意匠ウォッチ

発行日2025-09-18
公報種別意匠公報(S)
登録番号1808738
登録日2025-09-09
意匠に係る物品半導体製造用ウエハ用支持具
意匠分類K0-790(K1～K9に属さないその他の産業用機械器具)
出願番号2025010199
出願日2025-05-23
意匠権者エピクルー株式会社
代理人弁理士法人白坂
意匠に係る物品の説明この意匠に係る物品は、半導体製造装置における薄膜結晶成長技術であるエピタキシャル成長装置の反応チャンバ内で用いられる半導体製造用ウエハ用支持具である。半導体製造用ウエハ用支持具はサセプタの上面に半導体ウエハを載置し、半導体ウエハを加熱して半導体ウエハの薄膜を成長させる。半導体製造用ウエハ用支持具は、半導体ウエハが載置される円盤状のサセプタと、サセプタを支持し上下に昇降する3本の短い腕部を有するサポートアームと、サポートアームよりも長い3本の腕部を有しサポートアームの降下時にサポートアームの腕部を収容するスリット部を備えるウエハーリフトと、ウエハーリフトの腕部の先端に当接しサセプタを貫通しサポートアームの降下に伴ってサセプタも降下した際にサセプタ上の半導体ウエハをサセプタの上面から浮かせるリフトピンを有する。
意匠の説明実線で示した部分が部分意匠として登録を受けようとする部分である。「上方斜視図」および「下方斜視図」は、半導体製造用ウエハ用支持具の外観を斜め方向から見た様子を示す。「A-A線近傍の拡大図1」と「A-A線近傍の拡大図2」は右側面図における部分拡大図であり、「A-A線近傍の拡大図1」はサポートアームの上昇時を示し、「A-A線近傍の拡大図2」はサポートアームの降下時でありリフトピンがサセプタから突出している状態を示す。

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