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公開日2025-07-02
公報種別公開商標公報
出願番号2025070532
出願日2025-06-24
区分第7類(機械)
商品役務産業用ロボット並びにその部品及び附属品,洗浄用電気機械装置並びにその部品及び附属品,金属加工機械器具並びにその部品及び附属品,化学機械器具並びにその部品及び附属品,プラスチック加工機械器具並びにその部品及び附属品,半導体製造装置並びにその部品及び附属品,半導体基板製造装置並びにその部品及び附属品,半導体製造用リフトオフ装置,リフトオフ装置(半導体基板製造用のもの),半導体製造用レジスト剥離装置,レジスト剥離装置(半導体基板製造用のもの),自動酸洗浄装置(半導体基板製造用のもの),マルチプロセス用多段式洗浄装置(半導体基板製造用のもの),半導体製造用洗浄装置,半導体基板・半導体ウエハー用剥離洗浄装置,半導体基板・半導体ウエハー用洗浄装置,半導体基板・半導体ウエハー用剥離装置,半導体製造用エッチング装置,ゴム製品製造機械器具並びにその部品及び附属品
出願人株式会社ダルトン
代理人弁理士法人飯島国際商標特許事務所,個人,個人,個人,個人
OCRテキストC-Flush System シーフラッシュンステム
OCRテキスト2
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