商標ウォッチ

公開日2024-08-16
公報種別公開商標公報
出願番号2024085830
出願日2024-08-07
区分第7類(機械)
商品役務半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置,プラズマを用いた重合薄膜形成装置,半導体製造用の化学蒸着法による薄膜成長装置およびその部品,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の化学蒸着装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のスパッタリング装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のエッチング装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の蒸着装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の原子層堆積装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のイオンビームを用いた蒸着装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用のイオンビームを用いたエッチング装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造用の基板熱処理装置,半導体薄膜の形成装置,太陽電池薄膜の形成装置,ディスプレイ薄膜の形成装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)製造装置,液晶ディスプレイ(LCD)・プラズマディスプレイパネル(PDP)・半導体・太陽電池・有機発光ダイオード(OLED)・発光ダイオード(LED)の基板熱処理装置,ディスプレイ薄膜の熱処理装置,太陽電池薄膜の熱処理装置全 37 件を表示,太陽電池・ディスプレイ・半導体製造用のレーザーを用いた加工装置,レーザーを用いた加工機械器具,レーザーを用いたエッチング装置,太陽電池・ディスプレイ・半導体製造用のレーザーを用いた切断装置,太陽電池・ディスプレイ・半導体製造用のレーザービーム発生装置,半導体リードフレーム用レーザーを用いたマーキング装置,半導体製造用機械,エピタキシャル反応機・化学蒸着反応機・物理蒸着反応機・プラズマエッチング処理機・イオン注入機・その他の半導体ウェーハ処理機械器具,電子応用機械器具のための薄膜加工用成形及び製造機械器具,電子応用機械器具のための液晶表示器の製造機械器具それらの部品及び附属品,半導体製造用のウエハ製造装置,半導体製造用のエッチング装置・薄膜形成装置・その他のウエハ処理装置,液晶表示器製造装置,液晶ディスプレイその他のディスプレイ製造装置並びに同付属品及び同部品,半導体製造装置ならびにその部品および付属品,フラットパネルディスプレイ製造装置ならびにその部品および付属品,太陽電池パネル製造装置ならびにその部品および付属品,太陽電池基板製造装置ならびにその部品および付属品,太陽電池製造装置
出願人ウォニクアイピーエスカンパニーリミテッド,WONIK IPS CO.,LTD.
代理人TRY国際弁理士法人
OCRテキストCLARKRO
OCRテキスト2CLARO
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