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公開番号2025050250
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023158943
出願日2023-09-22
発明の名称静電チャック
出願人TOTO株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250327BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】処理中における基板の面内温度分布を従来よりも均一とすることのできる静電チャック、を提供する。
【解決手段】静電チャック10は、貫通穴150が形成された誘電体基板100と、誘電体基板100に内蔵された吸着電極130と、誘電体基板100を加熱するヒーターユニット300と、を備える。吸着電極130には、上面視において貫通穴150と重なる円形の開口131が形成されており、ヒーターユニット300には、貫通穴150と重なる円形の開口302が形成されており、開口302の直径D2が、開口131の直径D1よりも大きい。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
被吸着物が載置される載置面を有し、前記載置面に対し垂直な方向に貫く貫通穴が形成された誘電体基板と、
前記誘電体基板に内蔵された吸着電極と、
前記誘電体基板を加熱するヒーターと、を備え、
前記載置面に対し垂直な方向から見た場合において、
前記吸着電極には、前記貫通穴と重なる円形の第１開口が形成されており、
前記ヒーターには、前記貫通穴と重なる円形の第２開口が形成されており、
前記第２開口の直径が、前記第１開口の直径よりも大きいことを特徴とする静電チャック。
続きを表示（約 290 文字）【請求項２】
前記誘電体基板のうち前記載置面側には、前記貫通穴を囲む円環状の突起であって、その先端面が前記載置面の一部となっているシールリングが形成されており、
前記第１開口の直径が、前記シールリングの外径よりも小さいことを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
前記誘電体基板のうち前記載置面側には、前記貫通穴を囲む円環状の突起であって、その先端面が前記載置面の一部となっているシールリングが形成されており、
前記第２開口の直径が、前記シールリングの外径よりも大きいことを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は静電チャックに関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
例えばエッチング装置等の半導体製造装置には、処理の対象となるシリコンウェハ等の基板を吸着し保持するための装置として、静電チャックが設けられる。静電チャックは、吸着電極が設けられた誘電体基板と、誘電体基板を支持するベースプレートと、を備え、これらが互いに接合された構成を有する。吸着電極に電圧が印加されると静電力が生じ、誘電体基板上に載置された基板が吸着され保持される。半導体製造装置で基板が処理されているときには、ベースプレートによって誘電体基板が冷却される。これにより、誘電体基板上に載置された基板の温度が適温に保たれる。
【０００３】
基板の処理中においては、基板の面内温度分布を可能な限り均等とすることが求められる。基板の面内温度分布を高い精度で調整可能とするために、近年ではヒーターを備えた静電チャックも開発され、既に実用化されている。ヒーターは、誘電体基板の外部に設けられることもあれば、例えば下記特許文献１に記載されているように、誘電体基板の内部に設けられることもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１８－１８１８４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
静電チャックには、誘電体基板やベースプレート等を貫通する貫通穴が形成されている。このような貫通穴としては、例えば上記特許文献１に記載されているような、リフトピンを挿通するためのリフトピン穴（ピンホール）等が挙げられる。
【０００６】
誘電体基板のうち、上記貫通穴の近傍部分では、ベースプレートに向けた熱引きが行われにくく、温度が上昇しやすい。従って、当該部分が、他の部分と同様にヒーターによって加熱されると、当該部分の温度は局所的に高くなり、その直上にある基板の温度も局所的に高くなってしまう可能性がある。
【０００７】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、処理中における基板の面内温度分布を従来よりも均一とすることのできる静電チャック、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明に係る静電チャックは、被吸着物が載置される載置面を有し、載置面に対し垂直な方向に貫く貫通穴が形成された誘電体基板と、誘電体基板に内蔵された吸着電極と、誘電体基板を加熱するヒーターと、を備える。載置面に対し垂直な方向から見た場合において、吸着電極には、貫通穴と重なる円形の第１開口が形成されており、ヒーターには、貫通穴と重なる円形の第２開口が形成されており、第２開口の直径が、第１開口の直径よりも大きい。
【０００９】
このような構成の静電チャックでは、誘電体基板のうち貫通穴の近傍部分、すなわち、ベースプレートに向けた熱引きが小さいために局所的な温度上昇が生じやすい部分において、ヒーターに形成された第２開口の直径が大きくなっている。ヒーターにより当該部分に加えられる熱量が小さくなり、局所的な温度上昇が抑制されるので、処理中における基板の面内温度分布を従来よりも均一とすることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、処理中における基板の面内温度分布を従来よりも均一とすることのできる静電チャック、を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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