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公開番号2025100133
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-03
出願番号2023217277
出願日2023-12-22
発明の名称レーザチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法
出願人ギガフォトン株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類H01S 3/038 20060101AFI20250626BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】レーザチャンバの長尺化とレーザガスの流速の低下とを抑制しながら大パルスエネルギ化を実現する。
【解決手段】レーザチャンバは、第1方向に対向するように配置された一対の電極を収容し、レーザガスを導入可能に構成されたレーザチャンバであって、一対の電極のうちの少なくとも一方は、第1方向に直交する第2方向に延伸した放電部と、放電部の側面を囲うように配置された肩部と、を含み、放電部の表面は、第2方向に延伸した放電面と、放電部の第2方向の端部に設けられた端面と、を含み、端面は、回転楕円面の一部である。
【選択図】図7
特許請求の範囲【請求項１】
第１方向に対向するように配置された一対の電極を収容し、レーザガスを導入可能に構成されたレーザチャンバであって、
前記一対の電極のうちの少なくとも一方は、前記第１方向に直交する第２方向に延伸した放電部と、前記放電部の側面を囲うように配置された肩部と、を含み、
前記放電部の表面は、前記第２方向に延伸した放電面と、前記放電部の前記第２方向の端部に設けられた端面と、を含み、
前記端面は、回転楕円面の一部である、
レーザチャンバ。
続きを表示（約 760 文字）【請求項２】
請求項１に記載のレーザチャンバであって、
前記放電部は、前記肩部よりも前記第１方向に突出している。
【請求項３】
請求項１に記載のレーザチャンバであって、
前記第１方向と前記第２方向とに直交する方向を第３方向とした場合、
前記回転楕円面の回転軸は、前記第１方向と前記第３方向とに平行な平面で前記端部を切断した第１断面と、前記第１方向と前記第２方向とに平行な平面で前記端部を切断した第２断面との交線である。
【請求項４】
請求項３に記載のレーザチャンバであって、
前記第１断面及び前記第２断面における前記端部の断面形状は同一である。
【請求項５】
請求項４に記載のレーザチャンバであって、
前記回転楕円面は、短軸を前記回転軸とした扁平楕円面である。
【請求項６】
請求項５に記載のレーザチャンバであって、
前記回転楕円面の長軸半径をＬ１とし、前記回転楕円面の短軸半径をＬ２とした場合、２≦Ｌ１／Ｌ２≦１０の関係を満たす。
【請求項７】
請求項１に記載のレーザチャンバであって、
前記放電部と前記肩部とは、単一の材料で一体成形されている。
【請求項８】
請求項１に記載のレーザチャンバであって、
前記放電部と前記肩部とは、異なる部品で構成されている。
【請求項９】
請求項８に記載のレーザチャンバであって、
前記肩部は、絶縁材料で形成されている。
【請求項１０】
請求項９に記載のレーザチャンバであって、
前記絶縁材料は、アルミナ又は酸化ジルコニウムである。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザチャンバ、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 2,800 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体露光装置においては、半導体集積回路の微細化及び高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。例えば、露光用のガスレーザ装置としては、波長約２４８ｎｍのレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長約１９３ｎｍのレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。
【０００３】
ＫｒＦエキシマレーザ装置及びＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振光のスペクトル線幅は、３５０～４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過する材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を含む狭帯域化モジュール（Line Narrowing Module：ＬＮＭ）が備えられる場合がある。以下では、スペクトル線幅が狭帯域化されるガスレーザ装置を狭帯域化ガスレーザ装置という。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
国際公開第２０２３／１２７２８６号
実開昭５９－１４５０２号公報
米国特許第１００７４９５３号明細書
【概要】
【０００５】
本開示の１つの観点に係るレーザチャンバは、第１方向に対向するように配置された一対の電極を収容し、レーザガスを導入可能に構成されたレーザチャンバであって、一対の電極のうちの少なくとも一方は、第１方向に直交する第２方向に延伸した放電部と、放電部の側面を囲うように配置された肩部と、を含み、放電部の表面は、第２方向に延伸した放電面と、放電部の第２方向の端部に設けられた端面と、を含み、端面は、回転楕円面の一部である。
【０００６】
本開示の１つの観点に係るガスレーザ装置は、第１方向に対向するように配置された一対の電極を収容し、レーザガスを導入可能に構成されたレーザチャンバと、一対の電極に接続された電源装置と、電源装置を制御して、一対の電極に放電させるプロセッサと、を備えるガスレーザ装置であって、一対の電極のうちの少なくとも一方は、第１方向に直交する第２方向に延伸した放電部と、放電部の側面を囲うように配置された肩部と、を含み、放電部の表面は、第２方向に延伸した放電面と、放電部の第２方向の端部に設けられた端面と、を含み、端面は、回転楕円面の一部である。
【０００７】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、第１方向に対向するように配置された一対の電極を収容し、レーザガスを導入可能に構成されたレーザチャンバと、一対の電極に接続された電源装置と、電源装置を制御して、一対の電極に放電させるプロセッサと、を備え、一対の電極のうちの少なくとも一方は、第１方向に直交する第２方向に延伸した放電部と、放電部の側面を囲うように配置された肩部と、を含み、放電部の表面は、第２方向に延伸した放電面と、放電部の第２方向の端部に設けられた端面と、を含み、端面は、回転楕円面の一部である、ガスレーザ装置のレーザチャンバにレーザガスを導入し、ガスレーザ装置によってレーザ光を生成し、レーザ光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板にレーザ光を露光することを含む。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、比較例に係るガスレーザ装置の構成を概略的に示す側面図である。
図２は、比較例に係るレーザチャンバの構成を概略的に示す断面図である。
図３は、比較例に係るカソード電極をＺ方向から見た断面図である。
図４は、比較例に係るカソード電極をＸ方向から見た側面図である。
図５は、第１実施形態に係るレーザチャンバの構成を概略的に示す断面図である。
図６は、第１実施形態に係るカソード電極を概略的に示す斜視図である。
図７は、第１実施形態に係るカソード電極の端部を概略的に示す平面図である。
図８は、図７のＡ－Ａ線に沿った断面を示す断面図である。
図９は、図７のＢ－Ｂ線に沿った断面を示す断面図である。
図１０は、回転楕円面について説明する図である。
図１１は、第１実施形態及び比較例に係るカソード電極をＸ方向から見た側面図である。
図１２は、第２実施形態に係るカソード電極をＺ方向から見た断面図である。
図１３は、第２実施形態に係るカソード電極をＸ方向から見た断面図である。
図１４は、第３実施形態に係るカソード電極をＺ方向から見た側面図である。
図１５は、第３実施形態に係るカソード電極をＸ方向から見た側面図である。
図１６は、第４実施形態に係るアノード電極をＺ方向から見た側面図である。
図１７は、第４実施形態に係るアノード電極をＸ方向から見た側面図である。
図１８は、露光装置の構成例を概略的に示す図である。
【実施形態】
【０００９】
＜内容＞
１．比較例
１．１構成
１．２動作
１．３課題
２．第１実施形態
２．１構成
２．２動作
２．３作用・効果
３．第２実施形態
３．１構成
３．２動作
３．３作用・効果
４．第３実施形態
４．１構成
４．２動作
４．３作用・効果
５．第４実施形態
５．１構成
５．２動作
５．３作用・効果
６．電子デバイスの製造方法
【００１０】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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