TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
公開番号
2025090409
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-06-17
出願番号
2023205613
出願日
2023-12-05
発明の名称
芳香族ポリスルホンの製造方法
出願人
住友化学株式会社
代理人
個人
,
個人
,
個人
,
個人
主分類
C08G
65/48 20060101AFI20250610BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約
【課題】極性基を導入した芳香族ポリスルホンを容易に製造可能とする芳香族ポリスルホンの製造方法の提供。
【解決手段】芳香族ポリスルホン前駆体と、(A)で表される化合物とを反応させる工程を有し、芳香族ポリスルホン前駆体は、式(S-1)で表される構造を含む繰り返し単位を主鎖に有し、主鎖末端にハロゲン原子を有し、工程は、非プロトン性有機溶媒中、アルカリ金属塩と相間移動触媒との存在下で行われる芳香族ポリスルホンの製造方法。
-ph
1
-SO
2
-ph
2
-O-…(S-1)
[ph
1
、ph
2
:置換基を有してもよいフェニレン基]
(Ra)
x
-Ar-OM…(A)
[Ar:置換基を有してもよい芳香族炭化水素基。
Ra:カルボキシ基のpKa以下のpKaを有する酸性基及び前記酸性基の塩、並びに窒素原子を含む官能基からなる群から選択される1種以上の極性基。
x:1以上の整数。
M:水素原子又は1価のカチオン]
【選択図】なし
特許請求の範囲
【請求項1】
芳香族ポリスルホン前駆体と、下記式(A)で表される少なくとも1種の化合物とを反応させる工程を有し、
前記芳香族ポリスルホン前駆体は、下記一般式(S-1)で表される構造を含む繰り返し単位を主鎖に有すると共に、主鎖末端にハロゲン原子を有し、
前記工程は、非プロトン性有機溶媒中、少なくとも1種のアルカリ金属塩と、少なくとも1種の相間移動触媒と、の存在下で行われる芳香族ポリスルホンの製造方法。
-ph
1
-SO
2
-ph
2
-O- …(S-1)
[式(S-1)において、ph
1
及びph
2
は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいフェニレン基である。]
(Ra)
x
-Ar-OM …(A)
[式(A)において、Arは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。
Raは、カルボキシ基のpKa以下のpKaを有する酸性基及び前記酸性基の塩、並びに窒素原子を含む官能基から選択される1種以上の極性基である。
xは1以上の整数である。
Mは、水素原子又は1価のカチオンである]
続きを表示(約 420 文字)
【請求項2】
前記相間移動触媒の量は、前記アルカリ金属塩に対し10mol%以上1000mol%以下である請求項1に記載の芳香族ポリスルホンの製造方法。
【請求項3】
前記工程の反応温度は、130℃以上200℃未満である請求項1又は2に記載の芳香族ポリスルホンの製造方法。
【請求項4】
前記相間移動触媒が18-クラウン-6-エーテルである請求項1又は2に記載の芳香族ポリスルホンの製造方法。
【請求項5】
前記アルカリ金属塩が、カリウム塩である請求項1又は2に記載の芳香族ポリスルホンの製造方法。
【請求項6】
前記Raが、スルホン酸基、スルホン酸基の塩又はアミノ基である請求項1又は2に記載の芳香族ポリスルホンの製造方法。
【請求項7】
前記Raが、スルホン酸基又はスルホン酸基の塩である請求項1又は2に記載の芳香族ポリスルホンの製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、芳香族ポリスルホンの製造方法に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)
【背景技術】
【0002】
芳香族ポリスルホンは、優れた耐熱性、機械的特性、電気的特性、及び耐熱水性等の特性を有する。そのため、芳香族ポリスルホンは、電気電子分野、機械分野、自動車分野、航空機分野、医療食品工業分野等の数々の用途に使用されている。
【0003】
また、用途によっては、親水化された芳香族ポリスルホンが求められる。このような親水化された芳香族ポリスルホンとして、具体的には、極性基を有する芳香族ポリスルホン等が例示される。
【0004】
特許文献1には、親水化された芳香族ポリスルホンであるスルホン化ポリエーテルスルホンを用いた、内圧式の中空糸型NF膜が提案されている。この特許文献1には、スルホン化ポリエーテルスルホンとポリエーテルスルホンを含む混合物からなる内圧式の中空糸型NF膜が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2013-215640号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
芳香族ポリスルホンを分離膜の形成材料として用いる場合、芳香族ポリスルホンから形成される分離膜には、高い透水性が求められる。透水性が高いとは、所定圧力を加えた状態で単位時間あたりに膜を透過する水量が多いことを意味する。上記特許文献1においては、極性基としてスルホン酸基を導入したスルホン化ポリエーテルスルホンを用いることにより、透水性の高い中空糸型NF膜を実現している。
