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公開番号2025069476
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-01
出願番号2022037807
出願日2022-03-11
発明の名称円盤状ガラス基板の製造方法、円環状ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、円盤状ガラス基板、円環状ガラス基板、及び磁気ディスク用ガラス基板
出願人HOYA株式会社
代理人個人,個人
主分類G11B 5/84 20060101AFI20250423BHJP(情報記憶)
要約【課題】円盤状ガラス基板の端面にレーザ光を照射することにより、円盤状ガラス基板の端面の真円度を悪化させることなく、端面を滑面化するとともに面取り面を形成する円盤状ガラス基板の製造方法、円環状ガラス基板の製造方法及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法並びに円盤状ガラス基板、円環状ガラス基板及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】円盤状ガラス基板の製造方法は、主表面11a、11bと、外周端面12とを有する円盤状ガラス基板1を準備することと、円盤状ガラス基板1の外周端面12に沿って1周を超えるようにレーザ照射装置30からレーザ光Lを照射することと、を含む。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
円盤状ガラス基板の製造方法であって、
主表面と、外周端面とを有する、円盤状ガラス素板を準備することと、
前記円盤状ガラス素板の前記外周端面に沿って１周を超えるようにレーザ光を照射することとを含む、円盤状ガラス基板の製造方法。
続きを表示（約 960 文字）【請求項２】
前記レーザ光の照射開始位置から、前記レーザ光の照射終了位置までの、前記外周端面に沿う重複照射距離が、前記外周端面上における前記レーザ光のスポット径の、前記外周端面の周方向の長さ以上である、請求項１に記載の円盤状ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記レーザ光を照射した後の前記外周端面の真円度が１５μｍ以下である、請求項１又は２に記載の円盤状ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記レーザ光の照射を終了した後の前記外周端面において、前記レーザ光の照射開始位置の径方向内側への凹みの深さが１５μｍ以下である、請求項１～３のいずれか一項に記載の円盤状ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記円盤状ガラス基板は、中央部に円孔を有する円環形状のガラス基板である、請求項１～４のいずれか一項に記載の円盤状ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１～５のいずれか一項に記載の製造方法により製造された円盤状ガラス基板の主表面を研磨することを少なくとも含む、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
円環状ガラス基板の製造方法であって、
主表面と、互いに同心である外周端面及び内周端面とを有する、円環状ガラス素板を準備することと、
前記円環状ガラス素板の前記内周端面に沿って１周を超えるようにレーザ光を照射することとを含む、円環状ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記レーザ光の照射開始位置から、前記レーザ光の照射終了位置までの、前記内周端面に沿う重複照射距離が、前記内周端面上における前記レーザ光のスポット径の、前記内周端面の周方向の長さ以上である、請求項７に記載の円環状ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記レーザ光を照射した後の前記内周端面の真円度が、１５μｍ以下である、請求項７又は８に記載の円環状ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項７～９のいずれか一項に記載の製造方法により製造された円環状ガラス基板の主表面を研磨することを少なくとも含む、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光を用いて形状を加工することを含む、円盤状ガラス基板の製造方法、円環状ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、並びに、円盤状ガラス基板、円環状ガラス基板、及び磁気ディスク用ガラス基板に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
今日、パーソナルコンピュータ、ノート型パーソナルコンピュータ、ＤＶＤ（ＤｉｇｉｔａｌＶｅｒｓａｔｉｌｅＤｉｓｃ）記録装置、あるいはクラウドコンピューティングのデータセンター等には、データを記録するためのハードディスク装置が用いられる。ハードディスク装置では、円環状の非磁性体の磁気ディスク用ガラス基板に磁性層が設けられた磁気ディスクが用いられる。
【０００３】
従来、このような磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス素板から円環状ガラス基板を割断し、円環状ガラス基板の内周端面及び外周端面にレーザ光を照射することにより、内周端面及び外周端面を滑面化するとともに、面取り面を形成する技術が知られている（特許文献１）。具体的には、円環状ガラス基板の内周端面及び外周端面にレーザ光を照射して、ガラスの軟化点以上の温度に加熱することにより、内周端面及び外周端面を溶融させる。これにより、内周端面及び外周端面が滑面化されるとともに、面取り面が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００２－１５０５４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記技術において、円環状ガラス基板の内周端面及び外周端面のそれぞれに沿ってレーザ光を１周照射すると、内周端面及び外周端面が滑面化され且つ面取り面が形成されるものの、円環状ガラス基板の内周端面及び／又は外周端面の真円度が悪化する（大きくなる）場合があった。そして、内周端面及び／又は外周端面における真円度が悪化した円環状ガラス基板を磁気ディスク用ガラス基板として用いる場合、高速回転時に空気の流れが乱れ、フラッタリングが発生する可能性が考えられる。
【０００６】
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、円盤状ガラス基板又は円環状ガラス基板の端面にレーザ光を照射することにより、円盤状ガラス基板又は円環状ガラス基板の端面の真円度を悪化させることなく、端面を滑面化するとともに面取り面を形成する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様に従えば、円盤状ガラス基板の製造方法であって、
主表面と、外周端面とを有する、円盤状ガラス素板を準備することと、
前記円盤状ガラス素板の前記外周端面に沿って１周を超えるようにレーザ光を照射することとを含む、円盤状ガラス基板の製造方法が提供される。
【０００８】
本発明の第１の態様に従う円盤状ガラス基板の製造方法において、前記レーザ光の照射開始位置から、前記レーザ光の照射終了位置までの、前記外周端面に沿う重複照射距離は、前記外周端面上における前記レーザ光のスポット径の、前記外周端面の周方向の長さ以上であってもよい。
【０００９】
本発明の第１の態様に従う円盤状ガラス基板の製造方法において、前記レーザ光を照射した後の前記外周端面の真円度は１５μｍ以下であってもよい。
【００１０】
本発明の第１の態様に従う円盤状ガラス基板の製造方法において、前記レーザ光の照射を終了した後の前記外周端面における、前記レーザ光の照射開始位置の径方向内側への凹みの深さは１５μｍ以下であってもよい。
（【００１１】以降は省略されています）

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