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公開番号2025123196
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-08-22
出願番号2025018944
出願日2025-02-07
発明の名称表面処理層を有する積層体
出願人ダイキン工業株式会社
代理人個人,個人
主分類G02B 1/12 20060101AFI20250815BHJP(光学)
要約【課題】撥液性と指紋拭き取り性に優れた表面処理層を有する積層体の提供。
【解決手段】基材と、該基材上に形成された層とを含む、積層体であって、前記層は、XPS測定において、23%以上の表面処理層由来Si比率を有する、積層体。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
基材と、該基材上に形成された層とを含む、積層体であって、前記層は、ＸＰＳ測定において、２３％以上の表面処理層由来Ｓｉ比率を有する、積層体。
続きを表示（約 3,000 文字）【請求項２】
前記表面処理層由来Ｓｉ比率は、２６％以上である、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記層のオレイン酸接触角が、５３°以上である、請求項１に記載の積層体。
【請求項４】
前記層は、ＸＰＳ測定において、０．２０以下の表面処理層由来Ｓｉ／Ｃ比率を有する、請求項１に記載の積層体。
【請求項５】
前記層の膜厚が、１ｎｍ～５０ｎｍである、請求項１に記載の積層体。
【請求項６】
前記層は、式（１）：
（化合物Ａ）Ｒ
Ａ
α
－Ｘ
１
－Ｒ
Ｓｉ
β
（１）
［式中：
Ｒ
Ａ
は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｒ
Ｓｉ
は、それぞれ独立して、水酸基又加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
Ｘ
１
は、それぞれ独立して、２～１０価の基であり、
αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり、
βは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシラン化合物から得られた層である、請求項１に記載の積層体。
【請求項７】
前記層は、式（１）および式（２）：
（化合物Ａ）Ｒ
Ａ
α
－Ｘ
１
－Ｒ
Ｓｉ
β
（１）
（化合物Ｂ）Ｒ
Ｂ
α
－Ｘ
１
－Ｒ
Ｓｉ
β
（２）
［式中：
Ｒ
Ａ
は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｒ
Ｂ
は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
ただし、Ｒ
Ａ
とＲ
Ｂ
は互いに異なる基であり、
Ｒ
Ｓｉ
は、それぞれ独立して、水酸基又加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
Ｘ
１
は、それぞれ独立して、単結合、または２～１０価の基であり、
αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり、
βは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシラン化合物を含む組成物から得られた層である、請求項１に記載の積層体。
【請求項８】
Ｒ
Ａ
は、下記式：
Ｒ
１ａ
－（Ｒ
Ｓ
）
γ１
－（ＳｉＲ
２ａ
２
）
γ２
－（Ｒ
Ａｒ
）
γ３
－
［式中：
Ｒ
１ａ
は、それぞれ独立して、炭化水素基、Ａ基またはＢ基であり、
Ａ基及びＢ基は、それぞれ、下記の基であり、
TIFF
2025123196000080.tif
45
102
［式中：
Ｒ
５１
は、それぞれ独立して、Ｒ
５３
－（ＳｉＲ
５３
２
－Ｒ
７１
）
ｍａ
－で表される基であり、
Ｒ
７１
は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ
１－６
アルキレン基であり、
Ｒ
５３
は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ
５１’
であり、
Ｒ
５１’
は、Ｒ
５１
と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ
５１
中、Ｒ
５１’
の数は２０以下であり、
Ｒ
５２
は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
Ｒ
５４
は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎｂは、１～５の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
Ｒ
Ｓ
は、それぞれ独立して、下記式：
TIFF
2025123196000081.tif
33
135
［式中：
Ｒ
７３
は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ
１－１２
アルキレン基、－Ｒ
７６
－Ｏ－Ｒ
７６
【請求項９】
Ｒ
Ａ
は、Ａ基を含む基である、請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
Ｒ
Ｂ
は、下記式：
Ｒ
１ａ
－（Ｒ
Ｓ
）
γ１
－（ＳｉＲ
２ａ
２
）
γ２
－（Ｒ
Ａｒ
）
γ３
－
［式中：
Ｒ
１ａ
は、それぞれ独立して、炭化水素基、Ａ基またはＢ基であり、
Ａ基及びＢ基は、それぞれ、下記の基であり、
TIFF
2025123196000082.tif
45
102
［式中：
Ｒ
５１
は、それぞれ独立して、Ｒ
５３
－（ＳｉＲ
５３
２
－Ｒ
７１
）
ｍａ
－で表される基であり、
Ｒ
７１
は、それぞれ独立して、単結合、酸素原子、又はＣ
１－６
アルキレン基であり、
Ｒ
５３
は、それぞれ独立して、炭化水素基またはＲ
５１’
であり、
Ｒ
５１’
は、Ｒ
５１
と同意義であり、
ｍａは、それぞれ独立して、１～５の整数であり、
ただし、Ｒ
５１
中、Ｒ
５１’
の数は２０以下であり、
Ｒ
５２
は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎａは、１～３の整数であり、
Ｒ
５４
は、それぞれ独立して、炭化水素基であり、
ｎｂは、１～５の整数であり、
ｚは、０又は１である。］
Ｒ
Ｓ
は、それぞれ独立して、下記式：
TIFF
2025123196000083.tif
33
135
［式中：
Ｒ
７３
は、それぞれ独立して、単結合、Ｃ
１－１２
アルキレン基、－Ｒ
７６
