TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2024158363
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-11-08
出願番号
2023073509
出願日
2023-04-27
発明の名称
水処理方法および水処理装置
出願人
オルガノ株式会社
代理人
弁理士法人YKI国際特許事務所
主分類
C02F
1/44 20230101AFI20241031BHJP(水,廃水,下水または汚泥の処理)
要約
【課題】スライム抑制剤の使用量およびコストを抑制して、高いスライム抑制効果が得られる水処理方法および水処理装置を提供する。
【解決手段】ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理工程を含み、スライム抑制剤の添加点から逆浸透膜までの間に被処理水を貯留する被処理水槽が存在し、スライム抑制剤は被処理水に間欠添加で添加され、スライム抑制剤のCT値を変更せずに、被処理水槽の出口におけるスライム抑制剤の濃度が0.5mg/L as Cl
2
以上となるようにスライム抑制剤の添加濃度、添加時間、被処理水の流量、および被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つを調整する、水処理方法である。
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理工程を含み、
前記スライム抑制剤の添加点から前記逆浸透膜までの間に前記被処理水を貯留する被処理水槽が存在し、
前記スライム抑制剤は前記被処理水に間欠添加で添加され、
前記スライム抑制剤のCT値を変更せずに、前記被処理水槽の出口における前記スライム抑制剤の濃度が0.5mg/L as Cl
2
以上となるように前記スライム抑制剤の添加濃度、添加時間、前記被処理水の流量、および前記被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つを調整することを特徴とする水処理方法。
続きを表示(約 1,600 文字)
【請求項2】
ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理工程を含み、
前記スライム抑制剤の添加点から前記逆浸透膜までの間に前記被処理水を貯留する被処理水槽が存在し、
前記スライム抑制剤は前記被処理水に間欠添加で添加され、
下記式(1)
TIFF
2024158363000015.tif
16
170
(1)
(式(1)において、C:スライム抑制剤の添加濃度(mg/t as Cl
2
)、T:スライム抑制剤の添加時間(min)、F:被処理水の流量(t/min)、V:被処理水槽の容積(t)を表す。)から求まる値f(T)が0.5以上になるように、前記スライム抑制剤の添加濃度、添加時間、前記被処理水の流量、および前記被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つを調整することを特徴とする水処理方法。
【請求項3】
請求項1または2に記載の水処理方法であって、
前記CT値は、0.5mg/L as Cl
2
*min以上、20mg/L as Cl
2
*min以下の範囲であり、前記スライム抑制剤の添加濃度を0.7mg/L as Cl
2
以上、前記スライム抑制剤の添加時間を30分以下とすることを特徴とする水処理方法。
【請求項4】
ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理手段と、
前記スライム抑制剤の添加点から前記逆浸透膜までの間に存在する前記被処理水を貯留する被処理水槽と、
前記スライム抑制剤を前記被処理水に間欠添加で添加するスライム抑制剤添加手段と、
を備え、
前記スライム抑制剤のCT値を変更せずに、前記被処理水槽の出口における前記スライム抑制剤の濃度が0.5mg/L as Cl
2
以上となるように前記スライム抑制剤の添加濃度、添加時間、前記被処理水の流量、および前記被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つが調整されることを特徴とする水処理装置。
【請求項5】
ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理手段と、
前記スライム抑制剤の添加点から前記逆浸透膜までの間に存在する前記被処理水を貯留する被処理水槽と、
前記スライム抑制剤を前記被処理水に間欠添加で添加するスライム抑制剤添加手段と、
を備え、
下記式(1)
TIFF
2024158363000016.tif
16
170
(1)
(式(1)において、C:スライム抑制剤の添加濃度(mg/t as Cl
2
)、T:スライム抑制剤の添加時間(min)、F:被処理水の流量(t/min)、V:被処理水槽の容積(t)を表す。)から求まる値f(T)が0.5以上になるように、前記スライム抑制剤の添加濃度、添加時間、前記被処理水の流量、および前記被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つが調整されることを特徴とする水処理装置。
【請求項6】
請求項4または5に記載の水処理装置であって、
前記CT値は、0.5mg/L as Cl
2
*min以上、20mg/L as Cl
2
*min以下の範囲であり、前記スライム抑制剤の添加濃度が0.7mg/L as Cl
2
以上、前記スライム抑制剤の添加時間が30分以下とされることを特徴とする水処理装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、逆浸透膜用スライム抑制剤を使用して逆浸透膜処理を行う水処理方法および水処理装置に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
