TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
商標ウォッチ
Twitter
他の商標を見る
公開日
2025-07-03
公報種別
公開商標公報
出願番号
2025071107
出願日
2025-06-25
区分
第7類(機械)
,
第9類(機械器具)
,
第42類(科学・技術)
商品役務
半導体製造装置
,
半導体試験装置
,
測定機械器具
,
電子応用機械器具及びその部品
,
コンピュータソフトウェア(記憶されたもの)
,
ダウンロード可能なコンピュータソフトウェア用アプリケーション
,
半導体製造装置の生産性を高めるコンピュータソフトウェア
,
半導体製造装置の利用者を支援するコンピュータソフトウェア
,
半導体工場内にあるデータとAI技術を駆使して半導体計測・検査装置の性能を向上させるソフトウェア
,
半導体の設計
,
半導体に関する試験及び研究並びに開発
,
技術的なデータの分析
,
アプリケーションソフトウェアの提供
,
電子計算機用プログラムの提供
,
オンラインによるアプリケーションソフトウェアの提供(SaaS)
,
コンピュータソフトウェアプラットフォームの提供(PaaS)
,
コンピュータソフトウェアの貸与
,
コンピュータソフトウェアの保守
全 20 件を表示
,
コンピュータソフトウェアの設計及び開発
,
コンピュータソフトウェアのバージョンアップ
出願人
株式会社日立ハイテク
代理人
弁理士法人第一国際特許事務所
OCRテキスト
NeuralMetry
OCRテキスト2
OCRについて
この商標をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連商標
他の商標を見る