。
【０００７】
本発明の目的の一つは、このような問題を解決するため、複数のガス供給装置を用いてガスを供給する流体制御装置において、ガス供給容量の維持と、配管スペースの省スペース化と、ガス供給装置間の部品の共通化が可能なガスボックス及び流体制御装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のガス供給装置は、
配管及び流体機器を配備するベース部材と、
前記ベース部材内に配置され、導入された前記ガスを制御する流体機器と、
前記ベース部材の前方に設けられ、前記流体機器と接続される導入配管の端部に形成した導入継手と、
それぞれ前記ベース部材の前方に設けられた上流側継手から前記ベース部材の後方に設けられた下流側継手へ前記ベース部材内を通過するように配置されるｎ本の通過配管（ｎは１以上の整数）と、
を有するガス供給装置であって、
前記ｎ本の通過配管は平面視で屈曲した経路を有し、
前方視において、前記導入継手と前記ｎ本の通過配管のうちの第1の通過配管の下流側継手とは、一致する位置に設けられ、ｎ≧２のとき、第１～第ｎ－1の通過配管の上流側継手と第２～第ｎの通過配管の下流側継手は、それぞれ一致する位置に設けられている。
この構成によれば、同一構造のガス供給装置を上流から下流に向かって複数配列し、隣接するガス供給装置の向かい合う継手同士をストレートの配管で接続した状態で、ガス供給源からの並列配管を最上流側ガス供給装置の前面の各継手に接続することにより、手前のガス供給装置内部を通過して目的の各ガス供給装置にガスを供給することができる。これにより、ガス供給容量の維持と、配管スペースの省スペース化と、手前側のガス供給装置と奥側のガス供給装置の間で部品の共通化が可能になる。
【０００９】
前記導入継手と第１～第ｎ－１の通過配管の上流側継手は、前面視において、一直線状に等間隔でこの順に配置されていることが好ましい。
この構成によれば、導入継手及び各通過配管の上流側継手に袋状ナット締結工具がアクセスし易くなるので、その上流側配管との着脱作業が容易になる。また、各通過配管の下流側継手も前面視において、一直線状に等間隔でこの順に配置されるので、その上流側配管との着脱作業が容易になる。
【００１０】
また、本発明の流体制御装置は、それぞれ上記のガス供給装置であり、上流側から配置されたｍ個のガス供給装置（ｍは２以上の整数）を含むとともに、第ｉの前記ガス供給装置（ｉは１からｍ－１の整数）の第１～第ｎの通過配管のうちの第1の通貨配管の下流側継手に、第ｉ＋１の前記ガス供給装置の前記導入継手を接続し、ｎ≧２のとき、第ｉの前記ガス供給装置の第２～第ｎの通過配管に、第ｉ＋１の前記ガス供給装置の第１～第ｎ－１の通過配管の上流側継手をそれぞれ接続するｎ－１個の接続配管を含み、ｍ個のガス供給装置のうちの第１のガス供給装置の前記導入継手及び第１～第ｎの通過配管の上流側継手には、ガス供給源からの配管がそれぞれ接続されるものである。
この構成によれば、同一構造のガスボックスを上流から下流に向かって複数配列し、隣接するガスボックスの向かい合う継手同士をストレートの配管で接続した状態で、ガス供給源からの並列配管を最上流側ガスボックスの前面の各継手に接続することにより、手前のガスボックス内部を通過して目的の各ガスボックスにガスを供給することができる。これにより、手前側のガスボックスと奥側のガスボックスの間で部品の共通化が可能になる。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許