TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2024162622
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-11-21
出願番号
2023078328
出願日
2023-05-11
発明の名称
半導体装置
出願人
富士電機株式会社
代理人
弁理士法人扶桑国際特許事務所
主分類
H01L
23/34 20060101AFI20241114BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】熱抵抗を低減する。
【解決手段】半導体チップ15bは、おもて面15b5に発熱点P1を有し、放熱ベース板30は、下面32に、側面視で半導体チップ15a,15bの中間地点の直下に対応する放熱点P0を有する。この際、発熱点P1から放熱点P0に至る放熱経路HPが構成され、間隔dの下限値は、チップ幅Lxに対する放熱経路HPの熱抵抗が最小となる間隔に基づき設定される。半導体チップ15a,15bをこのように設定された間隔dを空けて絶縁回路基板11のおもて面に配置されると、熱抵抗が低減されて、半導体装置(対象装置2)の放熱性が向上する。
【選択図】図4
特許請求の範囲
【請求項1】
上面と前記上面の反対側の下面とを有する基板と、
矩形状の第1おもて面と平面視で前記第1おもて面の四方のいずれかに設けられ、所定のチップ幅を有する第1側面とを備え、前記第1側面が第1方向を向いて前記基板の前記上面に接合される第1半導体チップと、
矩形状の第2おもて面と平面視で前記第2おもて面の四方のいずれかに設けられ、前記チップ幅を有する第2側面とを備え、前記第2側面が前記第1方向を向いて、前記第1半導体チップから前記第1方向に直交する第2方向に間隔を空けて前記基板の前記上面に接合される第2半導体チップと、
を含み、
前記第1半導体チップは、前記第1おもて面に発熱点を有し、
前記基板は、前記下面に、側面視で前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップの中間地点の直下に対応する放熱点を有し、
前記発熱点から前記放熱点に至る放熱経路が構成され、
前記間隔の下限値は、前記チップ幅に対する前記放熱経路の熱抵抗が最小となる第1間隔に基づき設定される、
半導体装置。
続きを表示(約 1,000 文字)
【請求項2】
前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップは同種の素子を含み、
前記第1半導体チップの前記第1おもて面と前記第2半導体チップの前記第2おもて面とは、平面視で、同じ形状及び同じ面積であって、
前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップの厚さは等しい、
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項3】
前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップに含まれる前記素子は、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ、または、絶縁ゲート電界効果トランジスタである、
請求項2に記載の半導体装置。
【請求項4】
側面視で、前記基板の前記下面から前記第1半導体チップの前記第1おもて面までの積層厚さが構成され、
前記間隔の上限値は、前記第1間隔と前記積層厚さの2倍となる第2間隔とに基づき設定される、
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項5】
前記熱抵抗は、前記発熱点の温度と前記放熱点の温度との差に基づき算出され、
前記第1間隔は、前記チップ幅ごとの前記間隔に対して前記放熱経路の前記熱抵抗が最小となる最小熱抵抗と、それぞれの前記チップ幅とから算出される近似曲線から得られる、
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項6】
前記基板は、放熱板と前記放熱板のおもて面に第1接合部材を介して設けられた絶縁基板とを含み、
前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップは前記基板の前記上面である前記絶縁基板のおもて面に第2接合部材を介して接合されている、
請求項1に記載の半導体装置。
【請求項7】
前記第1接合部材及び前記第2接合部材は、はんだを主成分とする、
請求項6に記載の半導体装置。
【請求項8】
前記絶縁基板は、絶縁板と前記絶縁板の裏面に形成された金属板と前記絶縁板のおもて面に形成された導電板と、を含む、
請求項6に記載の半導体装置。
【請求項9】
前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップは、同一の前記導電板のおもて面に接合される、
請求項8に記載の半導体装置。
【請求項10】
前記絶縁板は、セラミックスまたは樹脂を主成分として構成されている、
請求項8に記載の半導体装置。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体装置に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体装置は、ベース板、樹脂層、回路パターンが順に積層された絶縁回路基板と回路パターン上に接合された半導体チップとを含んでいる。半導体チップは、回路パターンの外周端部から側端部が所定の距離以上、内側に配置されている。これにより半導体チップによる回路パターンの熱拡散部が干渉されず、半導体チップに対する回路パターンの放熱性の低下が抑制される(例えば、特許文献1を参照)。
