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公開日2025-11-10
公報種別公開商標公報
出願番号2025125290
出願日2025-10-30
区分第9類(機械器具)
商品役務半導体の検査及び試験装置,半導体集積回路検査装置,半導体集積回路の電気的特性検査装置,大規模集積回路試験機,集積回路及び半導体メモリ検査装置,物理学実験用機械器具,ダイオード,ICチップ,フォトマスク用ガラス,プリント回路基板又はディスプレイ素子の組立て加工に用いられるフォトマスク製造用ガラス,半導体,半導体基板,超小型回路,シリコンウェハー,シリコンチップ,単結晶シリコンウェハ,集積回路用シリコンウェハー,半導体シリコンウェハー全 33 件を表示,集積回路,電子回路,半導体チップ,電子計算機・半導体・集積回路・その他の電子応用機械器具及びその部品,大規模集積回路,半導体メモリー装置,回路基板の電気検査に用いられるプローブ,半導体試験用プローブ,集積回路試験用プローブ,プローブ(「医療用機械器具」に属するものを除く。),回路計,検査用精密測定機械器具,ウエハ検査装置,コンピュータソフトウェア,コンピュータプログラム
出願人衡通工業科技股ふん有限公司,Quaternity Industrial Tech Co., Ltd.
代理人TRY国際弁理士法人
OCRテキストuaterni
OCRについて
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