TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025177602
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-12-05
出願番号
2024084596
出願日
2024-05-24
発明の名称
計画作成支援方法及び計画作成支援システム
出願人
株式会社日立製作所
代理人
弁理士法人サンネクスト国際特許事務所
主分類
G06Q
10/00 20230101AFI20251128BHJP(計算;計数)
要約
【課題】計画立案の関係者間での合意を形成しながら迅速に計画を立案し得るようにする。
【解決手段】計画作成支援方法では、複数の線状物のそれぞれの始点及び終点に関する情報を含む線状物情報と、複数の線状物を事業者が所定エリアに配置する際の制約条件となる複数の要求と、所定エリアを規定するエリア情報と、に基づいて、所定エリアにおける複数の線状物のそれぞれの始点及び終点を接続する配置経路を探索して配置経路を含む配置計画を作成する。そして配置計画が複数の要求を充足する度合いを示す基本要求達成度を算出し、複数の要求から各要求を除外した場合に、配置計画が各要求を除外した複数の要求を充足する度合いを示す第2要求達成度を要求毎に算出する。要求毎の第2要求達成度と基本要求達成度とに基づいて、要求達成度に対して第2要求達成度がどれだけ向上するかの評価指標である要求影響度を要求毎に算出する。
【選択図】図8
特許請求の範囲
【請求項1】
複数の線状物を所定エリアに配置する配置計画の作成を支援する計画作成支援システムが実行する計画作成支援方法であって、
前記計画作成支援システムは、プロセッサとメモリとを有し、
前記プロセッサが、
前記複数の線状物のそれぞれの始点及び終点に関する情報を含む線状物情報と、該複数の線状物を事業者が前記所定エリアに配置する際の制約条件となる複数の要求と、該所定エリアを規定するエリア情報と、に基づいて、該所定エリアにおける前記複数の線状物のそれぞれの該始点及び該終点を接続する配置経路を探索して該配置経路を含む前記配置計画を作成し、
前記配置計画と前記複数の要求とに基づいて、該配置計画が該複数の要求を充足する度合いの評価指標である基本要求達成度を算出し、
前記配置計画と前記複数の要求とに基づいて、該複数の要求から各該要求を除外した場合に、該配置計画が各該要求を除外した該複数の要求を充足する度合いの評価指標である第2要求達成度を該要求毎に算出し、
前記要求毎の前記第2要求達成度と前記基本要求達成度とに基づいて、該基本要求達成度に対して前記第2要求達成度がどれだけ向上するかの評価指標である要求影響度を前記要求毎に算出する
各処理を有することを特徴とする計画作成支援方法。
続きを表示(約 1,700 文字)
【請求項2】
請求項1に記載の計画作成支援方法であって、
前記複数の要求のそれぞれには、該要求毎の重要度を表す要求度が付与されており、
前記プロセッサが、
前記要求毎の前記要求度と該要求毎の前記要求影響度とに基づいて、各該要求を、前記配置計画の作成の際の見直し対象の要求として推奨する優先順位を表す要求見直し推奨度を該要求毎に算出する
処理を有することを特徴とする計画作成支援方法。
【請求項3】
請求項1に記載の計画作成支援方法であって、
前記複数の要求のそれぞれには、該要求毎の重要度を表す要求度が付与されており、
前記プロセッサが、
前記配置計画と前記複数の要求と前記要求度とに基づいて、前記基本要求達成度及び前記第2要求達成度を算出する
ことを特徴とする計画作成支援方法。
【請求項4】
請求項1に記載の計画作成支援方法であって、
前記複数の要求のそれぞれには、該要求毎の重要度を表す要求度が付与されており、
前記プロセッサが、
前記要求度及び前記要求影響度の何れか一方又は両方に基づいて、前記配置計画を作成する際の前記線状物毎の前記配置経路の探索順序を決定し、
前記探索順序に基づいて前記線状物毎の前記配置経路を探索して前記配置計画を作成する
ことを特徴とする計画作成支援方法。
【請求項5】
請求項1に記載の計画作成支援方法であって、
前記プロセッサが、
複数の前記配置計画を作成し、
前記配置計画毎に前記要求毎の前記要求影響度を算出し、
前記配置計画毎に算出した前記要求毎の前記要求影響度の平均を算出し、
前記要求毎の前記要求影響度の平均に基づいて、前記要求毎の前記要求見直し推奨度を算出する
各処理を有することを特徴とする計画作成支援方法。
【請求項6】
請求項1又は2に記載の計画作成支援方法であって、
前記複数の要求のそれぞれには、各該要求を要求する前記事業者の識別情報が付与されており、
