TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025122542
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-21
出願番号2024018107
出願日2024-02-08
発明の名称基板処理装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/677 20060101AFI20250814BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板を効率よく処理できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】姿勢変換部19は、基準ピッチで整列された基板群を水平保持姿勢から鉛直保持姿勢に姿勢変換させる。プッシャ機構21は、姿勢変換部19が保持する基板W2(第2基板群)と、姿勢変換部19から予め渡された基板W1(第1基板群)とを組み合わせて、基準ピッチよりも狭い不等ピッチで整列された複数枚の基板を保持する。第1のピッチ変換部25は、不等ピッチで整列された複数枚の基板を受け取り、不等ピッチで整列された複数枚の基板を、基準ピッチよりも狭い狭ピッチで整列させる。処理ブロック7は、狭ピッチで整列された複数枚の基板を一括して処理する。主搬送機構WTRは、狭ピッチで整列された複数枚の基板を一括して処理ブロック7に搬送する。第1のピッチ変換部25,第2のピッチ変換部26は、プッシャ機構21の主搬送機構WTR側に配置されている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項1】
基板を処理する基板処理装置であって、
水平姿勢の基板を鉛直方向に等ピッチで整列された基板群を保持する水平保持姿勢と、鉛直姿勢の基板を水平方向に前記等ピッチで整列された基板群を保持する鉛直保持姿勢とに基板の姿勢を変換させる姿勢変換機構と、
前記姿勢変換機構が保持する前記鉛直保持姿勢の第2基板群と、前記姿勢変換機構から予め渡された前記鉛直保持姿勢の第1基板群とを組み合わせて、前記等ピッチよりも狭い狭間隔で整列された複数枚の基板を保持するプッシャ部材を有するプッシャ機構と、
前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を受け取り、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を、前記等ピッチよりも狭い狭ピッチで整列させるピッチ変換部と、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板を一括して処理する基板処理部と、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板を一括して前記基板処理部に搬送する主搬送機構と、を備え、
前記ピッチ変換部は、前記プッシャ機構の前記主搬送機構側に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
続きを表示(約 2,300 文字)【請求項2】
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板は、前記等ピッチよりも狭い第1間隔と、前記等ピッチよりも狭く且つ前記第1間隔よりも広い第2間隔とが交互に繰り返された不等ピッチで整列された複数枚の基板であり、
前記等ピッチは、前記第1間隔と前記第2間隔との和に等しく、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板は、前記第1間隔を繰り返して整列された複数枚の基板である
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項3】
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板は、前記等ピッチよりも狭い第1狭ピッチで整列された前記複数枚の基板であり、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板は、前記第1狭ピッチよりも狭い第2狭ピッチで整列された前記複数枚の基板である
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項4】
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、
前記プッシャ部材から受け取った前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を一括して保持する横行保持部を、基板移載位置と基板受け渡し位置との間の横行経路に沿って横行させる横行機構を備え、
前記基板移載位置は、前記プッシャ部材と前記横行保持部との間で、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板が一括して受け渡しされる位置であり、
前記基板受け渡し位置は、前記ピッチ変換部と前記主搬送装置との間で、前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板が一括して受け渡しされる位置であり、
前記ピッチ変換部は、前記基板受け渡し位置において昇降することで、前記横行保持部との間で、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板の受け渡しを行い、
前記ピッチ変換部は、前記基板受け渡し位置に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項5】
