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公開日2024-11-07
公報種別公開商標公報
出願番号2024115702,98/623,818
出願日2024-10-29
区分第7類(機械)
商品役務半導体基板製造装置,急速熱処理による熱処理又はアニール処理用半導体基板製造装置,半導体基板洗浄用装置,半導体基板製造用成膜装置,マイクロ波源を有する熱処理又はアニール処理用半導体製造装置,半導体基板製造用熱処理装置,マイクロ波源による熱処理装置(半導体基板製造装置),半導体製造装置並びにその部品及び付属品,半導体基板製造装置並びにその部品及び付属品
出願人マットソン テクノロジイ インコーポレイテッド
代理人弁理士法人谷・阿部特許事務所
OCRテキストACTIVIOS
OCRテキスト2ACTIVIOS
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