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公開番号2025096017
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-26
出願番号2023212458
出願日2023-12-15
発明の名称基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人,個人
主分類H01L 21/02 20060101AFI20250619BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】モジュール洗浄のリトライ又は延長が発生した場合にも、装置のスループットの低下を抑制することにある。
【解決手段】基板処理装置であって、基板に対して処理を行う複数の処理モジュールと、前記基板を搬送する搬送機と、前記複数の処理モジュールの間で前記基板を搬送して処理する搬送タイムテーブルを作成し、前記搬送タイムテーブルに基づいて、前記搬送機による前記基板の搬送及び前記複数の処理モジュールでの基板処理を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記複数の処理モジュールのうち第1の処理モジュールで洗浄処理のリトライ又は延長が発生する又は発生したと判定したとき、前記第1の処理モジュールを使用不可とし、後続の基板が前記第1の処理モジュールを通らないように、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置。
【選択図】図10
特許請求の範囲【請求項１】
基板処理装置であって、
基板に対して処理を行う複数の処理モジュールと、
前記基板を搬送する搬送機と、
前記複数の処理モジュールの間で前記基板を搬送して処理する搬送タイムテーブルを作成し、前記搬送タイムテーブルに基づいて、前記搬送機による前記基板の搬送及び前記複数の処理モジュールでの基板処理を制御する制御装置と、を備え、
前記制御装置は、前記複数の処理モジュールのうち第１の処理モジュールで洗浄処理のリトライ又は延長が発生する又は発生したと判定したとき、前記第１の処理モジュールを使用不可とし、後続の基板が前記第１の処理モジュールを通らないように、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記制御装置は、洗浄処理のリトライ又は延長を実施した前記洗浄処理が完了する又は完了したことを判定したとき、前記第１の処理モジュールを使用可能とし、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記洗浄処理の途中に前記洗浄処理のリトライ又は延長が発生すると判定するときに、前記第１の処理モジュールを使用不可とし、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置。
【請求項４】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記制御装置は、前記洗浄処理のリトライ又は延長の途中に、更なるリトライ又は延長なしに前記洗浄処理が完了すると判定した場合に、前記第１の処理モジュールを使用可能とし、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置。
【請求項５】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記制御装置は、前記第１の処理モジュールを使用不可としている間に、前記複数の処理モジュールのうち第２の処理モジュールで洗浄処理のリトライ又は延長が発生する又は発生したと判定したとき、前記第２の処理モジュールを使用不可とし、後続の基板が前記第１及び第２の処理モジュールを通らないように、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置。
【請求項６】
請求項１又は２に記載の基板処理装置において、
前記洗浄処理は、めっきモジュールにおける基板ホルダのコンタクト洗浄、又は、任意の処理モジュールにおける槽洗浄である、基板処理装置。
【請求項７】
基板に対して処理を行う複数の処理モジュールと、基板を搬送する搬送機とを備える基板処理装置を制御する方法であって、
前記複数の処理モジュールの間で前記基板を搬送して処理する搬送タイムテーブルを作成し、前記搬送タイムテーブルに基づいて、前記搬送機による前記基板の搬送及び前記複数の処理モジュールでの基板処理を制御すること、
前記複数の処理モジュールのうち第１の処理モジュールで洗浄処理のリトライ又は延長が発生する又は発生したと判定したとき、前記第１の処理モジュールを使用不可とし、前記搬送タイムテーブルを更新すること、
を含む方法。
【請求項８】
基板に対して処理を行う複数の処理モジュールと、基板を搬送する搬送機とを備える基
板処理装置を制御する方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記複数の処理モジュールの間で前記基板を搬送して処理する搬送タイムテーブルを作成し、前記搬送タイムテーブルに基づいて、前記搬送機による前記基板の搬送及び前記複数の処理モジュールでの基板処理を制御すること、
前記複数の処理モジュールのうち第１の処理モジュールで洗浄処理のリトライ又は延長が発生する又は発生したと判定したとき、前記第１の処理モジュールを使用不可とし、前記搬送タイムテーブルを更新すること、
をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置、基板処理装置の制御方法、基板処理装置の制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラムを格納した記憶媒体に関する。