請求項4に記載の基板処理装置において、
前記ピッチ変換部は、前記横行経路より下方に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項6】
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、
前記プッシャ部材から受け取った前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を一括して保持する横行保持部を、基板移載位置と基板受け渡し位置との間の横行経路に沿って横行させる横行機構と、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板を一括して保持する仲介保持部を、前記基板受け渡し位置において昇降させる仲介機構と、を備え、
前記基板移載位置は、前記プッシャ部材と前記横行保持部との間で、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板が一括して受け渡しされる位置であり、
前記基板受け渡し位置は、前記仲介保持部と前記主搬送装置との間で、前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板が一括して受け渡しされる位置であり、
前記ピッチ変換部は、前記基板受け渡し位置において昇降することで、前記横行保持部との間で、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板の受け渡しを行い、
前記仲介保持部は、前記基板受け渡し位置において昇降することで、前記ピッチ変換部との間で、前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板の受け渡しを行い、
前記ピッチ変換部は、前記基板受け渡し位置に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項7】
請求項6に記載の基板処理装置において、
前記ピッチ変換部は、前記仲介保持部より下方の位置に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項8】
請求項6に記載の基板処理装置において、
前記ピッチ変換部は、前記横行経路より下方に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項9】
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、
前記プッシャ部材から受け取った前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を一括して保持する第1横行保持部を、第1横行経路に沿って横行させる第1横行機構と、
前記プッシャ部材に渡す前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を一括して保持する第2横行保持部を、第2横行経路に沿って横行させる第2横行機構と、を備え、
前記ピッチ変換部は、
前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を受け取り、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を、前記狭ピッチで整列させる第1ピッチ変換部と、
前記狭ピッチで整列させた前記複数枚の基板を受け取り、前記狭ピッチで整列させた前記複数枚の基板を、前記狭間隔で整列させる第2ピッチ変換部と、を備える
ことを特徴とする基板処理装置。
【請求項10】
請求項9に記載の基板処理装置において、
前記第1横行経路は、基板移載位置と基板搬入位置との間の経路であり、
前記第2横行経路は、基板搬出位置と基板移載位置との間の経路であり、
前記第1横行経路と前記第2横行経路とは、横方向に離れた位置に設けられ、
前記第1ピッチ変換部は、前記基板搬入位置に配置され、
前記第2ピッチ変換部は、前記基板搬出位置に配置されている
ことを特徴とする基板処理装置。
(【請求項11】以降は省略されています)

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体基板、FPD(Flat Panel Display)用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。FPDは、例えば、液晶表示装置、有機EL(electroluminescence)表示装置などが挙げられる。
続きを表示(約 2,200 文字)【背景技術】
【0002】
従来、鉛直姿勢の複数枚の基板を一括して処理液に浸漬して処理する基板処理装置が知られている。この基板処理装置は、姿勢変換機構とプッシャを備える(例えば、特許文献1参照)。姿勢変換機構は、水平姿勢と垂直姿勢との間で基板の姿勢を変換する。プッシャは、昇降保持部の上下動によって、姿勢変換機構との間で垂直姿勢の複数枚の基板を受け渡すことができる。
【0003】
プッシャは、姿勢変換機構が保持する基板群と、姿勢変換機構から予め渡された基板群とを組み合わせて、複数枚の基板を昇降保持部で保持する。昇降保持部で行われる基板群の組み合わせは、ピッチ変換の1つである。昇降保持部で保持された複数枚の基板は、例えば、キャリア内での基板保持ピッチの半分のハーフピッチで整列する。ハーフピッチで整列させた基板を一括処理することにより、処理液の使用量を削減することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2010-93230号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