逆浸透膜を用いる水処理において、スライムの発生は度々問題となっている。
【0003】
逆浸透膜用スライム抑制剤として、塩素系酸化剤、臭素系酸化剤、ヨウ素系酸化剤等が知られている(例えば、特許文献1-3参照)。
【0004】
即効性の高い無機系のスライム抑制剤を使用する場合、スライム抑制剤の添加方法を間欠添加とすることによって、連続添加よりもコストを抑えることができる(特許文献4参照)。
【0005】
スライム抑制剤の添加方法を間欠添加とし、その添加手段による添加点と逆浸透膜との間に水槽が存在する場合、スライム抑制剤はその水槽で希釈されてしまう。スライム抑制剤が水槽で希釈される場合、スライム抑制効果を十分に発揮できないことがある。スライム抑制剤の添加濃度を上げることにより、スライム抑制効果を向上させることも可能だが、コストが増大してしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
特開2006-263510号公報
特開2015-062889号公報
国際特許出願公開第2021/192582号パンフレット
国際特許出願公開第2020/179789号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
本発明の目的は、スライム抑制剤の使用量およびコストを抑制して、高いスライム抑制効果が得られる水処理方法および水処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理工程を含み、前記スライム抑制剤の添加点から前記逆浸透膜までの間に前記被処理水を貯留する被処理水槽が存在し、前記スライム抑制剤は前記被処理水に間欠添加で添加され、前記スライム抑制剤のCT値を変更せずに、前記被処理水槽の出口における前記スライム抑制剤の濃度が0.5mg/L as Cl
2
以上となるように前記スライム抑制剤の添加濃度、添加時間、前記被処理水の流量、および前記被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つを調整する、水処理方法である。
【0009】
本発明は、ヨウ素系酸化剤を含むスライム抑制剤を添加した被処理水について逆浸透膜によって処理して透過水および濃縮水を得る逆浸透膜処理工程を含み、前記スライム抑制剤の添加点から前記逆浸透膜までの間に前記被処理水を貯留する被処理水槽が存在し、前記スライム抑制剤は前記被処理水に間欠添加で添加され、下記式(1)
TIFF
2024158363000001.tif
15
170
(1)
(式(1)において、C:スライム抑制剤の添加濃度(mg/t as Cl
2
)、T:スライム抑制剤の添加時間(min)、F:被処理水の流量(t/min)、V:被処理水槽の容積(t)を表す。)から求まる値f(T)が0.5以上になるように、前記スライム抑制剤の添加濃度、添加時間、前記被処理水の流量、および前記被処理水槽の容積のうちの少なくとも1つを調整することが好ましい。
【0010】
前記水処理方法において、前記CT値は、0.5mg/L as Cl
2
*min以上、20mg/L as Cl
2
*min以下の範囲であり、前記スライム抑制剤の添加濃度を0.7mg/L as Cl
2
以上、前記スライム抑制剤の添加時間を30分以下とすることが好ましい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
オルガノ株式会社
嫌気性水処理方法
21日前
オルガノ株式会社
水処理方法及び水処理装置
10日前
オルガノ株式会社
水処理方法及び水処理装置
10日前
オルガノ株式会社
水処理装置及び水処理方法
14日前
オルガノ株式会社
水処理方法および水処理装置
今日
オルガノ株式会社
汚泥処理システム、制御装置、汚泥処理方法およびプログラム
1日前
オルガノ株式会社
監視装置、水処理システム、超音波センサ、水処理方法およびプログラム
8日前
株式会社 堀場アドバンスドテクノ
硝酸イオン電極及び水質測定装置
10日前
マコー株式会社
液肥製造装置
今日
株式会社石垣
汚泥コンポスト化システム
8日前
株式会社石垣
汚泥コンポスト化システム
8日前
個人
淡水化装置
今日
シャープ株式会社
浄水装置および浄水具
9日前
前澤工業株式会社
排水処理システム
16日前
中国電力株式会社
排水調整システム
21日前
フナテック株式会社
紫外線殺菌装置
9日前
トヨタ紡織株式会社
イオン交換器の取付構造
14日前
オルガノ株式会社
水処理装置及び水処理方法
14日前
DOWAテクノロジー株式会社
酸の濃縮方法
23日前
株式会社神鋼環境ソリューション
処理システム
14日前
株式会社 MTG
電気分解装置
24日前
ハイフィルム インコーポレイテッド
水処理システム
24日前
中国電力株式会社
水質監視システムおよび水質監視プログラム
28日前
オルガノ株式会社
嫌気性水処理方法
21日前
栗田工業株式会社
純水製造装置及び純水製造装置の運転方法
21日前
個人
浄水処理システム、浄水処理方法およびフルボ酸の分解処理方法
21日前
日鉄環境株式会社
廃水の処理方法
9日前
オルガノ株式会社
水処理方法及び水処理装置
10日前
オルガノ株式会社
水処理方法及び水処理装置
10日前
オルガノ株式会社
水処理方法及び水処理装置
22日前
三機工業株式会社
汚泥焼却方法及び汚泥焼却システム
24日前
三菱重工業株式会社
取水設備及び異物除去方法
14日前
ウシオ電機株式会社
流体処理装置、点灯回路
8日前
オルガノ株式会社
水処理方法および水処理装置
今日
ウシオ電機株式会社
流体処理装置、点灯回路
24日前
三機工業株式会社
汚泥焼却方法及び混合汚泥焼却システム
24日前
続きを見る
他の特許を見る