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公開番号
2025060634
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-04-10
出願番号
2024212996,2023504203
出願日
2024-12-06,2021-08-10
発明の名称
光学コンポーネントアライメントのための装置及び方法
出願人
サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
G03F
7/20 20060101AFI20250403BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約
【課題】光学コンポーネントアライメントのための装置及び方法を提供する。
【解決手段】像統合光学システムを使用して正しいビームアライメントを容易にするためにミラーなどの光学コンポーネントをアライメントするための装置及び方法が、左ミラーバンク及び右ミラーバンクの両方からなどの複数の光学フィーチャからの像を統合して、カメラシステムに像を同時に提示するために使用される。蛍光材料を使用して、ビームフットプリントを目に見える状態にすることができ、フットプリント及びアライメントフィーチャの相対位置を使用して、光学フィーチャをアライメントすることができる。
【選択図】 図9B
特許請求の範囲
【請求項1】
可視光を透過させるウィンドウを含む、密閉エンクロージャと、
前記エンクロージャ内の第1の位置に位置決めされた第1の光学フィーチャと、
前記エンクロージャ内の第2の位置に位置決めされた第2の光学フィーチャと、
前記第1の光学フィーチャから第1の光学フィーチャ光、及び前記第2の光学フィーチャから第2の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、前記第1の光学フィーチャ光及び前記第2の光学フィーチャ光を前記ウィンドウを通して方向転換させ、前記第2の光学フィーチャ光からの像と並置される前記第1の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、像統合モジュールと、
を含む、光学コンポーネント。
続きを表示(約 1,000 文字)
【請求項2】
前記光学コンポーネントが、光パルスストレッチャである、請求項1に記載の光学コンポーネント。
【請求項3】
前記第1の光学フィーチャが第1のミラーを含み、前記第2の光学フィーチャが第2のミラーを含む、請求項1に記載の光学コンポーネント。
【請求項4】
前記第1のミラーが第1の凹面ダイクロイックミラーを含み、前記第2のミラーが第2の凹面ダイクロイックミラーを含む、請求項3に記載の光学コンポーネント。
【請求項5】
前記第1の光学フィーチャ及び前記第2の光学フィーチャが、前記像統合モジュールに対して実質的に対称的に位置決めされる、請求項1に記載の光学コンポーネント。
【請求項6】
前記像統合モジュールが、前記第1の光学フィーチャからの光を方向転換させるように配置された第1の反射面、及び前記第2の光学面からの光を方向転換させるように配置された第2の反射面を含む、請求項1に記載の光学コンポーネント。
【請求項7】
前記第1の反射面が、第1のプリズムの第1のプリズム反射面を含み、前記第2の反射面が、第2のプリズムの第2のプリズム反射面を含む、請求項6に記載の光学コンポーネント。
【請求項8】
前記像統合モジュールが、前記第1の光学フィーチャに向けて配向された第1の反射面と前記第2の光学フィーチャに向けて配向された第2の反射面とを有するプリズムを含む、請求項1に記載の光学コンポーネント。
【請求項9】
前記像統合モジュールが、2つの平坦面取りミラーを含む、請求項1に記載の光学コンポーネント。
【請求項10】
前記エンクロージャ内の第3の位置に位置決めされた第3の光学フィーチャと、
前記エンクロージャ内の第4の位置に位置決めされた第4の光学フィーチャと、
をさらに含み、
前記像統合モジュールが、前記第3の光学フィーチャから第3の光学フィーチャ光、及び前記第4の光学フィーチャから第4の光学フィーチャ光を受け取るように配置され、前記ウィンドウを通して前記第3の光学フィーチャ光及び前記第4の光学フィーチャ光を結合し、方向転換させて、前記第4の光学フィーチャ光からの像と並置される前記第3の光学フィーチャ光からの像を形成するように適応した、請求項1に記載の光学コンポーネント。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
関連出願の相互参照
[0001] 本出願は、2020年8月31日に出願され、参照により本明細書に全体として援用される、「APPARATUS FOR AND METHOD OF OPTICAL COMPONENT ALIGNMENT」という名称の米国特許出願第63/072,390号に対する優先権を主張するものである。
続きを表示(約 2,400 文字)
【0002】
[0002] 本開示は、例えばリソグラフィ装置で使用される光学コンポーネントをアライメントするためのシステム及び方法に関し、特に、レーザ源の出力のパルスを引き伸ばすのに有用な光パルスストレッチャのコンポーネントに関する。
【背景技術】
