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公開番号2024176264
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-19
出願番号2023094698
出願日2023-06-08
発明の名称水質分析装置
出願人富士電機株式会社
代理人弁理士法人RYUKA国際特許事務所
主分類G01N 21/33 20060101AFI20241212BHJP(測定;試験)
要約【課題】水質分析装置において、接液容器内部の汚れを防止することが好ましい。
【解決手段】測定対象水を分析する水質分析装置であって、前記測定対象水が通流する内部空間を有する接液容器と、前記内部空間に測定光を照射する測定光照射光学系と、前記内部空間に紫外光を照射する紫外光照射光学系と、前記接液容器からの被測定光に基づいて測定対象水を分析する検出光学系と、前記検出光学系の分析結果に基づいて、前記接液容器の汚れの程度を表す汚れ指標を演算する汚れ演算制御部とを備え、前記汚れ演算制御部は、前記汚れ指標の結果に応じて前記紫外光の強度を制御する水質分析装置を提供する。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
測定対象水を分析する水質分析装置であって、
前記測定対象水が通流する内部空間を有する接液容器と、
前記内部空間に測定光を照射する測定光照射光学系と、
前記内部空間に紫外光を照射する紫外光照射光学系と、
前記接液容器からの被測定光に基づいて測定対象水を分析する検出光学系と、
前記検出光学系の分析結果に基づいて、前記接液容器の汚れの程度を表す汚れ指標を演算する汚れ演算制御部と
を備え、
前記汚れ演算制御部は、前記汚れ指標の結果に応じて前記紫外光の強度を制御する
水質分析装置。
続きを表示（約 970 文字）【請求項２】
前記汚れ演算制御部は、前記汚れ指標の値が予め定められた値より大きくなると前記紫外光の強度を増加させる
請求項１に記載の水質分析装置。
【請求項３】
前記予め定められた値は、前記測定対象水の種類に応じて決定される
請求項２に記載の水質分析装置。
【請求項４】
前記紫外光照射光学系は、前記水質分析装置が前記測定対象水を分析している間、前記紫外光を間欠的に照射する
請求項１に記載の水質分析装置。
【請求項５】
前記紫外光照射光学系と前記測定光照射光学系は、前記水質分析装置が前記測定対象水を分析している間、前記紫外光と前記測定光を交互に照射する
請求項４に記載の水質分析装置。
【請求項６】
前記紫外光は、前記測定光より拡散度合が大きい
請求項１に記載の水質分析装置。
【請求項７】
前記接液容器は、
前記被測定光が通過する散乱光窓と、
前記紫外光が通過する紫外光窓と
を有し、
前記紫外光窓は、前記内部空間をはさんで前記散乱光窓と向かい合う位置に配置されている
請求項１に記載の水質分析装置。
【請求項８】
前記測定対象水の流速を制御して、前記汚れを取り除く流速制御部を更に備える
請求項１に記載の水質分析装置。
【請求項９】
前記水質分析装置は、
前記汚れ演算制御部が前記汚れ指標を演算し、前記汚れ指標が予め定められた値より大きい場合、
前記汚れ演算制御部は、前記紫外光の光量及びデューティ比を増加させ、
前記流速制御部は、前記測定対象水の流速を増加させる操作を繰り返し行う
請求項８に記載の水質分析装置。
【請求項１０】
前記接液容器は、
前記被測定光が通過する散乱光窓と、
前記紫外光が通過する紫外光窓と
を有し、
前記接液容器は、前記内部空間に設けられ、前記紫外光を前記紫外光窓から前記散乱光窓に導く遮光部を有し、
前記遮光部の内壁は前記紫外光を反射する
請求項１から９のいずれか一項に記載の水質分析装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、水質分析装置に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、試料水の水質を分析する水質分析装置において超音波、気液噴射ノズルまたはワイパーによる洗浄方法が知られている（例えば、特許文献１－３参照）。また、２種類の光源を備える測定装置が知られている（例えば、特許文献４参照）。
［先行技術文献］
［特許文献］
［特許文献１］特表２０１５－５００４６１号公報
［特許文献２］特開２００８－２９５６号公報
［特許文献３］特開平９－５４０７６号公報
［特許文献４］特開２０２２－５９２７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
水質分析装置において、接液容器内部の汚れを防止することが好ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の実施形態においては、測定対象水を分析する水質分析装置を提供する。水質分析装置は、前記測定対象水が通流する内部空間を有する接液容器を備えてよい。上記いずれかの水質分析装置は、前記内部空間に測定光を照射する測定光照射光学系を備えてよい。上記いずれかの水質分析装置は、前記内部空間に紫外光を照射する紫外光照射光学系を備えてよい。上記いずれかの水質分析装置は、前記接液容器からの被測定光に基づいて測定対象水を分析する検出光学系を備えてよい。上記いずれかの水質分析装置は、前記検出光学系の分析結果に基づいて、前記接液容器の汚れの程度を表す汚れ指標を演算する汚れ演算制御部を備えてよい。上記いずれかの水質分析装置において、前記汚れ演算制御部は、前記汚れ指標の結果に応じて前記紫外光の強度を制御してよい。
【０００５】
上記いずれかの水質分析装置において、前記汚れ演算制御部は、前記汚れ指標の値が予め定められた値より大きくなると前記紫外光の強度を増加させてよい。
【０００６】
上記いずれかの水質分析装置において、前記予め定められた値は、前記測定対象水の種類に応じて決定されてよい。
【０００７】
上記いずれかの水質分析装置において、前記紫外光照射光学系は、前記水質分析装置が前記測定対象水を分析している間、前記紫外光を間欠的に照射してよい。
【０００８】
上記いずれかの水質分析装置において、前記紫外光は、前記測定光より拡散度合が大きくてよい。
【０００９】
上記いずれかの水質分析装置において、前記接液容器は、前記被測定光が通過する散乱光窓を有してよい。上記いずれかの水質分析装置において、前記接液容器は、前記紫外光が通過する紫外光窓を有してよい。上記いずれかの水質分析装置において、前記紫外光窓は、前記内部空間をはさんで前記散乱光窓と向かい合う位置に配置されていてよい。
【００１０】
上記いずれかの水質分析装置は、前記測定対象水の流速を制御して、前記汚れを取り除く流速制御部を更に備えてよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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