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公開番号
2025159014
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-10-17
出願番号
2025130441,2023087994
出願日
2025-08-05,2023-05-29
発明の名称
偏光板
出願人
日東電工株式会社
代理人
弁理士法人籾井特許事務所
主分類
G02B
5/30 20060101AFI20251009BHJP(光学)
要約
【課題】高湿環境下における反りを抑制し得る偏光板を提供すること。
【解決手段】本発明の実施形態による偏光板は、偏光子と、保護層と、を備えている。該保護層は、該偏光子の少なくとも一方面に設けられている。25℃90%RHにおける保護層の線膨張係数は、25℃90%RHにおける偏光子の線膨張係数に対して、1.0以下である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
偏光子と、
前記偏光子の少なくとも一方側に配置された保護層と、を備え、
25℃90%RHにおける保護層の線膨張係数は、25℃90%RHにおける偏光子の線膨張係数に対して、1.0以下である、偏光板。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、偏光板に関する。
続きを表示(約 1,800 文字)
【背景技術】
【0002】
液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス(EL)表示装置(例えば、有機EL表示装置、無機EL表示装置)に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には、偏光子と保護層とを備える偏光板が用いられている(例えば、特許文献1参照)。
近年、画像表示装置の用途が多様化しており、画像表示装置が高湿環境(例えば65%RH(相対湿度))下で使用される場合がある。しかし、特許文献1に記載の偏光板が高湿環境に曝されると、反りが生じるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2011-203571号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高湿環境下における反りを抑制し得る偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0005】
[1]本発明の1つの実施形態による偏光板は、偏光子と、保護層と、を備えている。該保護層は、該偏光子の少なくとも一方側に配置されている。25℃90%RHにおける保護層の線膨張係数は、25℃90%RHにおける偏光子の線膨張係数に対して、1.0以下である。
[2]上記[1]に記載の偏光板において、上記保護層は、ポリカーボネート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、または、(メタ)アクリル系樹脂から構成されていてもよい。
【発明の効果】
【0006】
本発明の実施形態によれば、高湿環境下における反りが抑制された偏光板を実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【0007】
図1は、本発明の1つの実施形態による偏光板の概略断面図である。
図2は、本発明の別の実施形態による偏光板の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、本発明の代表的な実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。また、図面は説明をより明確にするため、実施の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
【0009】
(用語および記号の定義)
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した面内位相差である。例えば、「Re(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した面内位相差である。Re(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Re(λ)=(nx-ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(550)」は、23℃における波長550nmの光で測定した厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、層(フィルム)の厚みをd(nm)としたとき、式:Rth(λ)=(nx-nz)×dによって求められる。
【0010】
A.偏光板の全体構成
図1は、本発明の1つの実施形態による偏光板の概略断面図である。
図1に示すように、偏光板100は、偏光子2と、保護層1と、を備えている。保護層1は、偏光子2の少なくとも一方側に配置されている。25℃90%RH(相対湿度)における保護層1の線膨張係数は、25℃90%RH(相対湿度)における偏光子2の線膨張係数に対して、1.0以下である。
25℃90%RHにおける偏光子の線膨張係数に対する、25℃90%RHにおける保護層の線膨張係数(以下、偏光子に対する保護層の線膨張係数比とする。)が1.0以下であると、高湿環境下における偏光板の反りを安定して抑制し得る。
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
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