特許検索

東京エレクトロン株式会社

ピック、搬送装置及びプラズマ処理システム

エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ.

低温でのSiNの蒸着用Si前駆体

グローバルウェーハズ カンパニー リミテッド

低温流動性酸化物層を含む半導体オンインシュレータ構造およびその製造方法

株式会社村田製作所

高周波モジュール

株式会社半導体エネルギー研究所

表示装置

株式会社半導体エネルギー研究所

半導体装置

パナソニックIPマネジメント株式会社

多層プリント配線板、多層金属張積層板、樹脂付き金属箔

TDK株式会社

軟磁性金属粉末および圧粉磁心

株式会社村田製作所

電子機器

日東電工株式会社

絶縁樹脂材料、それを用いた金属層付絶縁樹脂材料および配線基板

株式会社半導体エネルギー研究所

表示装置

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

OLEDデバイスの製造に使用される真空システムを洗浄するための方法、OLEDデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための方法、及びOLEDデバイスを製造するための基板の上での真空堆積のための装置

エムティティ イノベーション インコーポレイテッド

複数レーザ光源

三洋化成工業株式会社

磁性粒子及び磁性粒子を用いた分離精製方法

モレックス エルエルシー

スペクトル及びパワー調整可能なASE光源

セメス カンパニー,リミテッド

基板処理設備及び基板処理方法

セメス カンパニー,リミテッド

基板処理装置及び方法

エルジー イノテック カンパニー リミテッド

磁気結合装置及びこれを含むフラットパネルディスプレイ装置

エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー

周期的プラズマ増強堆積プロセスによって形状選択的な酸化シリコン膜を形成する方法

エーピー システムズ インコーポレイテッド

チップ転写方法及びチップ転写装置

長生太陽能股ふん有限公司

太陽電池及びその製造方法

エーピー システムズ インコーポレイテッド

転写装置及び転写方法

株式会社デンソー

半導体装置

ジンヨングローバル カンパニーリミテッド

PCTフィルムを絶縁層とするフレキシブルプリント回路基板及びその製造方法

東京応化工業株式会社

エッチング液、及び半導体素子の製造方法

東京エレクトロン株式会社

プラズマ処理装置

株式会社荏原製作所

ノズル及び基板洗浄装置

国立大学法人京都大学

磁気メモリ素子

インテル コーポレイション

予め製造されたフェライトコアを有する同軸磁性インダクタ

日東電工株式会社

光半導体封止用樹脂成形物およびその製造方法

クアーズテック株式会社

窒化物半導体基板および窒化物半導体装置

日本特殊陶業株式会社

半導体素子の製造方法

JNC株式会社

放熱部材用組成物、可視光反射性放熱部材、発光デバイス、発光装置

JNC株式会社

放熱部材用組成物、放熱部材、電子機器

株式会社ディスコ

ワーク収容機構

東京エレクトロン株式会社

クリーニング条件の決定方法及びプラズマ処理装置

株式会社デンソー

半導体装置

株式会社デンソー

半導体チップの製造方法

日本シイエムケイ株式会社

リジッド・フレックス多層プリント配線板及びその製造方法

株式会社村田製作所

コイル部品およびその製造方法

パナソニックIPマネジメント株式会社

仮置きステージおよび部品搭載装置

パナソニックIPマネジメント株式会社

仮置きステージ、部品搭載装置および照明装置

パナソニックIPマネジメント株式会社

部品搭載装置

株式会社ジャパンディスプレイ

検出装置

アオイ電子株式会社

半導体装置の製造方法、および半導体装置

大日本印刷株式会社

伸縮性デバイス

株式会社村田製作所

インダクタ部品

KOA株式会社

チップ抵抗器の製造方法