TOP｜ 特許｜ 意匠｜ 商標
商標ウォッチ Twitter
公開日2024-10-28
公報種別公開商標公報
出願番号2024111965
出願日2024-10-18
区分第9類(機械器具)
商品役務半導体ウェハ検査装置,半導体ウェハ欠陥分析装置,半導体ウェハの応力分析装置,半導体ウェハの組成分析装置,半導体ウェハ測定装置,半導体ウェハ試験装置,半導体用フォトマスク検査装置,半導体用フォトマスク欠陥分析装置,半導体用フォトマスクの応力分析装置,半導体用フォトマスクの組成分析装置,半導体用フォトマスク用測定装置,半導体用フォトマスクの試験装置,半導体用レチクル検査装置,半導体用レチクル欠陥分析装置,半導体用レチクルの応力分析装置,半導体用レチクルの組成分析装置,半導体用レチクル用測定装置,半導体用レチクルの試験装置全 59 件を表示,半導体基板検査装置,半導体基板欠陥分析装置,半導体基板の応力分析装置,半導体基板の組成分析装置,半導体基板用測定装置,半導体基板の試験装置,半導体ウェハマッピング用センサ,ラマン分光測定装置並びにその部品及び付属品,ラマン分光分析装置並びにその部品及び付属品,膜厚計,分光測定装置,自動光学検査装置,蛍光X線測定用機械器具,測定機械器具並びにその部品及び付属品,光学式又は蛍光式の顕微鏡用分光器並びにその部品及び付属品,光学式又は蛍光式の顕微鏡用分光写真機並びにその部品及び付属品,光学機械器具,写真機械器具,映画機械器具,理化学機械器具,半導体ウェハ・半導体用フォトマスク・半導体用レチクル・半導体基板の検査・欠陥分析・応力分析・組成分析・測定・試験用のコンピュータソフトウェア,コンピュータソフトウェア,電子計算機用プログラム,走査型プローブ顕微鏡,蛍光X線分析装置,電子応用機械器具及びその部品,配電用又は制御用の機械器具,回転変流機,調相機,電池,電気磁気測定器,電線及びケーブル,眼鏡,加工ガラス(建築用のものを除く。),救命用具,電気通信機械器具,火災報知機,ガス漏れ警報器,水漏れ警報器,油漏れ警報器,盗難警報器
出願人株式会社堀場エステック
代理人弁理士法人桶野知的財産事務所
OCRテキストXXTROLOGY
OCRテキスト2XTROLOGY
OCRについて
この商標をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連商標

株式会社堀場エステック
EMV
2か月前
株式会社堀場エステック
1か月前
株式会社RE-MiX arts
サバ凸間
3か月前
株式会社和東方
Actleis アクレイス
4か月前
株式会社朝日新聞出版
科学漫画サバイバル
4か月前
LINEヤフー株式会社
8
4か月前
LINEヤフー株式会社
2
4か月前
株式会社アップ
LPサイエンスラボ
4か月前
株式会社アップ
研伸館
4か月前
個人
CYATH
4か月前
和昌国際集団有限公司
4か月前
株式会社和東方
Actleis
4か月前
スターツー グローバル リミテッド
4か月前
株式会社エクサウィザーズ
4か月前
AI for U株式会社
ShinobiAI
4か月前
株式会社アックスコンサルティング
士業オーナーズクラブ
4か月前
株式会社アックスコンサルティング
労務決算診断
4か月前
東洋物産工業株式会社
AVLAIRVENT LINER
4か月前
東洋物産工業株式会社
V
4か月前
株式会社エイシス
BIZ MANE ビズマネ
4か月前
公益財団法人福島県観光物産交流協会
べこマッチョ学園
4か月前
公益財団法人福島県観光物産交流協会
T
4か月前
株式会社Life.com
SME S.M.F SMART,MODERN,FUNCTONAL
4か月前
株式会社朝日新聞出版
サバイバルシリーズ
4か月前
株式会社エクサウィザーズ
Dr. Tel
4か月前
一般社団法人スタートアップデータ標準化協会
スタートアップデータ標準化協会
4か月前
三菱電機株式会社
Translate Signage
4か月前
センチュリー ゲームズ プライベート リミテッド
Whiteout Survival
4か月前
ボイット株式会社
ボイット
4か月前
ボイット株式会社
VOYT
4か月前
株式会社サイカ
MAGELLAN
4か月前
株式会社サイカ
COMPASS
4か月前
株式会社TECH MONSTER
ARASSIST
4か月前
株式会社ニコン
ShowCanAR
4か月前
株式会社ニコン
召喚カメラAR
4か月前
江蘇睿恩新能源科技有限公司
睿恩新能源
4か月前
続きを見る