【0003】
[0003] リソグラフィ装置は、半導体材料のウェーハなどの基板上に(通常、基板のターゲット部分上に)、所望のパターンを施す。ウェーハの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、パターニングデバイス(これは、代替的にマスク又はレチクルと呼ばれる)が使用され得る。パターンの転写は、一般的に、基板上に設けられる放射感応性材料(レジスト)層上へのイメージングによって達成される。一般に、単一の基板は、連続してパターン形成される隣接ターゲット部分を含む。
【0004】
[0004] リソグラフィ装置は、パターン全体を1回でターゲット部分上に露光させることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、所与の方向(「スキャン」方向)に放射ビームを用いてパターンをスキャンすると同時に、この方向に対して平行又は逆平行に基板を同期してスキャンすることによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。本明細書では、簡単にするために、ステッパ及びスキャナの両方を単にスキャナと呼ぶ。
【0005】
[0005] パターンを照明し、それを基板上に投影するために使用される光源は、幾つかの構成のうちの任意のものでもよい。リソグラフィシステムでよく使用される深紫外線エキシマレーザは、248nmの波長のフッ化クリプトン(KrF)レーザ、及び193nmの波長のフッ化アルゴン(ArF)レーザを含む。レーザ源は、高出力ガス放電レーザシステムの出力のパルスを引き伸ばすための光パルスストレッチャを含み得る。
【0006】
[0006] リソグラフィスキャナ性能のより新しい要件は、パルス長の時間積分二乗(TIS(time integral square))によって測定される、より長いパルス長を必要とする。例えば、チップフィーチャのエッジ配置誤差(EPE)の改善は、より長いTISを必要とする。パルスを引き伸ばして所望のTISを達成するために、光パルスストレッチャ(OPuS)が使用される。TISの増加は、より大きいOPuSを必要とする。OPuSのサイズを増大させることにより、OPuSのコンポーネントが適切な光学アライメント状態にあることがさらに一層重要になる。
【0007】
[0007] OPuSのコンポーネントをアライメントする従来の方法は、OPuSエンクロージャを開けること、及びアライメントされるコンポーネントの光学面付近にターゲットカードを物理的に位置決めすることを伴う。次に、ターゲットカードのビームのランディング位置に基づいて、到来ビームがアライメントされる。次に、アライメントを必要とする光学コンポーネントのすべてが適切にアライメントされるまで、ターゲットカードが、アライメントを必要とする次の光学コンポーネントへと移され続ける。
【0008】
[0008] オープンビームペーパーターゲットアライメント(open beam paper target alignment)と呼ばれることがあるこのアライメントプロセスは、カードを配置するために、密閉されたレーザエンクロージャを開けることを必要とする。それは、オープンビーム操作のリスクを伴い、アライメントを行う人の肌をUV放射にさらすことを回避するために、非常に注意深く実行される必要がある。また、それは時間がかかり、大量のマニピュレーション及び他の手動操作を必要とする。それは、アライメントが行われている光学面を汚染にさらし、重要な光学コンポーネントの光学的寿命の減少をもたらし得る。さらに、ビームアライメントターゲットを確立する複雑さ、及びビーム位置の主観的判断により、正確なアライメントを達成することも難しい。
【発明の概要】
【0009】
[0009] 以下は、実施形態の基本的理解をもたらすために、1つ又は複数の実施形態の簡潔な概要を提示する。この概要は、すべての企図される実施形態の広範囲に及ぶ要約ではなく、すべての実施形態の重要な又は必須の要素を識別することも、何れか又はすべての実施形態の範囲を詳述することも意図していない。その唯一の目的は、下記に提示される、より詳細な説明への導入部として、単純化した形で1つ又は複数の実施形態の幾つかの概念を提示することである。
【0010】
[0010] ある実施形態のある態様によれば、正しいビームアライメントを容易にするために、カメラシステムを使用して、ミラーなどのOpuSコンポーネント上のビーム位置がモニタリングされる。幾つかの実施形態では、左ミラーバンク及び右ミラーバンクの両方からなどの複数の光学フィーチャからの像を統合して、カメラシステムに像を同時に提示するために、像統合光学システムが使用される。これは、設計を単純化し、フィーチャを個々に検査するための複数のカメラを有する費用を回避する。ある実施形態のある態様によれば、カメラシステムは、オープンビーム操作のリスクを軽減し、及びパージの破壊を回避するために、OPuSエンクロージャのパージボリュームの外に設置される。本明細書では、「カメラ」という用語は、像を捕捉する(変換する)ためのあらゆるデバイス、システム、又は配置を包含することが意図される。
(【0011】以降は省略されています)
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