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公開日2024-10-02
公報種別公開商標公報
出願番号2024101872
出願日2024-09-20
区分第1類(化学品)
商品役務ヘリウム,酸類,無水物,窒素化合物,電池用電解液,工業用無機塩類,有機ハロゲン化物,工業用アイソトープ,半導体製造用エッチング液,半導体製造用の半導体ウエハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質
出願人邯鄲市浄化設備研究所,Purification Equipment Research Institute of CSSC
代理人個人
OCRテキスト飲ri
OCRテキスト2Peric
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