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公開日2025-09-19
公報種別公開商標公報
出願番号2025103969
出願日2025-09-10
区分第7類(機械)
商品役務半導体製造装置,超純水用帯電防止器,半導体製造工程における半導体ウエハ・半導体素子・集積回路の洗浄装置,半導体製造工程における超純水の帯電防止装置,液晶パネル製造工程における超純水の帯電防止装置
出願人日本碍子株式会社
代理人
OCRテキストMEGCON
OCRテキスト2
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