TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025073424
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-05-13
出願番号
2023184202
出願日
2023-10-26
発明の名称
積層フィルムの製造方法、積層フィルム及びCO2分離方法
出願人
東京応化工業株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
B01D
71/70 20060101AFI20250502BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約
【課題】CO
2
分離膜と支持基材とが積層された積層フィルムの製造方法であって、欠陥が抑制され、薄膜且つ大型のCO
2
分離膜を有する積層フィルムを製造することができる、積層フィルムの製造方法、積層フィルム、及び、積層フィルムを用いたCO
2
分離方法を提供すること。
【解決手段】CO
2
分離膜と、CO
2
分離膜の支持基材である多孔質膜とが積層された積層フィルムの製造方法であって、犠牲層上にCO
2
分離膜の原料を含む原料組成物の塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、塗布膜上に多孔質膜を接着する多孔質膜接着工程と、多孔質膜接着工程後に犠牲層を除去する犠牲層除去工程とを有し、原料組成物は、ケイ素含有樹脂と有機溶剤とを含み、ケイ素含有樹脂は非水溶性樹脂であり、ケイ素含有樹脂の質量平均分子量は2000以上である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
CO
2
分離膜と、前記CO
2
分離膜の支持基材である多孔質膜とが積層された積層フィルムの製造方法であって、
犠牲層上に、前記CO
2
分離膜の原料を含む原料組成物の塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、
前記塗布膜上に、前記多孔質膜を接着する、多孔質膜接着工程と、
前記多孔質膜接着工程後に、前記犠牲層を除去する、犠牲層除去工程と、を有し、
前記原料組成物は、ケイ素含有樹脂と、有機溶剤とを含み、
前記ケイ素含有樹脂は、非水溶性樹脂であり、
前記ケイ素含有樹脂の質量平均分子量は、2000以上である、積層フィルムの製造方法。
続きを表示(約 830 文字)
【請求項2】
前記CO
2
分離膜は、面積が0.03m
2
以上であり、厚さが1nm以上10000nm以下である、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項3】
前記ケイ素含有樹脂が、ポリジメチルシロキサンを含む、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項4】
前記多孔質膜接着工程後、前記犠牲層除去工程前に、前記ポリジメチルシロキサンを硬化させる、硬化工程を有する、請求項3に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項5】
前記多孔質膜が、ポリイミドからなる多孔質膜である、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項6】
前記多孔質膜は、孔径が1mm以下である、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項7】
前記塗布膜形成工程前に、前記犠牲層を、前記犠牲層の支持体上に形成する、犠牲層形成工程と、
前記多孔質膜接着工程後、前記犠牲層除去工程前に、前記支持体を前記犠牲層から剥離する、支持体剥離工程と、を有する、請求項1~6のいずれか1項に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項8】
前記支持体が、ポリエチレンテレフタレートからなる膜である、請求項7に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項9】
前記積層フィルムが、巻き取られているフィルムロールである、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
【請求項10】
CO
2
分離膜と、前記CO
2
分離膜の支持基材である多孔質膜とが積層された積層フィルムであって、
前記CO
2
分離膜は、面積が0.03m
2
以上であり、厚さが1nm以上10000nm以下である、積層フィルム。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、積層フィルムの製造方法、積層フィルム及びCO
2
分離方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
気候変動等による地球温暖化を抑制するために、二酸化炭素(CO
2
)を、CO
2
分離膜を用いて分離して回収する技術が開発されている(例えば、特許文献1)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2018-15678号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
薄膜且つ大型のCO
2
分離膜を製造する場合、製造されるCO
2
分離膜に欠けやピンホール等の欠陥が生じやすいという問題がある。例えば、支持体上に犠牲層を形成し、犠牲層上にCO
2
