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公開日2024-08-23
公報種別公開商標公報
出願番号2024088426
出願日2024-08-15
区分第1類(化学品)
商品役務半導体製造用の半導体ウエハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質,半導体製造用化学品,工業用化学品,工業用接着剤,写真材料,写真用化学剤,フォトレジスト,パウダー状・液状又はペースト状の原料としての未加工人造樹脂,原料プラスチック
出願人JSR株式会社,JSR CORPORATION
代理人弁理士法人エスエス国際特許事務所
OCRテキストJSRKR NSC
OCRテキスト2JSR NSC
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