意匠ウォッチ

発行日2024-05-20
公報種別意匠公報(S)
登録番号1770804
登録日2024-05-10
意匠に係る物品フォトマスク
意匠分類K0-790(K1～K9に属さないその他の産業用機械器具)
出願番号2023013047
出願日2021-09-27
意匠権者信越化学工業株式会社,SHIN-ETSU CHEMICAL CO.,LTD.
代理人個人,個人,個人
意匠に係る物品の説明本物品はフォトマスクである。この物品には、平面図及び底面図において一点鎖線で囲んだ領域の拡大図(参考拡大平面図)及び該拡大図の二点鎖線A-A’における断面図(参考断面図)に示すように、レーザが透過する開口を有している。この物品は、開口を通したレーザ照射により光デバイス(例えばLED)をリフト(LIFT:Laser Induced Forward Transfer)する方法で用いられる。
意匠の説明この物品は、詳細には、例えば5インチ角の石英ガラス基板にクロムが100～200nm蒸着されたクロムマスクである。石英ガラス基板は透明である。また、平面図及び底面図において一点鎖線で囲んだ領域が、部分意匠として意匠登録を受けようとする部分である。部分意匠として意匠登録を受けようとする部分の詳細を、参考拡大平面図及び参考断面図において実線で示している。破線で示された部分は、部分意匠として意匠登録を受けようとする部分ではない。なお、実寸寸法では開口を図示することが困難であるため、平面図及び底面図では、開口が設けられている領域をパターンで塗りつぶしている。参考拡大平面図は、平面図の一点鎖線で囲んだ部分を37.5倍に拡大した図である。参考断面図は、参考拡大平面図の二点鎖線A-A’における断面図である。ただし、参考拡大平面図及び参考断面図では、全てを示すと紙面に収まりきらないため、一部の図示を省略している。実線で示した開口は、例えば100μm×200μmの大きさであり、ピッチは150μmである。

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