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公開日2024-08-14
公報種別公開商標公報
出願番号2024084740
出願日2024-08-05
区分第7類(機械),第9類(機械器具)
商品役務半導体製造装置,半導体製造用めっき装置,半導体製造用洗浄装置,半導体製造用機械器具及びその部品,半導体製造装置に用いられる基板の洗浄装置,半導体製造工程における半導体ウェーハの洗浄装置,電気めっき装置,めっき装置,めっき用処理槽,めっき中にリアルタイムに膜厚を測定し、測定した膜厚から基板の周縁部を所定時間遮蔽する部分マスクで膜厚を制御し、めっき膜の均一性を向上する装置,測定機械器具,めっき液の濃度を自動的に測定する装置,めっき液の成分濃度・pH値・補給量等の自動調節機械器具
出願人株式会社荏原製作所,EBARA CORPORATION
代理人個人,個人,個人
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