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公開日
2024-08-08
公報種別
公開商標公報
出願番号
2024083098
出願日
2024-07-31
区分
第7類(機械)
商品役務
真空成膜装置
,
真空薄膜形成装置
,
真空蒸着装置
,
スパッタリング装置
,
薄膜形成装置
出願人
日立造船株式会社
代理人
弁理士法人深見特許事務所
OCRテキスト
SOV18&
OCRテキスト2
Sovia
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