基板処理装置の処理液(薬液及び洗浄液)の使用量を一層削減するために、ハーフピッチよりも狭い狭ピッチで複数枚の基板を整列させ、この狭ピッチで整列された複数枚の基板を一括して処理したいという要望がある。
【0006】
このような場合、姿勢変換機構が保持する基板群と、姿勢変換機構から予め渡された基板群とを組み合わせて、複数枚の基板を昇降保持部で保持した後、さらにピッチ変換を行う必要がある。そのため、ピッチ変換に要する時間がさらに長くかかる。したがって、従来の装置では、基板を効率よく処理できない、という問題がある。
【0007】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板を効率よく処理できる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明に係る基板処理装置は、
基板を処理する基板処理装置であって、
水平姿勢の基板を鉛直方向に等ピッチで整列された基板群を保持する水平保持姿勢と、鉛直姿勢の基板を水平方向に前記等ピッチで整列された基板群を保持する鉛直保持姿勢とに姿勢変換させる姿勢変換機構と、
前記姿勢変換機構が保持する前記鉛直保持姿勢の第2基板群と、前記姿勢変換機構から予め渡された前記鉛直保持姿勢の第1基板群とを組み合わせて、前記等ピッチよりも狭い狭間隔で整列された複数枚の基板を保持するプッシャ部材を有するプッシャ機構と、
前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を受け取り、前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板を、前記等ピッチよりも狭い狭ピッチで整列させるピッチ変換部と、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板を一括して処理する基板処理部と、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板を一括して前記基板処理部に搬送する主搬送機構と、を備え、
前記ピッチ変換部は、前記プッシャ機構の前記主搬送機構側に配置されている。
【0009】
本発明に係る基板処理装置によれば、プッシャ機構は、姿勢変換機構が保持する鉛直保持姿勢の第2基板群と、姿勢変換機構から予め渡された鉛直保持姿勢の第1基板群とを組み合わせて、等ピッチよりも狭い狭間隔で整列された複数枚の基板を保持する。等ピッチの基板群から狭間隔で整列された複数枚の基板を作る工程を1段階目のピッチ変換と呼ぶ。ピッチ変換部は、狭間隔で整列された複数枚の基板を受け取り、狭間隔で整列された複数枚の基板を、等ピッチよりも狭い狭ピッチで整列させる。狭間隔で整列された複数枚の基板から狭ピッチで整列された複数枚の基板を作る工程を2段階目のピッチ変換と呼ぶ。本発明は、2段階目のピッチ変換は、プッシャ機構で行われるのではなく、プッシャ機構の主搬送機構側に配置されたピッチ変換部で行われる。つまり、2段階目のピッチ変換は、スループットを低下させない位置で行われる。したがって、効率よく基板を処理することができる。
【0010】
また、本発明に係る基板処理装置において、
前記狭間隔で整列された前記複数枚の基板は、前記等ピッチよりも狭い第1間隔と、前記等ピッチよりも狭く且つ前記第1間隔よりも広い第2間隔とが交互に繰り返された不等ピッチで整列された複数枚の基板であり、
前記等ピッチは、前記第1間隔と前記第2間隔との和に等しく、
前記狭ピッチで整列された前記複数枚の基板は、前記第1間隔を繰り返して整列された複数枚の基板である
ことが好ましい(請求項2)。このように、2段階目のピッチ変換は、1段階目のピッチ変換で作られた不等ピッチの第2間隔が第1間隔になるまで狭くするので、ゆっくりと行われる。したがって、2段階目のピッチ変換は、1段階目のピッチ変換のスループットを低下させない位置で、ゆっくりと行うことができる。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する

関連特許

個人
雄端子
12日前
個人
後付地震遮断機
16日前
個人
超精密位置決め機構
17日前
東レ株式会社
積層多孔質膜
20日前
愛知電機株式会社
電力機器
9日前
CKD株式会社
巻回装置
19日前
ヒロセ電機株式会社
端子
9日前
日機装株式会社
加圧装置
4日前
ローム株式会社
半導体装置
4日前
住友電装株式会社
端子
11日前
三菱電機株式会社
回路遮断器
5日前
トヨタ自動車株式会社
蓄電装置
2日前
日本化薬株式会社
電流遮断装置
17日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
19日前
株式会社東芝
回路素子
18日前
株式会社村田製作所
アンテナ装置
18日前
日新イオン機器株式会社
イオン注入装置
4日前
住友電装株式会社
コネクタ
11日前
三菱自動車工業株式会社
放熱構造
4日前
富士電機株式会社
半導体装置
11日前
三菱電機株式会社
半導体装置
19日前
株式会社村田製作所
コイル部品
17日前
TDK株式会社
電子部品
3日前
株式会社村田製作所
コイル部品
4日前
TDK株式会社
電子部品
19日前
矢崎総業株式会社
すり割り端子
9日前
日本特殊陶業株式会社
保持部材
4日前
日本バイリーン株式会社
負極部材および電池
19日前
本田技研工業株式会社
積層装置
16日前
トヨタ自動車株式会社
交換式バッテリ
2日前
住友電装株式会社
中継コネクタ
9日前
トヨタ自動車株式会社
交換式バッテリ
2日前
株式会社アイシン
加湿器
12日前
株式会社アイシン
加湿器
12日前
富士通株式会社
量子デバイスの製造方法
4日前
矢崎総業株式会社
コネクタ
11日前
続きを見る