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公開番号2025103906
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-09
出願番号2023221624
出願日2023-12-27
発明の名称基板保持装置、及び基板処理装置
出願人AIメカテック株式会社
代理人個人,個人
主分類H01L 21/683 20060101AFI20250702BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】反りが生じた基板であっても、良好に吸着保持する。
【解決手段】基板保持装置2は、ベース部30と、ベース部30に設けられ、基板100の中央部分に接触する保持面42fを有する中央部42と、ベース部30に中央部42を囲んで設けられ、中央部42から径方向外側に突出した基板100の外周部分に一周にわたって接触して変形可能な環状部50と、ベース部30、環状部50、及び基板100により形成される空間内を吸引する吸引部60と、を備える。
【選択図】図3

特許請求の範囲【請求項１】
ベース部と、
前記ベース部に設けられ、基板の中央部分に接触する保持面を有する中央部と、
前記ベース部に前記中央部を囲んで設けられ、前記中央部から径方向外側に突出した前記基板の外周部分に一周にわたって接触して変形可能な環状部と、
前記ベース部、前記環状部、及び前記基板により形成される空間内を吸引する吸引部と、を備える、基板保持装置。
続きを表示（約 730 文字）【請求項２】
前記環状部の先端面は、前記中央部の前記保持面に対して、前記ベース部から離れる方向に突出して設けられる、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記環状部は、前記中央部から径方向外側に離間して配置される、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記環状部は、
前記基板に接触する第１層と、
前記第１層と前記ベース部との間に配置され、前記第１層より剛性が低くかつ弾性変形可能な第２層と、を積層して設けられる、請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記第１層は、前記第２層より高い導電性を有し、かつ前記第２層より高い耐熱性を有する、請求項４に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記第１層は、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミドイミド、及びポリフェニレンサルファイドのうち少なくとも一つを含む材料から形成される、請求項５に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記第２層は、フッ素ゴム、ポリテトラフルオロエチレン、及びシリコーンゴムのうち少なくとも一つを含む材料から形成される、請求項４に記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記第２層は、多孔質体である、請求項７に記載の基板保持装置。
【請求項９】
前記中央部及び前記環状部は、前記第１層と同様の材質で形成された第３層を介して前記ベース部に取り付けられる、請求項４に記載の基板保持装置。
【請求項１０】
前記中央部は、前記第１層と同様の材質で形成される、請求項４に記載の基板保持装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板保持装置、及び基板処理装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
ガラス基板等の基板の表面にレジスト液等をコーティングする際、基板を洗浄液で洗浄する際等において、基板を真空吸着しつつ、基板を回転可能に保持する基板保持装置が用いられることがある。例えば、特許文献１には、スピンナーチャックの保持面に開口した吸引孔を囲むように、芯をゴムで形成しかつ表層を四フッ化フルオロエチレンとした二層構造のシールリングを備えた構成が開示されている。さらに、特許文献１には、スピンナーチャック表面に内側シールリングと外側シールリングとを同心状に設けた構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開平０６－０６１１３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板の製造過程で、基板に反りが生じることがある。反りが生じた基板を基板保持装置で真空吸着しようとすると、基板保持装置の保持面と基板との間に隙間が生じることがある。このように隙間が生じた状態では、基板と保持面との間の真空（負圧）が破壊され、基板の吸着ができなくなってしまう場合がある。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明は、反りが生じた基板であっても、良好に吸着保持することが可能な基板保持装置、及び基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１態様では、ベース部と、前記ベース部に設けられ、基板の中央部分に接触する保持面を有する中央部と、前記ベース部に前記中央部を囲んで設けられ、前記中央部から径方向外側に突出した前記基板の外周部分に一周にわたって接触して変形可能な環状部と、前記ベース部、前記環状部、及び前記基板により形成される空間内を吸引する吸引部と、を備える、基板保持装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２態様では、上記した基板保持装置を備える、基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
上記した態様によれば、反りの生じた基板であっても、ベース部に設けられた中央部の保持面が、基板の中央部分に接触し、環状部が、中央部から径方向外側に突出した基板の外周部分に、基板の反りに追従して接触するよう変形する。この構成により、吸引部で、ベース部、環状部、及び基板により形成される空間内を吸引することで、反りの生じた基板であっても、良好に吸着保持することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
実施形態に係る基板処理装置の一例を示す断面図である。
実施形態に係る基板保持装置の主要部を示す斜視図である。
実施形態に係る基板保持装置の主要部を示す断面図である。
実施形態に係る基板保持装置のテーブル本体を示す平面図である。
実施形態に係る基板保持装置の環状部上に基板を載せた状態を示す断面図である。
実施形態に係る基板保持装置の環状部上に基板を載せ、吸引部で吸引した状態を示す断面図である。
実施形態に係る基板保持装置の環状部上に、反っている基板を載せた状態を示す断面図である。
反っている基板を載せて吸引部で吸引した状態を示す要部断面図である。
実施形態に係る基板保持装置の環状部上に、反っている基板の他の例を載せた状態を示す断面図である。
反っている基板の他の例を載せて吸引部で吸引した状態を示す要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明は以下に説明する実施形態に限定されない。また、図面においては実施形態の各構成をわかりやすくするために、一部を大きく又は強調して、あるいは一部を簡略化して表しており、実際の構造又は形状、縮尺等が異なっている場合がある。
（【００１１】以降は省略されています）

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