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公開日2025-07-29
公報種別公開商標公報
出願番号2025082041
出願日2025-07-18
区分第3類(化粧品)
商品役務半導体研磨用化学品,半導体研磨用スラリー,電子基板研磨用スラリー,砥粒又は非砥粒の研磨用スラリー,研磨材(手動工具として用いるものを除く。),研磨用スラリー,研磨用化学剤,研磨紙,研磨布,研磨パッド,つや出し布,つや出し剤,ガラス用つや出し剤,電子応用機械器具の部品及び電子基板用研磨剤,コンピュータ部品用研磨剤,光学式機械部品用研磨剤,洗浄剤(製造工程用及び医療用のものを除く。),ガラス用洗浄剤,擦り磨き剤
出願人デュポンエレクトロニクスインコーポレイテッド
代理人弁理士法人谷・阿部特許事務所
OCRテキストキュワウニティ
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