分離膜を形成した後、エタノール等の液体に浸漬して犠牲層を除去することで、薄膜且つ大型のCO
2
分離膜を形成することが考えられる。しかしながら、この方法では、製造される膜に欠けやピンホールが生じる。
【0005】
ここで、CO
2
分離膜が、薄膜や大型の膜である場合、CO
2
分離膜単独では自立し難く、変形や破断が生じやすい。このため、CO
2
分離膜に、CO
2
分離膜を支持(補強)する支持基材(多孔質膜)が貼りつけられた積層フィルムとして、CO
2
分離に使用することが考えられる。
【0006】
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、欠陥が抑制され、薄膜且つ大型のCO
2
分離膜と支持基材とが積層された積層フィルムを製造することができる、積層フィルムの製造方法、積層フィルム、及び、積層フィルムを用いたCO
2
分離方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、CO
2
分離膜と、CO
2
分離膜の支持基材である多孔質膜とが積層された積層フィルムの製造方法であって、犠牲層上にCO
2
分離膜の原料を含む原料組成物の塗布膜を形成する塗布膜形成工程と、塗布膜上に多孔質膜を接着する多孔質膜接着工程と、多孔質膜接着工程後に犠牲層を除去する犠牲層除去工程とを有し、原料組成物は、ケイ素含有樹脂と有機溶剤とを含み、ケイ素含有樹脂は非水溶性樹脂であり、ケイ素含有樹脂の質量平均分子量は2000以上である積層フィルムの製造方法により、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のようなものを提供する。
【0008】
[1]CO
2
分離膜と、前記CO
2
分離膜の支持基材である多孔質膜とが積層された積層フィルムの製造方法であって、
犠牲層上に、前記CO
2
分離膜の原料を含む原料組成物の塗布膜を形成する、塗布膜形成工程と、
前記塗布膜上に、前記多孔質膜を接着する、多孔質膜接着工程と、
前記多孔質膜接着工程後に、前記犠牲層を除去する、犠牲層除去工程と、を有し、
前記原料組成物は、ケイ素含有樹脂と、有機溶剤とを含み、
前記ケイ素含有樹脂は、非水溶性樹脂であり、
前記ケイ素含有樹脂の質量平均分子量は、2000以上である、積層フィルムの製造方法。
【0009】
[2]前記CO
2
分離膜は、面積が0.03m
2
以上であり、厚さが1nm以上10000nm以下である、上記[1]に記載の積層フィルムの製造方法。
【0010】
[3]前記ケイ素含有樹脂が、ポリジメチルシロキサンを含む、上記[1]又は[2]に記載の積層フィルムの製造方法。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
東京応化工業株式会社
感光性樹脂組成物
4日前
東京応化工業株式会社
洗浄液及び洗浄方法
4日前
東京応化工業株式会社
洗浄液及び洗浄方法
4日前
東京応化工業株式会社
ポリ酸塩又はその混合物
4日前
東京応化工業株式会社
相分離構造を含む構造体の製造方法
今日
東京応化工業株式会社
積層体の製造方法及びCO2分離方法
6日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
26日前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
7日前
東京応化工業株式会社
処理液、基板の処理方法、及び半導体基板の製造方法
7日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
27日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
25日前
東京応化工業株式会社
積層フィルムの製造方法、積層フィルム及びCO2分離方法
6日前
東京応化工業株式会社
感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体
5日前
東京応化工業株式会社
感光性組成物、積層体の製造方法、硬化パターン形成方法及び積層体
5日前
東京応化工業株式会社
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物
6日前
東京応化工業株式会社
膜形成用組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、積層体の製造方法及びCO2分離方法
6日前
東京応化工業株式会社
ネガ型感光性組成物、感光性レジストフィルム、中空構造体の製造方法、及びパターン形成方法
5日前
個人
撹拌羽根
24日前
東レ株式会社
複合半透膜
4日前
東ソー株式会社
ケトン捕捉剤
10日前
ホーコス株式会社
微粒子捕集装置
21日前
東レ株式会社
濾過方法
17日前
株式会社石垣
ろ材層の圧密状態判別方法
26日前
株式会社石垣
ろ材層の圧密状態制御方法
26日前
株式会社石垣
ろ材層の圧密状態制御方法
26日前
株式会社ナノバブル研究所
製造物
1か月前
日本化薬株式会社
プロピレン製造用触媒
25日前
ワシノ機器株式会社
複式ストレーナ
18日前
協和機電工業株式会社
正浸透膜モジュール
26日前
キヤノン電子株式会社
二酸化炭素回収装置
1か月前
株式会社トクヤマ
加熱装置及び表面処理装置
6日前
株式会社LIXIL
液体供給システム
6日前
大和ハウス工業株式会社
反応装置
26日前
個人
流体混合装置
6日前
東ソー株式会社
消臭性組成物及び脱臭フィルター
1か月前
株式会社神戸製鋼所
混練装置
3日前
続きを見る
他の特許を見る