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公開番号2025179597
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-12-10
出願番号2024086452
出願日2024-05-28
発明の名称粒子分散液のろ過方法、及び磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類B01D 61/22 20060101AFI20251203BHJP(物理的または化学的方法または装置一般)
要約【課題】磁気ディスク基板用研磨液の品質の向上に好適な粒子分散液を得ることができ、また、該粒子分散液を得る際のフィルタの長寿命化が可能な粒子分散液のろ過方法の提供。
【解決手段】一態様において、メンブレンフィルタで粒子分散液をろ過する工程(工程1)を含む粒子分散液のろ過方法に関する。該工程1でろ過される粒子分散液1ml中の個数カウント方式粒度分布測定で得られる0.1μm以上の粒子の数をNPC、該工程1で用いられるメンブレンフィルタの平均ポア個数をNP、該工程1で用いられるメンブレンフィルタの平均ポア径をAPDとしたとき、下記式1で表される値が3.0以上50以下である。
式1 : 〔(NP)/[(NPC)×(APD)]〕×1000000
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
メンブレンフィルタで粒子分散液をろ過する工程（工程１）を含む粒子分散液のろ過方法であって、
該工程１でろ過される粒子分散液１ｍｌ中の個数カウント方式粒度分布測定で得られる０．１μｍ以上の粒子の数をＮＰＣ、該工程１で用いられるメンブレンフィルタの平均ポア個数をＮＰ、該工程１で用いられるメンブレンフィルタの平均ポア径をＡＰＤとしたとき、下記式１で表される値が３．０以上５０以下である、粒子分散液のろ過方法。
式１：〔（ＮＰ）／[（ＮＰＣ）×（ＡＰＤ）]〕×１００００００
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
前記ＮＰＣが５０００万個／ｍＬ以下である、請求項１に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項３】
前記ＡＰＤが０．１μｍ以上２μｍ以下である、請求項１に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項４】
デプス型フィルタでろ過する工程を前記工程１の前に有する、請求項１に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項５】
前記工程１の前に、ろ過に供される粒子分散液とメンブレンフィルタの式１で表される値が３．０以上５０以下であることを確認する工程を有する、請求項１に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項６】
前記工程１の前に、ろ過に供される粒子分散液とメンブレンフィルタの式１で表される値を３．０以上５０以下となるように調節する工程を有する、請求項１に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項７】
粒子分散液が含有する粒子がシリカ粒子を含む、請求項１に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項８】
シリカ粒子の一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、請求項７に記載の粒子分散液のろ過方法。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の粒子分散液のろ過方法によって得られる粒子分散液と、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、アミン化合物、及び水溶性高分子から選ばれる少なくとも１種とを混合する工程を有する、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法。
【請求項１０】
請求項９で得られる磁気ディスク基板研磨用研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給すること、及び、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させて前記研磨パッド及び前記被研磨基板の少なくとも一方を動かして前記研磨対象面を研磨することを含む、磁気ディスク基板の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、粒子分散液のろ過方法、及び磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、そして更なる高記録密度化が求められている。これを実現するため、記録面積の確保の重要性が増しておりスクラッチの低減に代表される欠陥低減に対する要求が厳しくなっている。
【０００３】
磁気ディスクドライブの基板表面の欠陥の１つであるスクラッチの原因の一つは、研磨液に含まれる粗大粒子である。通常、研磨液中の粗大粒子は、その製造工程においてろ過によって除去されている。例えば、特許文献１には、粒子径が１ｎｍ以上５００ｎｍ以下である標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子を含有する溶液をクロスフロー濾過することにより、標的無機ナノ粒子と不純物無機ナノ粒子を分離する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１０－４６６２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ろ過においては、得られるろ液の品質（例えば、粗大粒子の少なさ）と、ろ過に用いるフィルタの寿命とのトレードオフが存在する。すなわち、ろ液の品質を高めるとフィルタの閉塞（寿命）が早くなる傾向にある。
【０００６】
そこで、本開示は、一態様において、磁気ディスク基板研磨用研磨液の高品質化を図れる粒子分散液を得るためのろ過に用いるフィルタの長寿命化を達成可能なろ過方法を提供する。また、該ろ過方法で得られる粒子分散液と、研磨液に用いられる種々の化合物を混合する工程を有する磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法、及び、該製造方法で得られる磁気ディスク研磨用研磨液で研磨対象面を研磨することを含む、磁気ディスク基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、一態様において、メンブレンフィルタで粒子分散液をろ過する工程（工程１）を含む粒子分散液のろ過方法であって、該工程１でろ過される粒子分散液１ｍｌ中の個数カウント方式粒度分布測定で得られる０．１μｍ以上の粒子の数をＮＰＣ、該工程１で用いられるメンブレンフィルタの平均ポア個数をＮＰ、該工程１で用いられるメンブレンフィルタの平均ポア径をＡＰＤとしたとき、下記式１で表される値が３．０以上５０以下である、粒子分散液のろ過方法に関する。
式１：〔（ＮＰ）／[（ＮＰＣ）×（ＡＰＤ）]〕×１００００００
【０００８】
本開示は、一態様において、本開示の粒子分散液のろ過方法によって得られる粒子分散液と、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、アミン化合物、及び水溶性高分子から選ばれる少なくとも１種とを混合する工程を有する、磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、本開示の磁気ディスク基板研磨用研磨液の製造方法で得られる磁気ディスク基板研磨用研磨液を被研磨基板の研磨対象面に供給すること、及び、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させて前記研磨パッド及び前記被研磨基板の少なくとも一方を動かして前記研磨対象面を研磨することを含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１０】
本開示によれば、一態様において、本開示の粒子分散液のろ過方法によって得られる粒子分散液を含有する研磨液の品質の向上と、本開示の粒子分散液のろ過方法に用いられるフィルタの長寿命化とを両立することができる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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