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公開日2023-11-17
公報種別公開商標公報
出願番号2023124585
出願日2023-11-09
区分第1類(化学品)
商品役務化学品,工業用化学品,半導体の製造に使用される化学品,めっき用化学品,めっき液,めっき液添加剤,めっき助剤,金属表面処理剤,金属表面洗浄用化学剤,エッチング剤,剥離剤,金属めっき用化学品,金属めっき用化学合成物,半導体製造・半導体デバイス製造及び半導体パッケージングに使用する化学薬品及びめっき薬品,半導体製造・半導体デバイス製造及び半導体パッケージングに使用するめっき液・めっき液添加剤及びめっき助剤,パッケージ基板及びプリント配線板に使用する化学薬品及びめっき薬品,パッケージ基板及びプリント配線板に使用するめっき液・めっき液添加剤及びめっき助剤,工業用界面活性剤全 23 件を表示,製造工程用洗浄剤,エッチング液(酸類),半導体製造用エッチング液,プリント回路基板製造用エッチング液,パッケージ基板製造用エッチング液
出願人株式会社JCU
代理人弁理士法人もえぎ特許事務所
OCRテキストNEZAKRK
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