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公開日2025-01-14
公報種別公開商標公報
出願番号2024140910
出願日2024-12-27
区分第7類(機械)
商品役務半導体製造装置用プラズマ発生装置,半導体製造装置用プラズマ源,半導体製造装置用排気清浄装置,半導体製造装置用エアクリーナー,半導体製造工程用チャンバークリーニング装置,半導体製造工程において用いられるプラズマクリーニング装置,半導体製造工程において用いられるプラズマ分解によるクリーニング装置,半導体製造装置,化学機械器具
出願人株式会社堀場エステック
代理人弁理士法人桶野知的財産事務所
OCRテキストMicroFluctus
OCRテキスト2
OCRについて
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