続きを表示（約 2,700 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置では、洗浄プロセスが多く、その中には基板（例えば、ウェハ）の洗浄のみならず、装置の処理モジュール（槽）の洗浄が必要なケースがある。処理モジュールの洗浄は、当該処理モジュールで基板を処理した後、再び基板が収納されるまでの間に行われる。例えば、特許第７１４２８１２号明細書（特許文献１）には、めっきモジュールにおいてめっき処理された基板を洗浄した後、基板ホルダのコンタクトを洗浄することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許第７１４２８１２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
洗浄時間は基本的に一定時間で完了するよう調整・設定されているが、何らかの原因により、洗浄をリトライ、又は延長しなければいけない場合がある。洗浄中の処理モジュールへは基板を収納できないので、次の基板が当該処理モジュールを使用（収納）する時間が後ろにずれしまう。そのような場合、モジュール洗浄が完了し使用可能になるまで待つことになるので、装置のスループットが低下してしまう虞がある。また、前記処理モジュールを次に使用する基板が前の／上流側の処理モジュールに存在する場合、プロセス間の時間が開きすぎて（プロセス制約／処理後放置時間上限が守れず）、基板が腐食してしまう原因にもなる。
【０００５】
本発明の目的は、上述した課題の少なくとも一部を解決することである。本発明の１つの目的は、モジュール洗浄のリトライ又は延長が発生した場合にも、装置のスループットの低下を抑制することにある。本発明の１つの目的は、モジュール洗浄のリトライ又は延長が発生した場合にも、プロセス制約が守れなくなる事態を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面によれば、基板処理装置であって、基板に対して処理を行う複数の処理モジュールと、前記基板を搬送する搬送機と、前記複数の処理モジュールの間で前記基板を搬送して処理する搬送タイムテーブルを作成し、前記搬送タイムテーブルに基づいて、前記搬送機による前記基板の搬送及び前記複数の処理モジュールでの基板処理を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記複数の処理モジュールのうち第１の処理モジュールで洗浄処理のリトライ又は延長が発生する又は発生したと判定したとき、前記第１の処理モジュールを使用不可とし、後続の基板が前記第１の処理モジュールを通らないように、前記搬送タイムテーブルを更新する、基板処理装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
基板処理装置の一例であるめっき装置の全体構成を示す斜視図である。
基板処理装置の一例であるめっき装置の全体構成を示す平面図である。
基板処理装置の一例であるめっき装置の制御構成を説明する説明図である。
搬送スケジューラによるスケジューリングの概略を説明する模式図である。
搬送スケジューラの入力及び出力の具体例を説明する模式図である。
搬送スケジューラの機能構成を示す模式図である。
めっきモジュールの構成を説明するための模式図である。
めっきモジュールにおける洗浄処理の一例を説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
洗浄リトライ時の基板搬送の流れを説明する説明図である。
搬送スケジューリングの流れを示すフローチャートである。
新規ジョブの搬送スケジューリングのフローチャートである。
モジュール洗浄リトライ時の搬送スケジューリングのフローチャートである。
モジュール洗浄完了時の搬送スケジューリングのフローチャートである。
他の実施形態に係る基板処理装置の全体構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の各実施形態において、同一または相当する部材には同一符号を付して重複した説明を省略する。また、本明細書において「上」、「下」、「左」、「右」等の表現を用いるが、これらは、説明の都合上、例示の図面の紙面上における位置、方向を示すものであり、装置使用時等の実際の配置では異なる場合がある。
【０００９】
ここでは、基板処理装置の一例として、めっき装置を例に挙げて説明する。なお、基板処理装置は、搬送スケジュールに基づいて基板を複数の処理モジュール間で搬送するめっき装置、ＣＭＰ装置、エッチング装置、その他任意の基板処理装置に適用可能である。めっき装置は、電解めっき装置又は無電解めっき装置の何れでもよい。めっき装置は、基板を横にした状態でめっきする横型のめっき装置（カップ式／フェースダウン式）、基板を立てた状態でめっきする縦型のめっき装置（ディップ式）、その他任意のめっき装置であってよい。基板は、円形、四角形等の多角形、その他の任意の形状の基板又は被処理物であってよい。基板は、半導体ウェハ、ガラス基板、液晶基板、プリント基板、その他任意の被処理物であってよい。
【００１０】
図１は、基板処理装置の一例であるめっき装置１０００の全体構成を示す斜視図である。図２は、基板処理装置の一例であるめっき装置１０００の全体構成を示す平面図である。図１及び図２に示すように、めっき装置１０００は、ロードポート１００、搬送ロボット１１０、アライナ１２０、プリウェットモジュール２００、プリソークモジュール３００、めっきモジュール４００、洗浄モジュール５００、スピンリンスドライヤ６００、搬送装置７００、及び、制御モジュール８００を備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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