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公開番号2025050246
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023158939
出願日2023-09-22
発明の名称静電チャック
出願人TOTO株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250327BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】リフトピン穴等の内部の圧力を、ベースプレートのガス流路を通じて調整可能としながらも、絶縁破壊の発生を抑制することのできる静電チャック、を提供する。
【解決手段】静電チャック10は、第1貫通穴150が形成された誘電体基板100と、誘電体基板100を支持する部材であって、第1貫通穴150に繋がる第2貫通穴250が形成されたベースプレート200と、第2貫通穴250の内面を覆っており、絶縁性を有する材料により形成された絶縁部材400と、を備える。ベースプレート200には、第2貫通穴250の内部に通じるガス流路FPが形成されており、ガス流路FPの一部である流路434が、絶縁部材400を貫くように複数形成されている。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
第１貫通穴が形成された誘電体基板と、
前記誘電体基板を支持する部材であって、前記第１貫通穴に繋がる第２貫通穴が形成されたベースプレートと、
前記第２貫通穴の内面を覆っており、絶縁性を有する材料により形成された絶縁部と、を備え、
前記ベースプレートには、前記第２貫通穴の内部に通じるガス流路が形成されており、
前記ガス流路の一部である供給穴が、前記絶縁部を貫くように複数形成されていることを特徴とする静電チャック。
続きを表示（約 1,000 文字）【請求項２】
それぞれの前記供給穴は、前記第２貫通穴の中心軸に沿った方向において互いに同じ高さとなる位置に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
前記ガス流路は、前記絶縁部を外周側から囲むよう環状に形成された環状流路を含み、
それぞれの前記供給穴が１つの前記環状流路に繋がっていることを特徴とする、請求項２に記載の静電チャック。
【請求項４】
前記ガス流路は、
前記第２貫通穴の中心軸に対し垂直な方向に伸びる第１流路と、
前記第１流路に繋がっており、前記第２貫通穴の中心軸に対し平行な方向に伸びる第２流路と、を更に含み、
前記第２流路が前記環状流路に繋がっていることを特徴とする、請求項３に記載の静電チャック。
【請求項５】
第１貫通穴が形成された誘電体基板と、
前記誘電体基板を支持する部材であって、前記第１貫通穴に繋がる第２貫通穴が形成されたベースプレートと、
前記第２貫通穴の内面を覆っており、絶縁性を有する材料により形成された絶縁部と、を備え、
前記ベースプレートには、前記第２貫通穴の内部に通じるガス流路が形成されており、
前記ガス流路は、
前記第２貫通穴の中心軸に対し垂直な方向に伸びる第１流路と、
前記第１流路に繋がっており、前記第２貫通穴の中心軸に対し平行な方向に伸びる第２流路と、
前記第２流路に繋がっており、前記絶縁部を貫くように形成された供給穴と、を含むことを特徴とする静電チャック。
【請求項６】
前記第２流路は、前記第１流路から、前記誘電体基板とは反対側に向かって伸びていることを特徴とする、請求項５に記載の静電チャック。
【請求項７】
前記供給穴は、１つの前記絶縁部に複数形成されていることを特徴とする、請求項５に記載の静電チャック。
【請求項８】
それぞれの前記供給穴は、前記第２貫通穴の中心軸に沿った方向において互いに同じ高さとなる位置に形成されていることを特徴とする、請求項７に記載の静電チャック。
【請求項９】
前記ガス流路は、前記絶縁部を外周側から囲むよう環状に形成された環状流路を含み、
それぞれの前記供給穴が１つの前記環状流路に繋がっていることを特徴とする、請求項８に記載の静電チャック。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は静電チャックに関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えばエッチング装置等の半導体製造装置には、処理の対象となるシリコンウェハ等の基板を吸着し保持するための装置として、静電チャックが設けられる。静電チャックは、吸着電極が設けられた誘電体基板と、誘電体基板を支持するベースプレートと、を備え、これらが互いに接合された構成を有する。吸着電極に電圧が印加されると静電力が生じ、誘電体基板上に載置された基板が吸着され保持される。
【０００３】
下記特許文献１に記載されているように、誘電体基板及びベースプレートには、両者を貫く貫通穴が形成される。このような貫通穴としては、例えば、基板の着脱時にリフトピンを通すためのリフトピン穴等が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２２－０２４３２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
リフトピン穴の内部空間は基板側に通じている。このため、当該空間の圧力は、適切な圧力となるように調整しておくことが好ましい。このような圧力調整を可能とするために、近年では、ベースプレートの内部にガス流路を形成しておき、当該ガス流路を通じて、リフトピン穴の内部空間を加圧又は減圧可能することについても検討が進められている。
【０００６】
しかしながら、ベースプレートの内部に形成すべき具体的なガス流路の態様については、従来、十分な検討がなされていなかった。例えば、上記のガス流路の端部となる開口をリフトピン穴の内面に形成すると、その位置や大きさによっては、開口を通る経路での絶縁破壊が生じてしまう可能性がある。
【０００７】
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、リフトピン穴等の内部の圧力を、ベースプレートのガス流路を通じて調整可能としながらも、絶縁破壊の発生を抑制することのできる静電チャック、を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る静電チャックは、第１貫通穴が形成された誘電体基板と、誘電体基板を支持する部材であって、第１貫通穴に繋がる第２貫通穴が形成されたベースプレートと、第２貫通穴の内面を覆っており、絶縁性を有する材料により形成された絶縁部と、を備える。ベースプレートには、第２貫通穴の内部に通じるガス流路が形成されており、ガス流路の一部である供給穴が、絶縁部を貫くように複数形成されている。
【０００９】
このような構成の静電チャックでは、例えばリフトピン穴の一部である第２貫通穴の内部の圧力を、ガス流路を通じて調整することができる。ガス流路の一部として絶縁部を貫く供給穴は、１つだけではなく複数形成されている。これにより、それぞれの供給穴の断面積を小さくし絶縁破壊の発生を防止しながらも、ガス流路を流れるガスの流量を十分に確保することが可能となる。
【００１０】
また、上記課題を解決するために、本発明の他の態様に係る静電チャックは、第１貫通穴が形成された誘電体基板と、誘電体基板を支持する部材であって、第１貫通穴に繋がる第２貫通穴が形成されたベースプレートと、第２貫通穴の内面を覆っており、絶縁性を有する材料により形成された絶縁部と、を備える。ベースプレートには、第２貫通穴の内部に通じるガス流路が形成されている。ガス流路は、第２貫通穴の中心軸に対し垂直な方向に伸びる第１流路と、第１流路に繋がっており、第２貫通穴の中心軸に対し平行な方向に伸びる第２流路と、第２流路に繋がっており、絶縁部を貫くように形成された供給穴と、を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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