【0003】
また、半導体チップを複数個並列に接続するときに、半導体チップ相互間の距離を、半導体チップとヒートシンクとの間よりも短くし、また、半導体チップとヒートシンクを付けた支持体との間に過度熱インピーダンス低減材、過度熱インピーダンス増大材を介在させる。これにより、半導体チップ相互間の過度熱インピーダンスが半導体チップとヒートシンクとの間の過渡熱インピーダンスよりも小さくなる(例えば、特許文献2を参照)。
【0004】
また、半導体チップを複数個並列に接続するときに、スイッチング素子を含む半導体チップを千鳥状に配置し、それらの間にダイオード素子を含む半導体チップを配置する。これにより、半導体チップの発熱を効率良く拡散させることができる(例えば、特許文献3を参照)。
【0005】
また、金属ベースは、厚さの薄い天板部と当該天板部より厚い外周部とを当該天板部の裏面に設けられた放熱フィンとを含んでいる。このような金属ベースの天板部上に絶縁基板を介して複数の半導体チップが配置される。このような金属ベースにより、良好な放熱性により熱抵抗を低減でき、複数の半導体チップ間の熱干渉を抑制することができる(例えば、特許文献4を参照)。
【0006】
また、パワー半導体から発生する熱流は、通常、斜め45°の角度で拡散し広がる性質がある(例えば、特許文献5を参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
国際公開第2022/044541号
特開2003-243648号公報
特開2002-368192号公報
国際公開第2013/141154号
特開2006-319146号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、熱抵抗が低減された半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明の一観点によれば、上面と前記上面の反対側の下面とを有する基板と、矩形状の第1おもて面と平面視で前記第1おもて面の四方のいずれかに設けられ、所定のチップ幅を有する第1側面とを備え、前記第1側面が第1方向を向いて前記基板の前記上面に接合される第1半導体チップと、矩形状の第2おもて面と平面視で前記第2おもて面の四方のいずれかに設けられ、前記チップ幅を有する第2側面とを備え、前記第2側面が前記第1方向を向いて、前記第1半導体チップから前記第1方向に直交する第2方向に間隔を空けて前記基板の前記上面に接合される第2半導体チップと、を含み、前記第1半導体チップは、前記第1おもて面に発熱点を有し、前記基板は、前記下面に、側面視で前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップの中間地点の直下に対応する放熱点を有し、前記発熱点から前記放熱点に至る放熱経路が構成され、前記間隔の下限値は、前記チップ幅に対する前記放熱経路の熱抵抗が最小となる第1間隔に基づき設定される、半導体装置が提供される。
【0010】
また、前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップは同種の素子を含み、前記第1半導体チップの前記第1おもて面と前記第2半導体チップの前記第2おもて面とは、平面視で、同じ形状及び同じ面積であって、前記第1半導体チップ及び前記第2半導体チップの厚さは等しくてよい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
富士電機株式会社
集積回路
3日前
富士電機株式会社
鉄道車両
17日前
富士電機株式会社
自動販売機
2日前
富士電機株式会社
金銭処理機
26日前
富士電機株式会社
半導体装置
1か月前
富士電機株式会社
半導体装置
1か月前
富士電機株式会社
半導体装置
3日前
富士電機株式会社
回路遮断器
3日前
富士電機株式会社
ガス遮断器
17日前
富士電機株式会社
半導体装置
16日前
富士電機株式会社
半導体装置
25日前
富士電機株式会社
静止誘導電器
2日前
富士電機株式会社
飲料製造装置
1か月前
富士電機株式会社
液体供給装置
26日前
富士電機株式会社
商品収納装置
1か月前
富士電機株式会社
飲料提供装置
1か月前
富士電機株式会社
認証システム
1か月前
富士電機株式会社
ショーケース
1か月前
富士電機株式会社
電力変換装置
17日前
富士電機株式会社
電力変換装置
1か月前
富士電機株式会社
商品収納装置
3日前
富士電機株式会社
電力変換装置
3日前
富士電機株式会社
テープ貼付装置
1か月前
富士電機株式会社
ワーク搬送装置
25日前
富士電機株式会社
化合物半導体装置
24日前
富士電機株式会社
ガス絶縁開閉装置
16日前
富士電機株式会社
半導体モジュール
17日前
富士電機株式会社
燃料電池システム
25日前
富士電機株式会社
プロセッサシステム
1か月前
富士電機株式会社
検査装置、検査方法
1か月前
富士電機株式会社
自動販売機システム
1か月前
富士電機株式会社
半導体装置の製造方法
1か月前
富士電機株式会社
マルチデバイスシステム
16日前
富士電機株式会社
駆動装置及び電力変換装置
24日前
富士電機株式会社
傾斜機能材料成形体の製造方法
3日前
富士電機株式会社
炭化珪素半導体装置の製造方法
1か月前
続きを見る
他の特許を見る