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公開日
2024-08-23
公報種別
公開商標公報
出願番号
2024088426
出願日
2024-08-15
区分
第1類(化学品)
商品役務
半導体製造用の半導体ウエハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質
,
半導体製造用化学品
,
工業用化学品
,
工業用接着剤
,
写真材料
,
写真用化学剤
,
フォトレジスト
,
パウダー状・液状又はペースト状の原料としての未加工人造樹脂
,
原料プラスチック
出願人
JSR株式会社
,
JSR CORPORATION
代理人
弁理士法人エスエス国際特許事務所
OCRテキスト
JSRKR NSC
OCRテキスト2
JSR NSC
OCRについて
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