TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
商標ウォッチ
Twitter
他の商標を見る
公開日
2024-06-19
公報種別
公開国際商標公報
国際登録番号
1784276
国際登録日
2024-02-27
区分
第1類(化学品)
商品役務
Solvents for use in manufacturing processes; cleaning solvents for use in manufacturing processes.
基礎出願番号
202310810
基礎出願日
2023-09-04
基礎出願国
NO
出願人
CIRCA GROUP AS
OCRテキスト
Cyrene
OCRテキスト2
Cyrene
OCRについて
この商標をJ-PlatPatで参照する
関連商標
住友大阪セメント株式会社
ロカボナイト
今日
株式会社E-Surf
くらし研究所
7か月前
株式会社香味醗酵
SPARIRE
7か月前
一丸ファルコス株式会社
ARACA
7か月前
株式会社AKTジャパン
TORQUE GATE
7か月前
アサヒバイオサイクル株式会社
BetaPhyto
7か月前
本多産業株式会社
ハクリE+
7か月前
ロート製薬株式会社
StemNavi
7か月前
Blue Industries株式会社
ブルードロップ
7か月前
株式会社クボタ
Kubota
7か月前
三菱瓦斯化学株式会社
TB iD
7か月前
ケリー・グループ・サービシーズ・インターナショナル・リミテッド
HEREDITUM PARADENS HM6
7か月前
エゾティック テクノロジーズ リミテッド
エンセラ
7か月前
レイモンド ヘンリー シック
エンビタ
7か月前
ザ ギル コーポレーション
GILLBOND
7か月前
個人
ラバゲイン
7か月前
KYOSHIN-BIO株式会社
唯方
7か月前
KYOSHIN-BIO株式会社
Plantbased
7か月前
KYOSHIN-BIO株式会社
唯康
7か月前
KYOSHIN-BIO株式会社
普蘭貝斯
7か月前
株式会社K2service.R
スズキレンタカー
7か月前
株式会社東海理化電機製作所
BAMBOO-H
7か月前
リンテック株式会社
LINTEC リンテック
7か月前
日本新聞インキ株式会社
Meyou
7か月前
株式会社ダイセル
TOCAS
7か月前
株式会社ハミオテック
アデライト
7か月前
浙江新和成股分有限公司
ESSENTION
7か月前
株式会社ノダ
SH-AON
7か月前
株式会社レゾナック
KPR ぴあ
7か月前
大日精化工業株式会社
CHITONATURE
7か月前
日本メナード化粧品株式会社
コンプレックス COMPLEX
7か月前
日本メナード化粧品株式会社
レイシコンプレックス
7か月前
日本新聞インキ株式会社
7か月前
アラブ・ファーティライザーズ・アンド・ケミカルズ・インダストリーズ・カンパニー
KEMAPCOg Lot.S
7か月前
株式会社フジタ
Rain tech Garden
7か月前
株式会社フジタ
レインテックガーデン
7か月前
続きを見る
他の商標を見る