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公開番号2025021576
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-14
出願番号2023125366
出願日2023-08-01
発明の名称顔料組成物、感光性組成物、ならびに有機EL表示装置
出願人東レ株式会社
代理人
主分類H10K 59/122 20230101AFI20250206BHJP()
要約【課題】ハーフトーン加工により一括形成された画素分割層およびスペーサー層の形成膜厚が厚い場合であっても、画素分割層およびスペーサー層形成時における基板の中央部に配置された発光画素の正常な点灯を維持しつつ、該基板の端部に配置された発光画素の非点灯が抑制された有機EL表示装置を得ることを可能とする、顔料組成物を提供すること。
【解決手段】
(a)-NHCO-基および/または-COO-基と、トリフェノジオキサジン骨格を分子内に有する顔料と、(b)式(1)で表される化合物および/または式(2)で表される化合物を含有する顔料組成物。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
（ａ）－ＮＨＣＯ－基および／または－ＣＯＯ－基と、トリフェノジオキサジン骨格を分子内に有する顔料と、（ｂ）式（１）で表される化合物および／または式（２）で表される化合物を含有する顔料組成物。
TIFF
2025021576000067.tif
68
170
（式（１）中、－Ｒ
１
および－ＳＯ
２
ＮＨＲ
２
Ｒ
３
は、ベンゼン環を構成する炭素原子と結合した置換基を表す。ｍ
１
およびｍ
２
は整数であり、それぞれ独立に、０～２を表す。ｍ
１
とｍ
２
の合計は１または２である。Ｒ
１
は－ＳＯ
３
Ｈまたは－ＳＯ
３
－
を表す。Ｒ
２
は単結合または炭素数１～３のアルキレン基を表す。Ｒ
３
は－ＳＯ
３
Ｈ、－ＳＯ
３
－
、－ＣＯＯＨおよび－ＣＯＯ
－
からなる群より選択される１つの基が置換したフェニル基、または－ＣＯＯＨ、または－ＣＯＯ
－
を表す。）
TIFF
2025021576000068.tif
66
170
（式（２）中、ＭはＶ＝Ｏ、Ｔｉ＝ＯまたはＺｎを表す。－Ｒ
４
、－ＳＯ
２
ＮＨＲ
５
Ｒ
６
、－Ｂｒおよび－Ｃｌは、ベンゼン環を構成する炭素原子と結合した置換基または原子を表す。
ｎ
１
およびｎ
２
は整数であり、それぞれ独立に、０～２を表す。ｎ
３
は整数であり、０～１４を表す。ｎ
４
は整数であり、０～５を表す。
ｎ
１
とｎ
２
とｎ
３
とｎ
４
の合計は１～１６であり、ｎ
１
とｎ
２
の合計は０～２である。
ｎ
１
とｎ
２
の合計が０のとき、ＭはＺｎであり、ｎ
３
は８～１４である。Ｒ
４
は－ＳＯ
３
Ｈまたは－ＳＯ
３
－
を表す。Ｒ
５
は単結合または炭素数１～３のアルキレン基を表す。Ｒ
６
は－ＳＯ
３
Ｈ、－ＳＯ
３
－
、－ＣＯＯＨおよび－ＣＯＯ
－
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記（ｂ）成分が式（２８）で表される化合物および／または式（２９）で表される化合物を含有する請求項１に記載の顔料組成物。
TIFF
2025021576000069.tif
66
170
（式（２８）中、－Ｒ
５１
は、ベンゼン環を構成する炭素原子と結合した置換基を表す。ｍ
３
は整数であり、１または２である。Ｒ
５１
は－ＳＯ
３
Ｈまたは－ＳＯ
３
－
を表す。）
TIFF
2025021576000070.tif
65
170
（式（２９）中、－Ｒ
５２
、－Ｂｒおよび－Ｃｌは、ベンゼン環を構成する炭素原子と結合した置換基または原子を表す。ｎ
５
とｎ
６
とｎ
７
の合計は１～１６である。ｎ
５
は整数であり、０～２を表す。ｎ
６
は整数であり、０～１４を表す。ｎ
７
は整数であり、０～５を表す。ｎ
５
が０のとき、ｎ
６
は８～１４である。Ｒ
５２
は－ＳＯ
３
Ｈまたは－ＳＯ
３
－
を表す。）
【請求項３】
高周波誘導結合プラズマ質量分析法（ＩＣＰ－ＭＳ）により定量されるＣｕ原子の含有量が顔料組成物の固形分中、１００質量ｐｐｍ以下である請求項１に記載の顔料組成物。
【請求項４】
さらに、（ｃ）ベンゾイミダゾール骨格とペリレン骨格を分子内に有する顔料を含有する請求項１に記載の顔料組成物。
【請求項５】
さらに、（ｄ）樹脂を含有し、該（ｄ）樹脂が式（４３）で表される繰り返し単位を有する樹脂および／または式（４４）で表される繰り返し単位を有する樹脂を含有する請求項１に記載の顔料組成物。
TIFF
2025021576000071.tif
51
170
（式（４３）中、Ｒ
６９
は水酸基が１つ置換したフェニル基、無置換のフェニル基または水素原子を表す。ｐは整数であり、０～２を表す。＊は結合部位を表す。）
TIFF
2025021576000072.tif
63
170
（式（４４）中、Ｒ
７０
は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ
７１
は単結合または－ＣＯＯ－基を表す。＊は結合部位を表す。）
【請求項６】
請求項１～５のいずれかに記載の顔料組成物に加えて、（ｄ）樹脂、（ｅ）有機溶剤、（ｆ）感光剤を含有する感光性組成物。
【請求項７】
