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公開日2024-11-06
公報種別公開商標公報
出願番号2024115223
出願日2024-10-28
区分第7類(機械),第9類(機械器具),第40類(製造・加工)
商品役務半導体製造装置,半導体製造用機械,ガラス加工機械,切断機,印刷機,印刷版,凸版印刷機,3Dプリンター,フォトマスク,光学ガラス,半導体,プリント回路基板,電子回路(「電子計算機用プログラムを記憶させた電子回路」を除く。),ICチップ,集積回路用ウェハー,液晶ディスプレイ,液晶ディスプレイ用カラーフィルター,光学フィルター全 34 件を表示,スライドフィルム,電子出版物,コンピュータ用プリンター,プリンター用及び写真複写機用トナーカートリッジ(充てんされていないもの),プリンター用及び写真複写機用インクカートリッジ(充てんされていないもの),複写機器(写真式、静電式及び感熱式のもの),ファクシミリ,半導体ウエハーの加工,受託による半導体部品の製造,受託による半導体デバイスの製造,受託による半導体回路の製造,受託による半導体ウェハーの製造,エッチング加工,ガラスのエッチング加工,印刷,凸版印刷
出願人株式会社トッパンフォトマスク
代理人インフォート弁理士法人
OCRテキストPC
OCRテキスト2TPC
OCRについて
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