【0007】
上記特許文献1で用いるスルホン化ポリエーテルスルホンは、硫酸やクロロスルホン酸を用いてポリエーテルスルホンをスルホン化することで製造されている。しかし、このような強酸を用いた反応は、製造可能な設備が限られる。また、上記反応では、後処理における中和反応で多量の塩が生じる。そのため、スルホン基のような極性基を導入したポリスルホンの製造方法として、より簡便な方法が求められていた。
【0008】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、極性基を導入した芳香族ポリスルホンを容易に製造可能とする芳香族ポリスルホンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、以下の態様を包含する。
【0010】
[1]芳香族ポリスルホン前駆体と、下記式(A)で表される少なくとも1種の化合物とを反応させる工程を有し、
前記芳香族ポリスルホン前駆体は、下記一般式(S-1)で表される構造を含む繰り返し単位を主鎖に有すると共に、主鎖末端にハロゲン原子を有し、
前記工程は、非プロトン性有機溶媒中、少なくとも1種のアルカリ金属塩と、少なくとも1種の相間移動触媒と、の存在下で行われる芳香族ポリスルホンの製造方法。
-ph
1
-SO
2
-ph
2
-O- …(S-1)
[式(S-1)において、ph
1
及びph
2
は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいフェニレン基である。]
(Ra)
x
-Ar-OM …(A)
[式(A)において、Arは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。
Raは、カルボキシ基のpKa以下のpKaを有する酸性基及び前記酸性基の塩、並びに窒素原子を含む官能基から選択される1種以上の極性基である。
xは1以上の整数である。
Mは、水素原子又は1価のカチオンである]
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
住友化学株式会社
積層基板
1か月前
住友化学株式会社
光学積層体
13日前
住友化学株式会社
硬化性組成物
4日前
住友化学株式会社
硬化性組成物
4日前
住友化学株式会社
偏光子の製造方法
12日前
住友化学株式会社
リチウム二次電池
20日前
住友化学株式会社
硬化膜及び表示装置
4日前
住友化学株式会社
硬化膜及び表示装置
4日前
住友化学株式会社
変性樹脂の製造方法
17日前
住友化学株式会社
蓄熱性能を有する物品
27日前
住友化学株式会社
ポリプロピレン系樹脂組成物
26日前
住友化学株式会社
樹脂組成物及びその製造方法
13日前
住友化学株式会社
組成物及びそれを用いた発光素子
25日前
住友化学株式会社
組成物及びそれを用いた発光素子
25日前
住友化学株式会社
メタクリル酸製造用触媒の製造方法
11日前
住友化学株式会社
非水電解液二次電池用積層セパレータ
24日前
住友化学株式会社
非水電解液二次電池用積層セパレータ
24日前
住友化学株式会社
グルコースの製造方法およびその触媒
4日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
11日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
20日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
20日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
20日前
住友化学株式会社
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
10日前
住友化学株式会社
再生基板の製造方法および積層構造体の製造方法
11日前
住友化学株式会社
着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
17日前
住友化学株式会社
着色樹脂組成物、カラーフィルタ、及び表示装置
17日前
住友化学株式会社
有機化合物の製造方法および微生物培養用組成物
4日前
住友化学株式会社
窒化物結晶基板、および窒化物結晶基板の製造方法
25日前
住友化学株式会社
液晶ポリエステル、液晶ポリエステル組成物及び成形品
12日前
住友化学株式会社
再生SiC基板の製造方法および積層構造体の製造方法
11日前
住友化学株式会社
化合物、組成物、インク、光電変換素子、及び光センサー
19日前
住友化学株式会社
化合物、組成物、インク、光電変換素子、及び光センサー
19日前
住友化学株式会社
プロピレン樹脂組成物、成形体、および、成形体の製造方法
1か月前
住友化学株式会社
圧電素子を備える装置、積層基板、及びその装置の製造方法
11日前
住友化学株式会社
III族窒化物積層体およびIII族窒化物積層体の製造方法
11日前
住友化学株式会社
III族窒化物積層体およびIII族窒化物積層体の製造方法
12日前
続きを見る
他の特許を見る