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発行日2024-10-17
公報種別意匠公報(S)
登録番号1782543
登録日2024-10-08
意匠に係る物品プラズマ処理装置用サセプタリング
意匠分類K0-790(K1～K9に属さないその他の産業用機械器具)
出願番号2023020294
出願日2023-09-29
意匠権者株式会社日立ハイテク
代理人弁理士法人磯野国際特許商標事務所
意匠に係る物品の説明本物品は、半導体製造で使われるプラズマ処理装置に用いられるサセプタリングであり、主にステージをプラズマから保護するためのものである。本物品は二つの部分に分離可能であり、通常は、該二つの部分を組み合わせた状態で使用される。
意匠の説明「分離した状態の斜視図1」は正面・平面・右側面側から見た図であり、「分離した状態の斜視図2」は背面・底面・左側面側から見た図である。「正面・平面・右側面側からの斜視図」、「分離した状態の斜視図1」中、他の六面図に表れていない細線は、いずれも立体表面の形状を特定するためのものである。
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