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公開日2024-07-29
公報種別公開商標公報
出願番号2024078408
出願日2024-07-19
区分第7類(機械)
商品役務半導体ウエハ・集積回路の乾燥・洗浄・エッチング装置,集積回路製造装置及びその部品,洗浄装置,清浄用電気機械装置,半導体ウエハー加工装置,電動式の化学機械器具,廃棄物処理機,半導体製造装置
出願人上海至純潔浄系統科技股ふん有限公司,PNC Process Systems Co.,Ltd,至微半導体(上海)有限公司,Ultron Semiconductor(Shanghai)Co.,Ltd.
代理人個人,個人
OCRテキストULICUIN
OCRテキスト2ULTRON
OCRについて
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