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最新の26週分 101,511件 0.007秒
主分類 絞込み
G(物理学) 24,264
H(電気) 19,225
B(処理操作;運輸) 18,256
A(生活必需品) 17,895
C(化学;冶金) 8,944
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出願人 絞込み
キヤノン株式会社 2,959
トヨタ自動車株式会社 2,773
個人 2,421
パナソニックIPマネジメント.. 1,883
株式会社デンソー 1,569
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代理人 絞込み
個人 61,711
なし 7,622
特許業務法人酒井国際特許事務所 2,544
特許業務法人深見特許事務所 1,031
特許業務法人太陽国際特許事務所 706
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公開日 絞込み
2021-01-14(木) 2,996
2021-01-07(木) 2,993
2020-12-24(木) 2,992
2020-12-17(木) 3,958
2020-12-10(木) 3,495
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385 / 101,511
株式会社デンソー
コンデンサモジュール
ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング
呼吸栓及び呼吸栓を備える電子制御装置
富士電機株式会社
冷却構造
株式会社日立ハイテク
ウェハ観察装置およびウェハ観察方法
日立オートモティブシステムズ株式会社
ソレノイドコイル
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
選択素子、メモリセル、および、記憶装置
富士電機株式会社
窒化物半導体装置
イビデン株式会社
プリント配線板およびその製造方法
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
半導体装置
日東工業株式会社
電気機器収納用箱
パナソニックIPマネジメント株式会社
チップ抵抗器
パナソニックIPマネジメント株式会社
素子チップの洗浄方法、素子チップの洗浄装置ならびに素子チップの製造方法
株式会社ティラド
熱交換器
株式会社デンソー
パワーモジュールおよびその製造方法
新光電気工業株式会社
インダクタ、及びインダクタの製造方法
日本電信電話株式会社
グラフェン膜の保持方法、構造体
花王株式会社
半導体デバイス用基板に用いる洗浄剤組成物
花王株式会社
基板の洗浄方法
ルネサスエレクトロニクス株式会社
半導体装置およびその製造方法
国立研究開発法人産業技術総合研究所
半導体レーザ
国立研究開発法人産業技術総合研究所
半導体レーザ
日本ゼオン株式会社
熱伝導シートおよびその製造方法
日本ゼオン株式会社
熱伝導シートおよびその製造方法
学校法人東京理科大学
マグネシウムシリサイド及びその利用
株式会社豊田中央研究所
半導体装置
パナソニック株式会社
半導体発光素子及び半導体発光装置
東京エレクトロン株式会社
ガス導入構造、熱処理装置及びガス供給方法
住友金属鉱山株式会社
成膜装置および成膜方法
キヤノン株式会社
半導体装置、半導体モジュール、電子機器および撮像装置
学校法人関西学院
有機電界発光素子、表示装置および照明装置、ならびに化合物
キヤノン株式会社
半導体モジュール、電子機器、及びプリント配線板
サクサ株式会社
電子機器における防水構造
日本特殊陶業株式会社
プレーナコイル部品
株式会社豊田中央研究所
圧電セラミックス
信越ポリマー株式会社
放熱構造体およびそれを備えるバッテリー
日立オートモティブシステムズ株式会社
電子制御装置
日立オートモティブシステムズ株式会社
電子制御装置
株式会社アルバック
ドライエッチング方法及びデバイスの製造方法
積水化学工業株式会社
光電極及び色素増感型太陽電池
株式会社半導体エネルギー研究所
発光装置
株式会社半導体エネルギー研究所
電気推進車両
東芝ライテック株式会社
照明器具
昭和電工マテリアルズ株式会社
鉛蓄電池
三菱電機株式会社
照明制御システムの制御方法
三菱電機株式会社
照明器具および照明装置
アイメック・ヴェーゼットウェー
固体バッテリおよび製造方法
パイオニア株式会社
発光装置
日亜化学工業株式会社
発光装置
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