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公開日2024-10-28
公報種別公開商標公報
出願番号2024111965
出願日2024-10-18
区分第9類(機械器具)
商品役務半導体ウェハ検査装置,半導体ウェハ欠陥分析装置,半導体ウェハの応力分析装置,半導体ウェハの組成分析装置,半導体ウェハ測定装置,半導体ウェハ試験装置,半導体用フォトマスク検査装置,半導体用フォトマスク欠陥分析装置,半導体用フォトマスクの応力分析装置,半導体用フォトマスクの組成分析装置,半導体用フォトマスク用測定装置,半導体用フォトマスクの試験装置,半導体用レチクル検査装置,半導体用レチクル欠陥分析装置,半導体用レチクルの応力分析装置,半導体用レチクルの組成分析装置,半導体用レチクル用測定装置,半導体用レチクルの試験装置全 59 件を表示,半導体基板検査装置,半導体基板欠陥分析装置,半導体基板の応力分析装置,半導体基板の組成分析装置,半導体基板用測定装置,半導体基板の試験装置,半導体ウェハマッピング用センサ,ラマン分光測定装置並びにその部品及び付属品,ラマン分光分析装置並びにその部品及び付属品,膜厚計,分光測定装置,自動光学検査装置,蛍光X線測定用機械器具,測定機械器具並びにその部品及び付属品,光学式又は蛍光式の顕微鏡用分光器並びにその部品及び付属品,光学式又は蛍光式の顕微鏡用分光写真機並びにその部品及び付属品,光学機械器具,写真機械器具,映画機械器具,理化学機械器具,半導体ウェハ・半導体用フォトマスク・半導体用レチクル・半導体基板の検査・欠陥分析・応力分析・組成分析・測定・試験用のコンピュータソフトウェア,コンピュータソフトウェア,電子計算機用プログラム,走査型プローブ顕微鏡,蛍光X線分析装置,電子応用機械器具及びその部品,配電用又は制御用の機械器具,回転変流機,調相機,電池,電気磁気測定器,電線及びケーブル,眼鏡,加工ガラス(建築用のものを除く。),救命用具,電気通信機械器具,火災報知機,ガス漏れ警報器,水漏れ警報器,油漏れ警報器,盗難警報器
出願人株式会社堀場エステック
代理人弁理士法人桶野知的財産事務所
OCRテキストXXTROLOGY
OCRテキスト2XTROLOGY
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