商標ウォッチ

TOP｜特許｜意匠｜商標

商標ウォッチ Twitter

公開日2024-08-21
公報種別公開国際商標公報
国際登録番号1750209
国際登録日
区分第9類(機械器具),第42類(科学・技術)
商品役務Checking and measuring apparatus and instruments, particularly for the topographical, radiological location and characterization of radiation sources, particularly in real time, for the recovery and mapping of an environment, installation, workshop, for the positioning, identification, quantification of sources in the environment, installation, workshop thus reconstituted; sensors for monitoring and measuring particularly for the topographical, radiological location and characterization of radiation sources; apparatus and instruments for processing control and measurement information, particularly for the topographical, radiological location and characterization of radiation sources, particularly in real time, for the reconstitution and mapping of an environment, installation 全 51 件を表示, workshop; software for processing control and measurement information,particularly for the topographical, radiological location and characterization of radiation sources, particularly in real time, for the reconstitution and mapping of an environment, installation, workshop.,Services for conducting scientific and technical services for checks and measures, particularly for the topographical, radiological location and characterization of radiation sources, especially in real time, for the reconstitution and mapping of an environment, installation, workshop, for the positioning, identification, quantification of sources in an environment, installation, workshop that may be radiologically contaminated; research, design, development, analysis services for hardware and software relating to checks and measures, particularly for the topographical, radiological location and characterization of radiation sources, particularly in real-time, for the reconstitution and mapping of an environment, installation, workshop, for the positioning, identification, quantification of sources in the environment, installation, workshop thus reconstituted.
基礎出願番号014419626
基礎出願日2015-07-27
基礎出願国EM
出願人個人
OCRテキストMANUELA
OCRテキスト2MANUELA
OCRについて

この商標をJ-PlatPatで参照する

関連商標

Booost株式会社

株式会社セガ

株式会社ザイマックスグループ

ビーシーテクノロジー (ホンコン) リミテッド

ビーシーテクノロジー (ホンコン) リミテッド

ビーシーテクノロジー (ホンコン) リミテッド

ビーシーテクノロジー (ホンコン) リミテッド

株式会社エンピクセル

株式会社LDH JAPAN

深せん市弘鄭電子商務有限公司

Zaimo株式会社

株式会社NTTドコモ

株式会社NTTドコモ

株式会社NTTドコモ

合同会社キャンバス

株式会社セガ

合同会社キャンバス

インテリジェンスバリューコーポレーション株式会社

株式会社B&Bros.

株式会社オカムラ

コシナコーポレーション

エイベックス株式会社

株式会社メイキップ

株式会社JTB

合同会社EXNOA

ウルトラームカンパニーリミテッド

三井住友カード株式会社

三井住友カード株式会社

三井住友カード株式会社

三井住友カード株式会社

三井住友カード株式会社

株式会社博報堂

インテリジェンスバリューコーポレーション株式会社

株式会社大創産業

BASHAKA株式会社

続きを見る