前記プロセッサが、
前記複数の要求の中から前記見直し対象の要求として或る要求を選択する際に、
前記複数の要求から前記或る要求を除外した場合における該要求毎の前記要求影響度又は前記要求見直し推奨度を算出し、
算出した前記要求毎の前記要求影響度又は前記要求見直し推奨度の前記事業者毎の合計を算出し、
算出した前記要求毎の前記要求影響度又は前記要求見直し推奨度の前記事業者毎の合計が最も平準化されるように前記或る要求を選択する
各処理を有することを特徴とする計画作成支援方法。
【請求項7】
複数の線状物を所定エリアに配置する配置計画の作成を支援する計画作成支援システムであって、
前記計画作成支援システムは、プロセッサとメモリとを有し、
前記プロセッサは、
前記複数の線状物のそれぞれの始点及び終点に関する情報を含む線状物情報と、該複数の線状物を事業者が前記所定エリアに配置する際の制約条件となる複数の要求と、該所定エリアを規定するエリア情報と、に基づいて、該所定エリアにおける前記複数の線状物のそれぞれの該始点及び該終点を接続する配置経路を探索して該配置経路を含む前記配置計画を作成し、
前記配置計画と前記複数の要求とに基づいて、該配置計画が該複数の要求を充足する度合いの評価指標である基本要求達成度を算出し、
前記配置計画と前記複数の要求とに基づいて、該複数の要求から各該要求を除外した場合に、該配置計画が各該要求を除外した該複数の要求を充足する度合いの評価指標である第2要求達成度を該要求毎に算出し、
前記要求毎の前記第2要求達成度と前記基本要求達成度とに基づいて、該基本要求達成度に対して前記第2要求達成度がどれだけ向上するかの評価指標である要求影響度を前記要求毎に算出する
ことを特徴とする計画作成支援システム。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、計画作成支援方法及び計画作成支援システムに関する。
続きを表示(約 1,900 文字)
【背景技術】
【0002】
例えばインフラ開発では、電気やガスなど複数の供給ラインを整備する必要があり、開発時にそれぞれの事業の要求を考慮した計画を立案する必要がある。しかし、各事業の事業体は、それぞれが多くの要求を持っており、それらを考慮するために計画の立案に多くの時間と労力を要している。
【0003】
このような関係者の要求に関する合意形成の支援方法として、例えば特許文献1には、現実空間に対応した仮想空間において、新規設計提案に関する配置位置の関係者を特定し、配置位置と関係者の関連領域とを用いて合意形成を支援する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2024-39429号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかし上述の従来技術では、与えられた計画における要求の対立を検出しているに過ぎず、要求を調整しながら計画の立案を行うものではなく、計画立案の関係者間での合意を形成しながら計画を立案し得るものではないという問題があった。
【0006】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、計画立案の関係者間での合意を形成しながら計画を立案し得るようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記目的を達成するために、本発明は、複数の線状物を所定エリアに配置する配置計画の作成を支援する計画作成支援システムが実行する計画作成支援方法であって、前記計画作成支援システムは、プロセッサとメモリとを有し、前記プロセッサが、前記複数の線状物のそれぞれの始点及び終点に関する情報を含む線状物情報と、該複数の線状物を事業者が前記所定エリアに配置する際の制約条件となる複数の要求と、該所定エリアを規定するエリア情報と、に基づいて、該所定エリアにおける前記複数の線状物のそれぞれの該始点及び該終点を接続する前記配置経路を探索して該配置経路を含む配置計画を作成し、前記配置計画と前記複数の要求とに基づいて、該配置計画が該複数の要求を充足する度合いの評価指標である基本要求達成度を算出し、前記配置計画と前記複数の要求とに基づいて、該複数の要求から各該要求を除外した場合に、該配置計画が各該要求を除外した該複数の要求を充足する度合いの評価指標である第2要求達成度を該要求毎に算出し、前記要求毎の前記第2要求達成度と前記基本要求達成度とに基づいて、該基本要求達成度に対して前記第2要求達成度がどれだけ向上するかの評価指標である要求影響度を前記要求毎に算出する各処理を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、計画立案の関係者間での合意を形成しながら計画を立案できる。