－Ｏ－Ｒ
７６
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、表面処理層を有する積層体に関する。
続きを表示（約 2,900 文字）【背景技術】
【０００２】
ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水撥油性を提供し得る
ことが知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
国際公開第２０１５／０８７９０３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、撥液性と指紋拭き取り性に優れた表面処理層を有する積層体の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示は、以下の態様を含む。
［１］基材と、該基材上に形成された層とを含む、積層体であって、前記層は、ＸＰＳ測定において、２３％以上の表面処理層由来Ｓｉ比率を有する、積層体。
［２］前記表面処理層由来Ｓｉ比率は、２６％以上である、項１に記載の積層体。
［３］前記層のオレイン酸接触角が、５３°以上である、項１又は２に記載の積層体。
［４］前記層は、ＸＰＳ測定において、０．２０以下の表面処理層由来Ｓｉ／Ｃ比率を有する、項１～３のいずれか１項に記載の積層体。
［５］前記層の膜厚が、１ｎｍ～５０ｎｍである、項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
［６］前記層は、式（１）：
（化合物Ａ）Ｒ
Ａ
α
－Ｘ
１
－Ｒ
Ｓｉ
β
（１）
［式中：
Ｒ
Ａ
は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｒ
Ｓｉ
は、それぞれ独立して、水酸基又加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
Ｘ
１
は、それぞれ独立して、２～１０価の基であり、
αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり、
βは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシラン化合物から得られた層である、項１～５のいずれか１項に記載の積層体。
［７］前記層は、式（１）および式（２）：
（化合物Ａ）Ｒ
Ａ
α
－Ｘ
１
－Ｒ
Ｓｉ
β
（１）
（化合物Ｂ）Ｒ
Ｂ
α
－Ｘ
１
－Ｒ
Ｓｉ
β
（２）
［式中：
Ｒ
Ａ
は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
Ｒ
Ｂ
は、水酸基又は加水分解性基が直接結合していないＳｉ原子を１つ以上含む１価の基であり、
ただし、Ｒ
Ａ
とＲ
Ｂ
は互いに異なる基であり、
Ｒ
Ｓｉ
は、それぞれ独立して、水酸基又加水分解性基が結合したＳｉ原子を含む１価の基であり、
Ｘ
１
は、それぞれ独立して、単結合、または２～１０価の基であり、
αは、それぞれ独立して、１～９の整数であり、
βは、それぞれ独立して、１～９の整数である。］
で表されるシラン化合物を含む組成物から得られた層である、項１～５のいずれか１項に記載の積層体。
［８］Ｒ
Ａ
は、下記式：
【発明の効果】
【０００６】
本開示の組成物によれば、撥液性と指紋拭き取り性に優れた表面処理層を有する積層体が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本明細書において用いられる場合、「１価の有機基」とは、炭素を含有する１価の基を意味する。１価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基又はその誘導体であり得る。炭化水素基の誘導体とは、炭化水素基の末端又は分子鎖中に、１つ又はそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有している基を意味する。尚、単に「有機基」と示す場合、１価の有機基を意味する。また、「２価の有機基」とは、炭素を含有する２価の基を意味する。かかる２価の有機基としては、例えば、有機基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。３価以上の有機基も同様に、有機基から所定の数の水素原子を脱離させた基を意味する。
【０００８】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素及び水素を含む基であって、炭化水素から水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、Ｃ
１－６０
炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれであってもよく、飽和又は不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つ又はそれ以上の環構造を含んでいてもよい。炭化水素基は、１つ又はそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０００９】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、１個又はそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ
１－６
アルキル基、Ｃ
２－６
アルケニル基、Ｃ
２－６
アルキニル基、Ｃ
３－１０
シクロアルキル基、Ｃ
３－１０
不飽和シクロアルキル基、５～１０員環のヘテロシクリル基、５～１０員環の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ
６－１０
アリール基及び５～１０員環のヘテロアリール基から選択される１個又はそれ以上の基が挙げられる。
【００１０】
本明細書において用いられる場合、「加水分解性基」とは、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解性基の例としては、－ＯＲ
ｈ
、－ＯＣＯＲ
ｈ
、－Ｏ－Ｎ＝ＣＲ
ｈ
２
、－ＮＲ
ｈ
２
、－ＮＨＲ
ｈ
、－ＮＣＯ、ハロゲン（これら式中、Ｒ
ｈ
は、置換または非置換の炭素数１～４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは－ＯＲ
ｈ
（即ち、アルコキシ基）である。Ｒ
ｈ
の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
（【００１１】以降は省略されています）

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