TOP｜ 特許｜ 意匠｜ 商標
商標ウォッチ Twitter
公開日2025-03-05
公報種別公開商標公報
出願番号2025019258
出願日2025-02-25
区分第1類(化学品)
商品役務工業用化学品,半導体及び電子基板の研磨に使用される化学懸濁液,半導体製造用の半導体ウエハー上に薄膜を形成させるための化学原料物質,液晶ディスプレイ装置・機器の製造用液晶,液晶,テクニカルセラミックス製造用合成物,静電気制御用コーティング剤,亜鉛めっき用剤,半導体製造に使用される表面処理用化学品,半導体製造用の金属又は誘電物質の沈着用化学品,半導体製造用イメージングケミカル,半導体製造用現像装置,現像薬,半導体製造用剥離液,金属めっき用化学品,工業用のり及び接着剤(文房具又は家庭用のものを除く。),放熱ペースト,未加工人造樹脂全 23 件を表示,化学品,写真材料,原料プラスチック,半導体製造工程において使用する半導体層洗浄剤,製造工程用洗浄剤
出願人デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
代理人弁理士法人谷・阿部特許事務所
OCRテキストQNITY
OCRテキスト2
OCRについて
この商標をJ-PlatPatで参照する

関連商標

デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
10日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
10日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
5か月前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
10日前
デュポン エレクトロニクス インコーポレイテッド
10日前
個人
SYNHYDRID
11か月前
HYDROMECANIQUE ET FROTTEMENT
5か月前
個人
ALCOGROUP
8か月前
K+S Minerals and Agriculture GmbH
23日前
ME GROUP FRANCE
PHOTOMATON
5か月前
Setral Chemie GmbH
3か月前
ROQUETTE FRERES
SOLULYS
5か月前
個人
5か月前
個人
3か月前
Sika Technology AG
SIKA-GARD
11か月前
HYDROMECANIQUE ET FROTTEMENT
HEF
2か月前
KINGSPAN HOLDINGS (IRL) LIMITED
5か月前
GELITA AG
2か月前
HEALTHTECH BIO ACTIVES S.L.
SUGAREX
9か月前
Johnson Matthey Public Limited Company
HICON
8か月前
BIONTE NUTRITION, S.L.
4か月前
Krzysztof Jarosz
+wessper
11か月前
Freshape SA
FRESHAPE
5か月前
RHEACELL GmbH & Co. KG
23日前
POLYPLUS TRANSFECTION
pPLUS
9か月前
JIANGSU LOPAL TECH. CO.,LTD
Lopal
10か月前
E-Lyte Innovations GmbH
E-Lyte
9か月前
RAVAGO S.A.
VIDARA
7か月前
SeaO2 B.V.
SeaO
1か月前
BUTECH BUILDING TECHNOLOGY, S.A.
Rapidtile
2日前
PROBIOTICAL S.P.A.
FLORATOPIC
7か月前
Liquid Casing, Inc.
LIQUIDWELLSHIELD
5か月前
JCWORKS CO., LTD.
GBGLOSSBRO
7か月前
Altro Limited
LIFESHINE
6か月前
Calgon Carbon Corporation
CALRES
9か月前
JIANGSU LOPAL TECH. CO., LTD
11か月前
続きを見る