特許ウォッチ

公開番号2025096955
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-30
出願番号2023212982
出願日2023-12-18
発明の名称アレイ基板、表示装置及びアレイ基板の製造方法
出願人シャープディスプレイテクノロジー株式会社
代理人弁理士法人暁合同特許事務所
主分類G02F 1/1368 20060101AFI20250623BHJP(光学)
要約【課題】短絡の発生を抑制する。
【解決手段】アレイ基板21は、第1導電膜34からなる第1電極27Eと、第1導電膜34に対して下層側に配される第1絶縁膜33と、第1絶縁膜33に対して下層側に配される半導体膜32のうちの第1電極27Eとは非重畳となる部分を導体化してなる第1導体化部27Bαと、半導体膜32のうちの第1電極27Eとは非重畳で第1導体化部27Bαとは別の部分を導体化してなる第2導体化部27Bβと、半導体膜32のうちの第1電極27Eに対して重畳する部分からなる第1半導体部27Dαと、第1導電膜34のうちの第1電極27Eとは別の部分または第1絶縁膜33の一部からなり、第1導体化部27Bαと第2導体化部27Bβとの間に配される介在部38と、を備える。
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項１】
第１導電膜からなる第１電極と、
前記第１導電膜に対して下層側に配される第１絶縁膜と、
前記第１絶縁膜に対して下層側に配される半導体膜のうちの前記第１電極とは非重畳となる部分を導体化してなる第１導体化部と、
前記半導体膜のうちの前記第１電極とは非重畳で前記第１導体化部とは別の部分を導体化してなる第２導体化部と、
前記半導体膜のうちの前記第１電極に対して重畳する部分からなる第１半導体部と、
前記第１導電膜のうちの前記第１電極とは別の部分または前記第１絶縁膜の一部からなり、前記第１導体化部と前記第２導体化部との間に配される介在部と、を備えるアレイ基板。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
前記第１絶縁膜は、前記第１電極及び前記第１半導体部に対して重畳して配される第１絶縁部を有しており、
前記介在部は、前記第１絶縁膜のうちの前記第１絶縁部とは別の部分からなる請求項１記載のアレイ基板。
【請求項３】
前記半導体膜は、酸化物半導体材料からなり、
前記第１導電膜に対して上層側に配され、還元剤を含む第２絶縁膜を備え、
前記第２絶縁膜は、前記第１導体化部及び前記第２導体化部に接しており、
前記第１絶縁膜は、前記第１電極及び前記第１半導体部とは非重畳で前記第１絶縁部に連なる第２絶縁部を有しており、
前記半導体膜のうちの前記第２絶縁部に対して重畳する部分からなり、前記第１導体化部に連なっていて、前記第１導体化部よりも高抵抗な第１高抵抗部を備える請求項２記載のアレイ基板。
【請求項４】
前記介在部は、前記第１導体化部側の端部から前記第２導体化部側の端部までの距離が、前記第１高抵抗部における前記第１半導体部側の端部から前記第１導体化部側の端部までの距離よりも大きい請求項３記載のアレイ基板。
【請求項５】
前記第１導電膜からなり、第１方向に沿って延在していて前記第１電極を含む第１配線と、
前記第１絶縁膜からなり、前記第１方向に沿って延在していて前記第１配線に対して重畳し、前記第１絶縁部を含む第１線状絶縁部と、を備え、
前記第１導体化部及び前記第２導体化部は、前記第１配線及び前記第１線状絶縁部に対して交差しており、
前記介在部は、前記第１線状絶縁部に連なる請求項２から請求項４のいずれか１項に記載のアレイ基板。
【請求項６】
前記第１導電膜からなり、前記第１方向と交差する第２方向について前記第１配線に対して間隔を空けた位置に配されていて、前記第１方向に沿って延在する第２配線と、
前記第１絶縁膜からなり、前記第１方向に沿って延在していて前記第２配線に対して重畳する第２線状絶縁部と、を備え、
前記介在部は、前記第２線状絶縁部に連なる請求項５記載のアレイ基板。
【請求項７】
前記第１導電膜は、金属材料からなり、
前記介在部は、前記第１導電膜のうちの前記第１電極とは別の部分からなる請求項１記載のアレイ基板。
【請求項８】
前記第１導電膜に対して上層側に配される第２絶縁膜と、
前記第２絶縁膜に対して上層側に配される第２導電膜からなり、一部が前記第１導体化部に対して重畳する第３配線と、
前記第２導電膜のうちの前記第３配線とは別の部分からなり、一部が前記第２導体化部に対して重畳する第４配線と、を備え、
前記第２絶縁膜のうち、前記第３配線及び前記第１導体化部の双方と重畳する位置には、前記第３配線と前記第１導体化部とを接続する第１コンタクトホールが設けられ、
前記第２絶縁膜のうち、前記第４配線及び前記第２導体化部の双方と重畳する位置には、前記第４配線と前記第２導体化部とを接続する第２コンタクトホールが設けられる請求項１から請求項４，請求項７のいずれか１項に記載のアレイ基板。
【請求項９】
