TOP｜ 特許｜ 意匠｜ 商標
商標ウォッチ Twitter
公開日2025-07-29
公報種別公開商標公報
出願番号2025082040
出願日2025-07-18
区分第1類(化学品)
商品役務工業用化学品,半導体及び電子基板の研磨に使用される化学懸濁液,半導体製造用の半導体ウエハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質,液晶ディスプレイ装置・機器の製造用液晶,液晶,テクニカルセラミックス製造用合成物,静電気制御用コーティング剤,亜鉛めっき用剤,半導体製造に使用される表面処理用化学品,半導体製造用の金属又は誘電物質の沈着用化学品,半導体製造用イメージングケミカル,半導体製造用現像装置,現像薬,半導体製造用剥離液,金属めっき用化学品,工業用のり及び接着剤(文房具又は家庭用のものを除く。),放熱ペースト,未加工人造樹脂全 23 件を表示,化学品,写真材料,原料プラスチック,半導体製造工程において使用する半導体層洗浄剤,製造工程用洗浄剤
出願人デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
代理人弁理士法人谷・阿部特許事務所
OCRテキストキュワウニティ
OCRテキスト2
OCRについて
この商標をJ-PlatPatで参照する

関連商標

デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
4日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
4日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
5か月前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
4日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
4日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
5か月前
AliveDx Suisse SA
ALIVEDX
3日前
Borregaard AS
as LIGNOBRITE
6か月前
Telix ARTMS Inc.
artms
1か月前
個人
Klüber
1か月前
Rittec 8.0 Umwelttechnik GmbH
2か月前
Good Water Energy Ltd
2か月前
Rittec 8.0 Umwelttechnik GmbH
2か月前
FIRMENICH SA
2か月前
Sparta Biodiscovery Ltd.
2か月前
Sparta Biodiscovery Ltd.
2か月前
INVIVOSCRIBE, INC.
2か月前
L’AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L’ETUDE ET L’EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE
2か月前
Universal Matter GBR Ltd
2か月前
Del Monte International GmbH
2か月前
EPSILON HOLDINGS PRIVATE LIMITED
2か月前
TopOlefin Technology (Quzhou) Co., Ltd.
2か月前
BCN PEPTIDES, S.A.
BCNpeptides
2か月前
BL Technologies, Inc.
2か月前
Inner Mongolia Zhuoyue High-tech Material Co., Ltd.
2か月前
Del Monte International GmbH
2か月前
Del Monte International GmbH
2か月前
Araris Biotech AG
2か月前
L’OREAL
2か月前
Boveda Inc.
LOVEYOURCIGARS
2か月前
Portable PPB Pty Ltd
detectORE
9か月前
Oxford Genetics Ltd
XOFLX
2か月前
Pelseal Technologies, LLC
PELSEAL
2か月前
Cell2Cure ApS
3か月前
L’OREAL
3か月前
Actega GmbH
3か月前
続きを見る