【図面の簡単な説明】
【0009】
計画作成支援システムの構成を示す図。
エリア情報の概略を示す図。
線状物情報の構成を示す図。
線状物の配置の概要を示す図。
配置計画情報の構成を示す図。
要求情報の構成を示す図。
要求影響度情報の構成を示す図。
要求妥協案提示処理を示すフローチャート。
要求見直し推奨度算出処理を示すフローチャート。
要求追加画面を示す図。
要求充足判定結果を含む要求追加画面を示す図。
要求妥協案提示画面を示す図。
【発明を実施するための形態】
【0010】
以下の説明では、「プロセッサ」は、一つ以上のプロセッサデバイスでよい。少なくとも一つのプロセッサデバイスは、典型的には、CPU(Central Processing Unit)のようなマイクロプロセッサデバイスでよいが、GPU(Graphics Processing Unit)のような他種のプロセッサデバイスでもよい。少なくとも一つのプロセッサデバイスは、シングルコアでもよいしマルチコアでもよい。少なくとも一つのプロセッサデバイスは、プロセッサコアでもよい。少なくとも一つのプロセッサデバイスは、処理の一部または全部を行うハードウェア回路(例えばFPGA(Field-Programmable Gate Array)、CPLD(Complex Programmable Logic Device)、またはASIC(Application Specific Integrated Circuit))といった広義のプロセッサデバイスでもよい。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
株式会社日立製作所
冷却構造
5日前
株式会社日立製作所
電力変換装置
5日前
株式会社日立製作所
環境負荷算出装置
4日前
株式会社日立製作所
情報提示装置及び方法
4日前
株式会社日立製作所
診断装置及び診断方法
4日前
株式会社日立製作所
実行ハードウエア決定方法
4日前
株式会社日立製作所
脆弱性分析装置、脆弱性分析方法
4日前
株式会社日立製作所
量子デバイス及び量子情報処理装置
4日前
株式会社日立製作所
位置推定システム及び位置推定方法
5日前
株式会社日立製作所
材料提案システムおよび材料提案装置
4日前
株式会社日立製作所
情報推定システム、及び情報推定方法
今日
株式会社日立製作所
外転型回転電機、巻上機、エレベーター
4日前
株式会社日立製作所
車両運行制御装置及び車両運行制御方法
4日前
株式会社日立製作所
システム設計最適化システムおよび方法
4日前
株式会社日立製作所
ダイヤ作成システムおよびダイヤ作成方法
4日前
株式会社日立製作所
実験設計支援装置、及び実験設計支援方法
4日前
株式会社日立製作所
電解システム及び電解システムの診断方法
4日前
株式会社日立製作所
支援装置、支援方法、及び支援プログラム
4日前
株式会社日立製作所
鉄道保守支援システム、鉄道保守支援方法
4日前
株式会社日立製作所
施策立案支援システム及び施策立案支援方法
4日前
株式会社日立製作所
計画作成支援方法及び計画作成支援システム
4日前
株式会社日立製作所
電力系統安定化装置および電力系統安定化方法
4日前
株式会社日立製作所
SOC目標設定システム及び二次電池システム
4日前
株式会社日立製作所
水電解システムの制御方法および水電解システム
今日
株式会社日立製作所
設計支援システム、設計支援方法およびプログラム
今日
株式会社日立製作所
脆弱性対策管理システム、及び脆弱性対策管理方法
4日前
株式会社日立製作所
質問生成装置、質問生成システム及び質問生成方法
5日前
株式会社日立製作所
脆弱性対策管理システム、及び脆弱性対策管理方法
4日前
株式会社日立製作所
遠隔接客システム、情報処理装置、及び遠隔接客方法
5日前
株式会社日立製作所
衣料回収システム、衣料回収装置および衣料管理装置
4日前
株式会社日立製作所
設計製造支援装置、設計製造支援方法、及びプログラム
今日
株式会社日立製作所
センサシステム、故障・劣化検出方法、及びプログラム
5日前
株式会社日立製作所
原子力発電プラント及び原子力発電プラントの運転方法
今日
株式会社日立製作所
生成支援システム、生成支援方法、および生成支援プログラム
4日前
株式会社日立製作所
管制マップ作成装置、管制装置、管制システム、および管制方法
4日前
株式会社日立製作所
分散行動制御装置、分散行動制御システムおよび分散行動制御方法
4日前
続きを見る
他の特許を見る