前記第３配線及び前記第４配線は、互いに並行しており、
前記第１導体化部は、前記第３配線及び前記第４配線に対して傾いた第１傾斜部を有し、
前記第２導体化部は、前記第１傾斜部に並行する第２傾斜部を有しており、
前記介在部は、前記第１傾斜部及び前記第２傾斜部に並行する第３傾斜部を有している請求項８記載のアレイ基板。
【請求項１０】
前記第１導体化部は、前記第１コンタクトホールのうちの前記第２導体化部側の部分とは非重畳となるよう、前記第１コンタクトホールに対して部分的に重畳して配される請求項８記載のアレイ基板。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書が開示する技術は、アレイ基板、表示装置及びアレイ基板の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、アレイ基板を備える表示装置の一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載の表示装置は、基板上の画素領域に、透明酸化物層および金属層がそのいずれかを上層として形成され、その上に絶縁膜、導電層が順次積層され、前記導電層はゲート信号線に接続される薄膜トランジスタのゲート電極を有し、前記金属層はソース信号線を構成し、前記透明酸化物層は少なくとも前記ゲート電極の直下のチャネル領域部を除いた他の領域が導電体化され、この導電体化された部分で前記ソース信号線と接続された薄膜トランジスタのソース領域部、画素電極、この画素電極に接続される前記薄膜トランジスタのドレイン領域部を構成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００８－１７５８４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記したように、特許文献１に記載の表示装置では、透明酸化物層のうちの導体化された部分によってソース領域部、画素電極及びドレイン領域部を構成している。このため、表示装置の高精細化に伴って画素の配列ピッチが狭くなると、例えば、隣り合う画素を構成する２つのソース領域部同士が、透明酸化物層をパターニングする際に生じ得る膜残りに起因して短絡するおそれがあった。
【０００５】
本明細書に記載の技術は、上記のような事情に基づいて完成されたものであって、短絡の発生を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本明細書に記載の技術に関わるアレイ基板は、第１導電膜からなる第１電極と、前記第１導電膜に対して下層側に配される第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜に対して下層側に配される半導体膜のうちの前記第１電極とは非重畳となる部分を導体化してなる第１導体化部と、前記半導体膜のうちの前記第１電極とは非重畳で前記第１導体化部とは別の部分を導体化してなる第２導体化部と、前記半導体膜のうちの前記第１電極に対して重畳する部分からなる第１半導体部と、前記第１導電膜のうちの前記第１電極とは別の部分または前記第１絶縁膜の一部からなり、前記第１導体化部と前記第２導体化部との間に配される介在部と、を備える。
【０００７】
（２）また、上記アレイ基板は、上記（１）に加え、前記第１絶縁膜は、前記第１電極及び前記第１半導体部に対して重畳して配される第１絶縁部を有しており、前記介在部は、前記第１絶縁膜のうちの前記第１絶縁部とは別の部分からなってもよい。
【０００８】
（３）また、上記アレイ基板は、上記（２）に加え、前記半導体膜は、酸化物半導体材料からなり、前記第１導電膜に対して上層側に配され、還元剤を含む第２絶縁膜を備え、前記第２絶縁膜は、前記第１導体化部及び前記第２導体化部に接しており、前記第１絶縁膜は、前記第１電極及び前記第１半導体部とは非重畳で前記第１絶縁部に連なる第２絶縁部を有しており、前記半導体膜のうちの前記第２絶縁部に対して重畳する部分からなり、前記第１導体化部に連なっていて、前記第１導体化部よりも高抵抗な第１高抵抗部を備えてもよい。
【０００９】
（４）また、上記アレイ基板は、上記（３）に加え、前記介在部は、前記第１導体化部側の端部から前記第２導体化部側の端部までの距離が、前記第１高抵抗部における前記第１半導体部側の端部から前記第１導体化部側の端部までの距離よりも大きくてもよい。
【００１０】
（５）また、上記アレイ基板は、上記（２）から上記（４）のいずれかに加え、前記第１導電膜からなり、第１方向に沿って延在していて前記第１電極を含む第１配線と、前記第１絶縁膜からなり、前記第１方向に沿って延在していて前記第１配線に対して重畳し、前記第１絶縁部を含む第１線状絶縁部と、を備え、前記第１導体化部及び前記第２導体化部は、前記第１配線及び前記第１線状絶縁部に対して交差しており、前記介在部は、前記第１線状絶縁部に連なってもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許