TOP特許意匠商標
商標ウォッチ Twitter
公開日2024-10-17
公報種別公開国際商標公報
国際登録番号1805121
国際登録日2024-05-27
区分第1類(化学品)
商品役務Imaging agents for the manufacture of printed circuit boards; imaging agents for semiconductors; photoresist liquid (film) for semiconductor; chemical solvent for removing photoresist and welding agent of circuit board and electronic parts; industrial chemicals; polish removing substances; fluorescent powder; photosensitive dry film for circuit boards (chemical preparation); photosensitizer; imaging agent.
基礎出願番号
基礎出願日
基礎出願国
出願人HUNAN INITIAL NEW MATERIALS CO., LTD.
OCRテキストResoPoWer
OCRテキスト2ResoPower
OCRについて
この商標をJ-PlatPatで参照する

関連商標

Del Monte International GmbH
6日前
BASF Beauty Care Solutions France S.A.S.
今日
Clover Corporation Limited
CholineXcel
5日前
ZEG Power AS
今日
Nanjing COSMOS Chemical Co., Ltd.
今日
Lydian Labs, Inc.
今日
Tubulis GmbH
今日
Tubulis GmbH
今日
Tubulis GmbH
今日
Tubulis GmbH
今日
Sartorius Stedim North America Inc.
今日
Hueck Folien Gesellschaft m.b.H.
今日
LIPOTRUE, S.L.
今日
Gen-Probe Incorporated
今日
Pierce Biotechnology, Inc.
今日
EDITCO BIO, INC.
今日
Corregene Biotechnology Co., Ltd.
CorEngager
5日前
Remosa Srl
今日
PARFEX
今日
ABRADEM CORPORATION
今日
Trailhead Biosystems, Inc.
今日
MGI TECH CO., LTD.
FluoXpert
今日
R & H Minerals BV
ORIGINAL ECHSTEIN ZECH INSIDE MAGNESIUM
今日
Alcogroup
ALCOTRA
今日
Createc GmbH & Co. KG
TheInsideAdvantage
今日
Miracll Chemicals CO.,LTD.
MiraNco
今日
Avantium Technologies B.V.
今日
SIPOL S.P.A.
SIPOLPRENE
今日
SIPOL S.P.A.
TECHNIPOL
今日
SIPOL S.P.A.
SIPOL
今日
iOmx Therapeutics AG
IOMX
今日
DONGSUNG CHEMICAL CO., LTD.
DongsungFinetec
5日前
Milk Specialties Company
今日
LG CHEM, LTD.
Uniqable
6日前
Westlake Corporation
6日前
Samyang Holdings Corporation
SAMYANG
6日前
続きを見る