前記（ｆ）成分が光酸発生剤を含有し、ポジ型感光性を有する請求項６に記載の感光性組成物。
【請求項８】
画素分割層およびスペーサー層を具備する有機ＥＬ表示装置であって、該画素分割層および該スペーサー層が、請求項６に記載の感光性組成物の硬化物を含有する有機ＥＬ表示装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、顔料組成物、感光性組成物、ならびに有機ＥＬ表示装置に関する。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、多様な有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が開発されており、従来はパネル前面部に配置されていた厚い偏光板を具備しない構造とすることで、偏光板による輝度のロスを無くし、消費電力の低減や表示装置としての製品寿命の向上が期待されている。有機ＥＬ表示装置の発光素子には各発光画素を隔てるため、画素分割層または画素定義層と呼ばれる絶縁層の機能を有するパターンが配置されている。偏光板の機能を代替するためには、太陽光などの外光反射を抑制する機能を付与する必要があり、遮光性を有する色材を含有させて画素分割層に遮光性を付与する技術が注目されている。また、視認性を向上して表示装置としての価値を高める上で、画素分割層の遮光性の向上が求められている。
【０００３】
ところで、パネル生産時の歩留まりを大幅に向上する目的で、画素分割層の開口部に発光層をパターン蒸着する際、画素分割層の表面の一部に凸状のスペーサー層を形成し、蒸着マスクと画素分割層との接触面積を少なくして欠陥部の発生を抑制する技術が知られている。画素分割層とスペーサー層を形成する方法としては、全透過部、半透過部および遮蔽部を面内に有するハーフトーン露光マスクを介して、少なくとも近紫外線を含む露光光を照射する露光工程を含むフォトリソグラフィ法により画素分割層とスペーサー層を一括して形成する技術（ハーフトーン加工）が知られている。ハーフトーン加工は、画素分割層を形成後、さらにスペーサー層を積層形成する二層加工と比べてプロセスコストを大幅に下げることができ、有機ＥＬ表示装置を経済的に有利に製造することができる。
【０００４】
遮光性を有する画素分割層とスペーサー層を一括形成するための材料としては、ハーフトーン加工性に優れ、高い露光感度と高い保存安定性を兼ね備えたポジ型感光性組成物が特許文献１に開示されている。該ポジ型感光性組成物には、近赤外線透過率、遮光性、耐熱性および絶縁性の高い有機顔料である、トリフェノジオキサジン系顔料やベンゾイミダゾール骨格を有するペリレン系顔料が適用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
国際公開第２０２２／２７０１８２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１で開示されたポジ型感光性組成物を用いて、より膜厚が厚くなるように形成することで遮光性が高められた画素分割層（例えば、膜厚２．５μｍ以上）およびスペーサー層（例えば、膜厚１．５μｍ以上）を具備する有機ＥＬ表示装置を駆動させたとき、画素分割層およびスペーサー層形成時における基板の中央部の領域に配置された発光画素は全て正常に点灯するが、該基板の端部の領域に配置された発光画素の少なくとも一部が点灯しないという課題が新たに見出された。一方、該基板の端部に発光画素を配置せずに済むように、基板サイズを大きくし、画素分割層およびスペーサー層を一括形成後、該基板の端部をカットして廃棄した場合、有効に利用できる面積の多大なロスに繋がり、経済的に不利となってしまう。
以上から、ハーフトーン加工により膜厚が厚くなるように形成されて遮光性が高められた画素分割層およびスペーサー層を具備する有機ＥＬ表示装置において、画素分割層およびスペーサー層形成時における基板の中央部に配置された発光画素の正常な点灯を維持しつつ、該基板の端部に配置された発光画素の非点灯を抑制する技術が切望された。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため本発明は、次の構成を有する。
［１］（ａ）－ＮＨＣＯ－基および／または－ＣＯＯ－基と、トリフェノジオキサジン骨格を分子内に有する顔料と、（ｂ）式（１）で表される化合物および／または式（２）で表される化合物を含有する顔料組成物。
【０００８】
TIFF
2025021576000002.tif
68
170
【０００９】
式（１）中、－Ｒ
１
および－ＳＯ
２
ＮＨＲ
２
Ｒ
３
は、ベンゼン環を構成する炭素原子と結合した置換基を表す。ｍ
１
およびｍ
２
は整数であり、それぞれ独立に、０～２を表す。ｍ
１
とｍ
２
の合計は１または２である。Ｒ
１
は－ＳＯ
３
Ｈまたは－ＳＯ
３
－
を表す。Ｒ
２
は単結合または炭素数１～３のアルキレン基を表す。Ｒ
３
は－ＳＯ
３
Ｈ、－ＳＯ
３
－
、－ＣＯＯＨおよび－ＣＯＯ
－
からなる群より選択される１つの基が置換したフェニル基、または－ＣＯＯＨ、または－ＣＯＯ
－
を表す。
【００１０】
TIFF
2025021576000003.tif
67
170
（【００１１】以降は省略されています）

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