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公開日2024-07-12
公報種別公開商標公報
出願番号2024072457
出願日2024-07-04
区分第7類(機械)
商品役務半導体製造装置,半導体製造用めっき装置,半導体製造用洗浄装置,半導体製造用機械器具及びその部品,半導体製造装置に用いられる基板の洗浄装置,半導体製造工程における半導体ウェーハの洗浄装置,基板と電気接点を電導度管理された純水で被覆した上でめっきする半導体製造用めっき装置,めっき中にめっき液を高効率で攪拌するハニカム構造のパドル
出願人株式会社荏原製作所,EBARA CORPORATION
代理人個人,個人,個人
OCRテキストSeCcureFPeed
OCRテキスト2SecureFeed
OCRについて
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