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公開日2025-01-14
公報種別公開商標公報
出願番号2024140694
出願日2024-12-27
区分第40類(製造・加工)
商品役務半導体ウエハーの加工,半導体集積回路用ウエハーの加工処理,受託による半導体・ウエハーおよび集積回路の加工,半導体及び集積回路の受託加工,半導体の製造に関する情報の提供,受託による半導体ウェハーの製造,半導体素子及び集積回路の加工に関する情報の提供,半導体ウェハーへのイオン照射加工
出願人住重アテックス株式会社
代理人個人
OCRテキストSらドーK昌1 1
OCRテキスト2
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