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公開日2024-07-19
公報種別公開商標公報
出願番号2024074940
出願日2024-07-10
区分第7類(機械),第9類(機械器具),第40類(製造・加工)
商品役務石定盤,半導体ウェハの評価装置に用いられる石定盤,フォトマスクの評価装置に用いられる石定盤,ガラス基板の評価装置に用いられる石定盤,物品の平面度・平坦度・反り・厚みの測定装置に用いられる石定盤,機械装置及び部品の加工・組立・検査・実験を行うための基準平面として用いられる石定盤,機械加工後の加工物の寸法・平行・平面・直角の公差確認を行うための基準平面として用いられる石定盤,実験用機械器具,光学機械器具,光学用機器,光波干渉測長機,表面粗さ測定器,平面度測定機械器具,その他の測定機械器具,物品の平面度・平坦度・反り・厚みの測定装置,その他の測定装置,測定用具,電気通信機械器具全 27 件を表示,電子応用機械器具及びその部品,半導体ウェハの評価装置,フォトマスクの評価装置,ガラス基板の評価装置,金属の加工,セラミックの加工,石材の加工,研磨,表面削磨仕上げ加工
出願人土井精密ラップ株式会社
代理人弁理士法人高橋・林アンドパートナーズ
OCRテキストMIビCROD GRAITNITE
OCRテキスト2MICROGRANITE
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